化工标准化动态

2022年1月以来实施的含硅系列标准（二）

18）GB/T 40279－2021《硅片表面薄膜厚度的测试光学反射法》。规定了采用光学反射法测试硅片表面二氧化硅薄膜、多晶硅薄膜厚度的方法。适用于测试硅片表面生长的二氧化硅薄膜和多晶硅薄膜的厚度，也适用于所有光滑的、透明或半透明的、低吸收系数的薄膜厚度的测试，如非晶硅、氮化硅、类金刚石镀膜、光刻胶等表面薄膜。测试厚度为15～105nm。

19）GB/T 40323－2021《纺织染整助剂产品中八甲基环四硅氧烷（D4）、十甲基环五硅氧烷（D5）和十二甲基环六硅氧烷（D6）的测定》。规定了纺织染整助剂产品中八甲基环四硅氧烷、十甲基环五硅氧烷、十二甲基环六硅氧烷的测定方法。适用于纺织染整助剂产品中八甲基环四硅氧烷、十甲基环五硅氧烷、十二甲基环六硅氧烷的测定。

20）GB/T 40407－2021《硅酸盐水泥熟料矿相X 射线衍射分析方法》。规定了硅酸盐水泥熟料矿相X射线衍射分析方法的原理、X 射线衍射仪的校准和定量分析程序的确认、测定步骤和报告。适用于测定硅酸盐水泥熟料中各矿相，包括阿利特（硅酸三钙，C3S）、贝利特（硅酸二钙C2S）、铝酸盐（铝酸三钙，C3A）、铁铝酸盐（铁铝酸四钙，C4AF），也可以测定水泥中的方镁石（氧化镁，MgO）、钾芒硝（硫酸钾）、半水石膏（半水硫酸钙）、无水石膏（硫酸钙）和方解石（碳酸钙）。

21）GB/T 40540－2021《航天器用导热硅脂规范》。规定了航天器用导热硅脂的技术要求、检验方法、检验规则、包装和标志、运输和贮存。适用于航天器用导热硅脂（以下简称导热硅脂）的检验、交收和使用。

22）GB/T 40561－2021《光伏硅材料氧含量的测定脉冲加热惰性气体熔融红外吸收法》。描述了用脉冲加热惰性气体熔融红外吸收法测定光伏硅材料中氧含量的方法。适用于生产多晶硅的原料硅粉、工业硅、颗粒多晶硅等光伏硅材料中氧含量的测定，测定质量分数0.001 0%～0.40%。其他生产光伏组件的各类晶体硅材料参照使用。

23）GB/T 40566－2021《流化床法颗粒硅氢含量的测定脉冲加热惰性气体熔融红外吸收法》。描述了用脉冲加热惰性气体熔融红外吸收法测定颗粒硅中氢含量的方法。适用于流化床法颗粒硅中氢含量的测定，其他硅材料参照使用。

24）GB/T 40738－2021《熔模铸造硅溶胶快速制壳工艺规范》。规定了熔模铸造硅溶胶快速制壳所用原辅材料，快速制壳工艺技术要求，检验与检测方法。适用于熔模铸造硅溶胶快速制壳原辅材料的选择、工艺制定与过程控制。

25）GB 40877－2021《硅酸铝纤维及制品单位产品能源消耗限额》。规定了硅酸铝纤维及制品单位产品能源消耗限额的能耗限额等级、技术要求、统计范围和计算方法。适用于硅酸铝纤维及制品能耗的计算、考核，以及对新（改、扩）建项目的能耗控制。

26）GB/T 40909－2021《纺织品甲基环硅氧烷残留量的测定》。描述了采用气相色谱-质谱联用仪（GC-MS）测定纺织品中八甲基环四硅氧烷（D4）、十甲基环五硅氧烷（D5）和十二甲基环六硅氧烷（D6）残留量的试验方法。

27）GB/T 40915－2021《X 射线荧光光谱法测定钠钙硅玻璃中SiO2、Al2O3、Fe2O3、K2O、Na2O、CaO、MgO 含量》。描述了钠钙硅玻璃中SiO2、Al2O3、Fe2O3、K2O、Na2O、CaO、MgO含量的X 射线荧光光谱测定方法。适用于钠钙硅玻璃中SiO2、Al2O3、Fe2O3、K2O、Na2O、CaO、MgO含量的测定。

