双平面研磨Si3N4 圆柱滚子的表面质量

黄贺利 李颂华 吴玉厚 孙健 王鹏飞 赵梓辰

摘要 为获得双平面研磨Si3N4 圆柱滚子的最佳工艺参数组合，采用正交试验法，探究研磨盘转速、研磨压力和磨粒基本颗粒尺寸对其表面质量和去除效率的影响规律，并以工件的表面粗糙度和材料去除效率作为研磨最佳工艺参数的优选依据。结果表明：随着研磨盘转速和研磨压力的增大，工件表面粗糙度先减小后增大；且磨粒基本颗粒尺寸和工件表面粗糙度、研磨盘转速和研磨压力和去除效率均呈正相关。Si3N4 圆柱滚子研磨的最佳工艺参数组合是金刚石磨粒基本颗粒尺寸为2.6 μm、研磨盘转速为20 r/min、研磨压力为0.15 MPa；在此最优参数下，可获得表面粗糙度为0.048 6 μm、材料去除效率为1.20 μm/min 的光滑无损伤Si3N4 圆柱滚子。

关键词 双平面研磨；Si3N4 圆柱滚子；表面粗糙度；去除效率

中圖分类号 TG58; TQ164 文献标志码 A文章编号 1006-852X（2023）03-0371-08

DOI 码 10.13394/j.cnki.jgszz.2022.0165

收稿日期 2022-09-29 修回日期 2022-12-05