光学球罩抛光运动轨迹均匀性模拟分析

王伟明 李震 李庆忠

摘要 为提高球罩表面的加工质量、加工效率，减少成本浪费，研究磨粒抛光过程中各运动参数对光学球罩表面材料去除均匀性的影响。以离散系数为评价指标，依据相对运动与向量法建立单颗磨粒运动轨迹模型。采用三角形网格对正二十面体表面进行迭代划分，统计各三角网格中的轨迹点数，用轨迹点数来表征抛光次数。结果表明：转速比对磨粒轨迹的分布与材料去除影响显著；相同转速比下，增大抛光头半径，离散系数逐渐降低，球罩表面材料去除均匀性由差变好；增大摆速，轨迹的长度与密度逐渐减小，离散系数随之变大，球罩表面非均匀性增强；磨粒初始相位改变对轨迹均匀性基本无影响。

關键词 光学球罩；磨粒轨迹；网格划分；离散系数；均匀性

中图分类号 TG73；TH161 文献标志码 A文章编号 1006-852X（2023）03-0386-06

DOI 码 10.13394/j.cnki.jgszz.2022.0120

收稿日期 2022-08-05 修回日期 2022-10-06