28）GB/T 40955－2021《化妆品中八甲基环四硅氧烷（D4）和十甲基环五硅氧烷（D5）的测定气相色谱法》。规定了气相色谱法测定化妆品中八甲基环四硅氧烷（D4）和十甲基环五硅氧烷（D5）的原理、试剂和材料、仪器设备、测定步骤、结果计算、回收率与精密度、允许差。适用于水剂、乳液、膏霜（蜡基类除外）驻留类和淋洗类化妆品中八甲基环四硅氧烷（D4）和十甲基环五硅氧烷（D5）的测定。

29）GB/T 41153－2021《碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定二次离子质谱法》。规定了碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的二次离子质谱测试方法。适用于碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的定量分析，测定范围为硼含量不小于5×1013cm-3、铝含量不小于5×1013cm-3、氮含量不小于5×1015cm-3，元素原子分数不大于1%。

30）GB/T 41322－2022《硬质合金钴粉中硅量的测定分光光度法》。规定了分光光度法测定钴粉中硅量的方法，硅的质量分数为5～300 μg/g。

31）GB/T 41325－2022《集成电路用低密度晶体原生凹坑硅单晶抛光片》。规定了低密度晶体原生凹坑硅单晶抛光片（以下简称Low-COP抛光片）的技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、运输、贮存、随行文件及订货单内容。适用于对晶体原生凹坑敏感的集成电路用直径为200 mm和300 mm、晶向<100>、电阻率0.1～100 Ω·cm 的Low-COP抛光片。

32）GB/T 41490－2022《氮化硅陶瓷室温下滚动接触疲劳试验方法球板法》。描述了在室温下对氮化硅陶瓷球逐步加载进行滚动接触疲劳试验的方法。适用于滚动体材料接触疲劳性能的评价，或为恒定载荷滚动接触疲劳试验确定试验载荷。

33）GB/T 41497－2022《钒铁 钒、硅、磷、锰、铝、铁含量的测定波长色散X射线荧光光谱法》。描述了用波长色散X射线荧光光谱法测定钒铁中钒、硅、磷、锰、铝、铁的含量。适用于分析钒铁中钒、硅、磷、锰、铝、铁含量的测定。

34）GB/T 41593－2022《挤出硅树脂管》。规定了挤出硅树脂管的技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输和贮存。本文件适用于挤出硅树脂管。

35）GB/T 41605－2022《滚动轴承球用氮化硅材料室温压痕断裂阻力试验方法压痕法》。规定了在室温下用压痕法（Indentation Fracture，IF）测试氮化硅陶瓷轴承球断裂阻力的试验方法。适用于轴承球用氮化硅材料。

36）GB/T 41652－2022《刻蚀机用硅电极及硅环》。规定了刻蚀机用硅电极及硅环的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存和随行文件以及订货单内容。适用于p<100>直拉硅单晶加工成的刻蚀机用直径200～450 mm的硅电极及硅环。

37）GB/T 41736－2022《高体积分数碳化硅颗粒铝基复合材料》。规定了高体积分数碳化硅颗粒铝基复合材料的分类和标记、技术要求、试验方法、检验规则以及包装、运输、贮存和标志。适用于精密仪器、电子元器件制造用高体积分数碳化硅颗粒铝基复合材料。

38）GB/T 41737－2022《铝基复合材料碳化硅体积分数试验方法溶解法》。描述了测定碳化硅颗粒、晶须和纤维增强铝基复合材料中碳化硅颗粒、晶须和纤维体积分数的方法原理、试剂、仪器与设备、分析步骤、结果计算方法以及试验报告。适用于增强体粒径大于3 μm的颗粒增强或直径大于3 μm 的晶须和纤维增强铝基复合材料中的碳化硅颗粒、晶须和纤维体积分数测定。

39）GB/T 41765－2022《碳化硅单晶位错密度的测试方法》。规定了碳化硅单晶位错密度的测试方法。适用于晶面偏离{0001}面、偏向<1120>方向0°～8°的碳化硅单晶位错密度的测试。

40）GB/T 41938－2022《橡胶配合剂 沉淀水合二氧化硅在溶聚丁苯橡胶（S-SBR）和丁二烯橡胶（BR）混合物中的评价方法》。规定了橡胶配合剂沉淀水合二氧化硅在溶聚丁苯橡胶和丁二烯橡胶混合物中物理性能测试所需的试验配方、设备、步骤和评价方法。适用于橡胶配合剂沉淀水合二氧化硅。

