专利信息

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专利名称:无氧铜排生产工艺

专利申请号:2014101529578

公开号:CN 103921071 A

申请日:2014.04.16 公开日:2014.07.16

申请人:黄学志

本发明公开了一种无氧铜排生产工艺,包括生产铜合金步骤,加工成所需铜排型材步骤和最后加工成铜排成品的步骤.在生产铜合金步骤中,所述工频感应熔化炉和工频感应保温炉为合一的组合炉,工频感应熔化炉和工频感应保温炉的中间有隔断,隔断高度比组合炉的高度低；在工频感应熔化炉中混合均匀后的铜和添加剂熔融液高度超过隔断时,流入工频感应熔化炉,然后由结晶器引杆,生产铜合金.每个结晶器引杆由一个脉冲伺服电机驱动,保持引杆的独立、连续.本发明生产的无氧铜基合金和无氧铜排具有高强度、高导电率,弹性好,表面质量好,材料的利用率高.

专利名称:一种高性能钽靶材的制备方法

专利申请号:201210292279.6

公开号:CN 103028898 A

申请日:2012.08.16 公开日:2013.04.10

申请人:宁夏东方钽业股份有限公司

本发明涉及一种高性能钽靶材的制备方法.其特征是:先将钽锭采用冷锻结合热锻的方法制成锻造坯料,然后再采用热轧法进行轧制,最后校平,再根据成品尺寸下料、铣削和表面处理得到钽靶材.本发明采用冷锻结合热锻工艺对钽锭进行锻造,然后再采用热轧工艺对锻造坯料进行轧制,从而得到满足高端溅射基台使用要求的高性能钽靶材.该高性能钽靶材:第一,结晶均匀,晶粒尺寸在50～120 μm;第二,在靶材厚度方向获得<100>织构占优的织构组分(所占比例在50% 以上),并且在厚度方向均匀一致.与普通钽靶材相比较,高性能钽靶材不但实现了靶材厚度方向<100>织构达到50%以上的织构组分,而且对织构均匀性也提出了更高的要求,从而确保了在使用中溅射速率的一致.

专利名称:半导体装置及其制造方法

专利申请号:2011800747419

公开号:CN 103918078 A

申请日:2011.11.09 公开日:2014.07.09

申请人:龟山悟

本发明提供了一种半导体装置,其在同一半导体基板上形成有二极管区和绝缘栅双极性晶体管区.在该半导体装置中,二极管区具备第二导电型的阴极层.阴极层的第二导电型的杂质浓度分布成至少具有两个以上的峰值的曲线状,在阴极层的任意深度,第二导电型的杂质浓度均高于第一导电型的杂质浓度.

专利名称:U形槽铝

专利申请号:201220576917.2

公开号:CN 202868287 U

申请日:2012.11.05 公开日:2013.04.10

申请人:无锡市风云铝业有限公司

本实用新型提供一种U形槽铝,U形槽铝具有外边框和内边框,外边框与内边框形成凹槽,U形槽铝的截面呈h形,U形槽铝内外边框形成的凹槽两侧壁的内壁设有吸水层；吸水层的材质为吸水纤维,该吸水纤维具有一定的硬度;吸水层与U形槽铝为分体式结构,在U形槽铝安装好玻璃后,吸水层可从U形槽铝上拆卸.本实用新型涉及的这种U形槽铝,结构简单,能够有效解决或缓解夹层玻璃的进水问题.

专利名称:一种镁合金表面仿铜仿金的工艺方法

专利申请号:2014101813767

公开号:CN 103924232 A

申请日:2014.04.30 公开日:2014.07.16

申请人:中南大学

一种镁合金表面仿铜仿金的工艺方法,将研磨抛光或拉丝处理后的镁合金浸入钝化溶液中进行钝化着色.所述钝化液为水或含有至少一种正磷酸盐的水溶液,在80～100 ℃保温2～10 h后,用无色透明的水性树脂封孔,然后在120～260 ℃烘烤.本发明获得的镁合金最终具有铜或金的光泽和质感,耐腐蚀和抗霉菌性较好.本发明工艺合理、流程简单、成本低廉、生产过程安全、效率高、无酸性废液排放、无需特殊设备,钝化着色液无污染、无毒性,过程环保,所得产品外观漂亮,具有金属的光泽和质感,拥有较高的耐腐蚀性和抗霉菌性,具有良好的应用前景.

(陈伟文供稿)