微种植体支抗不同植入部位推上颌磨牙远移的稳定性及对软组织侧貌美学的影响

谢 琦，陈 宇，史克佳

（廊坊市人民医院口腔科 河北 廊坊 065000）

正畸矫治的最终目标是达到口颌系统的平衡及稳定，改善美观。推磨牙远移是近年来临床的热门话题，是经典的非拔牙矫治方法之一[1]。对于非拔牙不完全Ⅱ类磨牙关系患者，口外矫治装置的施力为间断力，磨牙带环容易脱落，单纯使用难以实现磨牙远移，且对于依从性较差的患儿，更加难以保证矫治效果[2]。成功的矫治需要稳固的支抗作为前提，若得不到很好的支抗作用，不但磨牙远移困难，还能引起前牙向唇侧移动而使前牙覆盖增大，甚至影响美观[3]。MIA是一种新型支抗系统，支抗效果稳定，在压低前牙及磨牙、纠正牙合平面及全牙列远移等方面发挥重要作用[4-5]，本研究旨在探讨MIA不同植入部位推上颌磨牙远移的稳定性及对软组织侧貌美学的影响，现报道如下。

1 资料和方法

1.1 一般资料：选择2018年1月-2020年12月笔者医院收治的90例非拔牙不完全Ⅱ类磨牙关系患者，其中男55例，女35例，年龄13～15岁，平均(14.18±0.60)岁。采用非拔牙矫治方案，上颌改良腭弓联合MIA推磨牙远移。按照随机数字表法将90例患者分为腭侧组与颊侧组，每组45例；腭侧组男27例，女18例，年龄13～15岁，平均(13.87±0.46)岁；颊侧组男2 8 例，女1 7 例，年龄1 3 ～1 5 岁，平均(14.30±0.55)岁。两组患者性别比、年龄比较差异均无统计学意义(P＞0.05)，具有可比性。本研究经医院医学伦理委员会审查，患者家属均知情同意。

1.2 纳入标准：恒牙列下颌平面角为均角。

1.3 排除标准：正颌手术及其他口腔系统疾病患者。

1.4 方法

1.4.1 腭侧组：于患者上颌双侧第二前磨牙与第一磨牙之间腭侧间龈缘龈方约8 mm处各植入1枚微种植钉(美国Ormco VectorTAS 种植支抗钉，国械进注20173631800，规格：1.6 mm×10 mm)，垂直骨面植入。

1.4.2 颊侧组：于患者上颌双侧第一、二磨牙之间颊侧膜龈联合以下附着龈约2 mm处各植入1枚微种植钉(美国Ormco VectorTAS 种植支抗钉，国械进注20173631800，规格：11.6 mm×10 mm)，呈60°向牙根方向植入。

上颌改良腭弓联合M I A，即刻弹性牵引进行加力(150～200 g)。均由同一正畸医生团队进行操作。

1.5 观察指标：①于植入6个月后测量两组患者的第一磨牙远移距离，拍摄患者头颅X线定位侧位片，采用Wylie分析法测量植入前及植入6个月后翼上颌裂-上颌第一恒磨牙的距离(Ptm-U6)：翼上颌裂点(Ptm)与上颌第一恒磨牙近中颊沟在FH平面垂足间距离。植入前与植入6个月后Ptm-U6的差值为第一磨牙远移距离；②植入6个月后，观察两组的种植钉松动情况；③于植入前及植入6个月后，采用X线头影测量两组患者的软组织侧貌美学参数，包括面型角（G-Pn-Pos）、鼻唇角（Cm-Sn-ULA）、上唇突度（ULA-E距）及下唇突度（B′-H距），见图1。

图1 软组织侧貌美学测量指标

1.6 统计学分析：采用SPSS 22.0统计学软件进行数据分析；计量资料以（±s）表示，两两比较采用t检验；计数资料以[例(%)]表示，比较采用χ2检验；P＜0.05为差异存在统计学意义。

2 结果

2.1 两组第一磨牙远移距离比较：植入6个月后，两组Ptm-U6均较植入前明显降低，腭侧组明显低于颊侧组；腭侧组的第一磨牙远移距离明显高于颊侧组，差异均有统计学意义(P＜0.05)。见表1。

表1 两组第一磨牙远移距离比较 （±s，mm）

表1 两组第一磨牙远移距离比较 （±s，mm）

注：*表示与植入前比较，P＜0.05。

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2.2 两组种植钉松动率比较：腭侧组出现种植钉松动14枚，松动率为15.56%；颊侧组出现种植钉松动21枚，松动率为23.33%；腭侧组的种植钉松动率明显低于颊侧组，差异有统计学意义(P＜0.05)。见表2。

表2 两组种植钉松动率比较 （例，±s）

表2 两组种植钉松动率比较 （例，±s）

组别 例数 种植钉总数/枚 种植钉松动数/枚 种植钉松动率/%腭侧组 45 90 14 15.56颊侧组 45 90 21 23.33 χ2值 7.849 P值 0.035

2.2 两组软组织侧貌美学参数比较：植入前，两组各参数比较，差异无统计学意义(P＞0.05)。植入6个月后，两组下唇突度较植入前无明显变化(P＞0.05)；两组的面型角、上唇突度较植入前明显降低(P＜0.05)，但两组之间比较差异无统计学意义(P＞0.05)；两组的鼻唇角较植入前明显增高(P＜0.05)，腭侧组明显高于颊侧组(P＜0.05)。见表3。