41）GB/T 4209－2022《工业硅酸钠》。规定了工业硅酸钠的分类和编码、要求、试验方法、检验规则、标志、标签、包装、运输、贮存。适用于工业固体硅酸钠和工业液体硅酸钠。

42）GB/T 42263－2022《硅单晶中氮含量的测定二次离子质谱法》。描述了硅单晶中氮含量的二次离子质谱测试方法。适用于硼、锑、砷、磷的掺杂含量小于1×1020cm-3（0.2%）的硅单晶中氮含量的测定，测定含量不小于1×1014cm-3。注：硅单晶中氮含量以每立方厘米中的原子数计。

43）GB/T 42271－2022《半绝缘碳化硅单晶的电阻率非接触测试方法》。描述了半绝缘碳化硅单晶的电阻率非接触测试方法。适用于测量电阻率为1×105～1×1012Ω·cm 的半绝缘碳化硅单晶片。

44）GB/T 42276－2022《氮化硅粉体中氟离子和氯离子含量的测定离子色谱法》。描述了氮化硅粉体中氟离子和氯离子含量的离子色谱测定方法。适用于氮化硅粉体中氟离子和氯离子质量分数0.0500～0.600 mg/g的测定。

45）GB/T 4333.8－2022《硅铁钙含量的测定火焰原子吸收光谱法》。规定了变形镁合金显微组织检验的试验溶液、试样制备、试样浸蚀、组织检验、晶粒尺寸测定方法和试验报告内容。适用于变形镁合金铸锭（或锭坯)及加工制品显微组织的检验。

46）GB/T 5686.1－2022《锰铁、锰硅合金、氮化锰铁和金属锰锰含量的测定电位滴定法、硝酸铵氧化滴定法及高氯酸氧化滴定法》。描述了采用电位滴定法、硝酸铵氧化滴定法和高氯酸氧化滴定法测定锰铁、锰硅合金、氮化锰铁及金属锰中的锰含量的方法。适用于锰铁、锰硅合金、氮化锰铁及金属锰中锰含量的测定，测定质量分数50.00%～98.00%。方法1 不适用于铬、钒的质量分数大于0.4%的锰铁、锰硅合金、氮化锰铁及金属锰中锰含量的测定。

47）GB/T 5686.2－2022《锰铁、锰硅合金、氮化锰铁和金属锰硅含量的测定钼蓝分光光度法、氟硅酸钾滴定法和高氯酸重量法》。规定了采用钼蓝分光光度法、氟硅酸钾滴定法和高氯酸重量法测定锰铁、锰硅合金、微低碳锰硅合金、氮化锰铁和金属锰中的硅含量。适用于锰铁、锰硅合金、微低碳锰硅合金、氮化锰铁和金属锰中硅含量的测定。测定质量分数0.10%～40.00%。方法1：钼蓝分光光度法，适用于金属锰中硅含量的测定，测定质量分数0.10%～2.00%；方法2：氟硅酸钾滴定法，适用于锰硅合金、微低碳锰硅合金中硅含量的测定，测定质量分数12.00%～40.00%；方法3：高氯酸重量法，适用于锰铁、锰硅合金、微低碳锰硅合金、氮化锰铁、金属锰中硅含量的测定，测定质量分数0.50%～40.00%。

48）GB/T 5686.4－2022《锰铁、锰硅合金、氮化锰铁和金属锰磷含量的测定钼蓝分光光度法和铋磷钼蓝分光光度法》。描述了采用钼蓝分光光度法和铋磷钼蓝分光光度法测定锰铁、锰硅合金、氮化锰铁和金属锰中的磷含量的方法。适用于锰铁、锰硅合金、氮化锰铁和金属锰中磷含量的测定。测定质量分数0.003 0%～0.650%。方法1：钼蓝分光光度法，适用于锰铁、锰硅合金、氮化锰铁和金属锰中磷含量的测定，测定质量分数0.003 0%～0.450%；方法2：铋磷钼蓝分光光度法，适用于锰铁、锰硅合金、氮化锰铁和金属锰中磷含量的测定，测定质量分数0.003 0%～0.650%。