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下颌游离端可摘局部活动义齿的功能性取模方法分析

2020-12-04胡赛

医药前沿 2020年15期
关键词:取模基托印模

胡赛

(浙江大学医学院附属第四医院 浙江 义乌 322000)

文献中相关研究表明,为实现游离端义齿负荷的理想分布,有几点因素需在临床实践中加以重视。首先,基托与静态牙槽嵴黏膜必须满足面与面的吻合;其次,须保证牙槽嵴和基牙共同承受咀嚼时产生的压力;再者,还应满足基托和金属架、支持黏膜和支持牙在咀嚼力作用下保持一致的关系[2]。功能性印模的关键操作是制取印模时对牙槽嵴组织进行压迫,目的是在压力作用下义齿移动的同时不同组织均达到最大的下沉程度。目前还没有材料在取模时,能一次同时取得牙列的解剖外形及缺牙区黏膜在功能作用下的外形[3]。笔者就临床上常用的功能性印模方法进行阐述。

1.可摘部分义齿的功能性印模

步骤:制取普通印模——常规制作金属支架——利用义齿支架复位到人造石模型上制作暂时基板——于患者口内做基托边缘肌功能修整——暂基托上制作蜡堤,基托组织面加硅橡胶印模材料于患者口中正常咬合制取功能性印模,同时行颊舌肌的肌功能修整——切除原人造石模型的原游离端缺牙区部分,将暂时基托制取的功能性印模准确在其上进行复位,围模灌注。人造石二次灌制模型的颜色不同于余留牙模型颜色,待其结固后即与原模型吻合。由于该模式基本是在准确功能状态下获得,其颊侧前庭沟底和舌侧口底线便是最适合的义齿基板边缘线。——最终将支架上的暂时基板去除后便可以进一步制作义齿。这种方法步骤繁琐,费时多,技术要求高,在基层医院有局限。

2.改良二次印模法

步骤:藻酸盐制取普通印模并灌制人造石模型——在石膏模型上用蜡缓冲,无倒凹的前提下,去除承托区,缺牙区牙槽嵴顶,颊舌(腭)大部分区域的蜡片——用自凝塑料盖在用蜡缓冲的石膏模型上,制作个别托盘——打磨后口内试戴——于个别托盘背面缺牙区位置的对应低处制作蜡堤——二次取模这个方法改良和利用个别托盘,通过去除功能承托区的缓冲蜡片,实现对缺牙区牙槽嵴的首先接触加压,模拟义齿鞍基负荷时的效果。为实现功能性印模,需要做到蜡堤的制作最大程度地符合正常咬合状态。但是二次取模时,托盘的稳定把握非常需要患者的密切配合,对于初学者来说有一定的难度。

3.功能重衬印模技术

步骤:制取解剖式印模,下颌义齿按照常规步骤进行制作和试戴——下一步需要准备重衬间隙,在义齿游离端磨除部分组织面(约1.5mm),并且保持黏膜转折处比基托边缘长约2mm——印模膏烤软,放在基托组织面远中1/3位置,将义齿放入病人口中,用手指施压——在印模膏硬化后的支持力和基牙支持的共同作用下使得义齿稳定,之后再次进行调合——印模功能重衬及边缘塑形——去除远中位置的印模膏——将一薄层并且烫软的印模膏压在义齿游离端基托组织面上——修复体整体水浴加热后在病人口中就位,嘱患者正常咬合保证上下排牙接触——取出义齿,刮除额外的印模膏,水浴加热后重新放入病人口中,嘱其进行咀嚼运动和口唇的功能活动数分钟,最终完成印模——完成义齿重衬。

解剖式印模上常规制作义齿,义齿游离端组织面的功能重衬借助于印模膏。目前已知多种因素可对牙槽嵴的支持作用造成影响,但于咬合状态下制取的功能印模作为功能性印模技术的核心理念,能够为义齿基托提供更多的支持作用来减少下沉和其他的不良事件发生。

4.组合制作印模托盘技术[3]

适合用于张口度很小的病人。选择最小号的预成托盘,水胶体类印模材料取模——灌模——制作个性托盘——制作导向模型,便于后期复位托盘——锯开个性托盘——二次印模(红膏等印模材料+个性托盘进行边缘塑形,然后用硅橡胶弹性印模材料取模)——去除多余印模材料,将两部分托盘在导向模型上复位——围模灌注——得到工作模型后制作义齿

这种方法利用导向模型,不需要使用其他用来固定分块的印模托盘的装置,使印模托盘能够顺利戴入病人口中。同时灌模时将印模托盘和导向模型固定,这样灌出来的模型可以得到一定的准确性。

5.印模膏取模[4]

用红膏取模时在60 ~70℃热水中加热,待软化后进行塑性操作,置于缺牙区托盘中后放入患者口内按压就位。做肌功能修正,完成边缘整塑。之后的操作过程中需要使用刀片刮除印模膏,并且在欲缓冲的部位和牙槽嵴上义齿承托区位置刮除的要求不同,前者需要大量刮除,后者则不能刮除,该方法印模对组织产生的压力取决于红膏放置的位置和红膏的刮除量,操作难度系数较大,压力印模准确性较差,对操作者的要求较高。

6.结论

功能性印模技术的关键在于对余牙施加压力,一方面获得基牙的解剖形态,另一方面则是获得功能状态下牙槽嵴表面承托区的形态[5]。以此获得的模型由于是在压缩状态下形成,能够更加准确地反映出牙周膜、牙槽嵴黏膜和义齿周围肌及系带的功能活动状态,从而可有效降低义齿在外力作用下的下沉或者移位,增加其稳定性,提高下颌游离端可摘局部活动义齿的修复质量。

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