表3 两组软组织侧貌美学参数比较 （例，±s）

表3 两组软组织侧貌美学参数比较 （例，±s）

注：a表示与植入前比较，P＜0.05。

2.3 典型病例

2.3.1 典型病例1：某女，12岁，不完全Ⅱ类磨牙关系，于上颌双侧第二前磨牙与第一磨牙之间腭侧间龈缘龈方约8 mm处各植入1枚1.6 mm×10 mm的微种植钉，上颌改良腭弓联合MIA。6个月后，第一磨牙远移距离3.2 mm，面型角8.1°，鼻唇角85.7°，上唇突度7.1 mm，下唇突度6.1 mm，无种植钉松动。见图2。

图2 腭侧组典型病例治疗前后图像

2.3.2 典型病例2：某男，8岁，不完全Ⅱ类磨牙关系，于第一、二磨牙之间颊侧膜龈联合以下附着龈约2 mm处各植入1枚1.6 mm×10 mm的微种植钉，上颌改良腭弓联合MIA。6个月后，第一磨牙远移距离2.4 mm，面型角8.0°，鼻唇角80.6°，上唇突度7.3 mm，下唇突度6.2 mm。见图3。

图3 颊侧组典型病例治疗前后图像

3 讨论

MIA作为一种绝对支抗游离于牙列外，配合矫治装置能起到很好的推上颌磨牙远移效果，起效快，患者的依从性高。MIA种植钉的稳定性是影响推磨牙远移效果的主要因素之一，而影响MIA种植钉稳定性的因素也较多[6]。彭绍斌等[7]研究显示不同植入部位种植支抗的稳定性存在差异。以往研究证实[8-9]，皮质骨厚度及密度是影响MIA种植钉稳定性的重要因素；本研究中的上颌第二前磨牙与第一磨牙之间腭侧与第一、二磨牙之间颊侧位置，皮质骨密度均较高，能够保证种植钉与骨的有效结合，提高了种植钉的稳定性。本研究中，腭侧组中90枚种植钉，14枚(15.56%)出现松动，颊侧组90枚种植钉，21枚(23.33%)出现松动，腭侧组明显低于颊侧组。分析原因是种植钉在上颌腭侧的植入区域比较宽，硬腭上皮下为致密的结缔组织，比较容易清洁，不容易产生由病原微生物积累导致的感染；而颊侧黏膜处的位置在口腔前庭褶皱处，清洁较为困难，对于口腔卫生较差的患者，容易发生感染，而导致种植钉出现脱落[10]。

上颌推磨牙远移能解除拥挤，改善前突，建立前牙正常覆牙合覆盖及尖牙磨牙中性关系。程鑫燚等[11]的研究表明，MIA辅助无托槽隐形矫治器远移磨牙可以有效增强支抗作用，是比较理想的支抗手段。许志强等[12]的研究显示，MIA配合无托槽隐形矫治能通过磨牙远移，起到解除拥挤并排齐牙列的效果。翟俊辉[13]等的研究发现，MIA是解除不拔牙Ⅱ类关系患者牙列拥挤，矫治上颌牙齿前突的强支抗手段。本研究中，腭侧组的第一磨牙远移距离明显大于颊侧组，是由于本研究采用上颌改良腭弓联合MIA的方法，上颌改良腭弓是连接于上颌两侧第一磨牙腭侧，通过MIA作用于上颌改良腭弓的牵引作用，施力于第一磨牙，起到推上颌磨牙远移动的效果，对不完全远中关系进行改善；而分析上颌两侧第一、二磨牙间颊侧黏膜处植入种植钉的磨牙远移量较少的原因是，由于作用于整个牙弓，且由于种植钉作用点有垂直向上分力的原因，磨牙远中移动的分力较弱，故疗效低于MIA腭侧植入[14]；颊侧植入种植钉的稳定性较差也是其推磨牙远移效果降低的重要因素。磨牙远移距离能直接影响患者的软组织侧貌美观。彭梦霞[15]等的研究显示，安氏Ⅱ1类错牙合患者的侧貌突度、上下唇突度与垂直骨面型、上下切牙倾斜度之间存在密切关系。周志捷等[16]研究发现，唇突度受到切牙矢状向变化的影响比较大，且下唇矢状向及垂直向移动与上中切牙位置存在密切关系。吴泽琳[17]的研究显示，上颌第一磨牙颊侧骨皮质区植入MIA推磨牙远移的效果好，面型角、鼻唇角、上唇突度改善幅度明显优于上颌第一前磨牙和第一磨牙牙根之间植入MIA。本研究中，植入6个月后，两组的面型角及上唇突度明显降低，鼻唇角明显增高，腭侧组鼻唇角的改善幅度明显优于颊侧组，提示腭侧与颊侧植入MIA对软组织侧貌的美学效果均较好，而腭侧植入MIA的美学效果更优，可能与第一磨牙远移距离及种植钉的稳定性有关。

综上所述，MIA腭侧植入推上颌磨牙远移的疗效明显，种植钉稳定性强，软组织侧貌美学效果好，优于颊侧植入。今后我们将扩大样本量探讨MIA对不同性别、不同年龄患者上颌磨牙远移效果，对磨牙远移的复发性进行研究。