成人骨性Ⅱ类错牙合畸形患者上颌磨牙后间隙的测量研究

马 静，张 俊，陈 琦，赵 恬，雍 敏

骨性Ⅱ类错牙合畸形在正畸临床中较为常见，患者前牙可表现为深覆牙合、深覆盖等[1]。临床中因成年患者无法通过矫形力进行治疗，故对于轻中度成人骨性Ⅱ类错牙合患者可通过矫治牙齿来掩饰骨性不调达到治疗目标[2]。正畸掩饰性治疗可通过拔牙矫治或非拔牙矫治来实现，对此类患者来说，非拔牙矫治方法中推上颌磨牙向远中是最为常见的一种[3]。临床中可采用不同的方法来实现推磨牙向远中，比如摆式矫治器、微螺钉种植体支抗、无托槽隐形矫治器等。牙列远中移动需要考虑到磨牙后区间隙的长度、宽度及高度等因素。本研究旨在对成人骨性Ⅱ类不同垂直骨面型上颌第二磨牙后间隙的长度、宽度及高度进行分析，以期在临床中提供参考。

1 资料与方法

1.1 一般资料：选取2017年10月至2019年10月就诊于口腔正畸科并拍摄锥形束CT(CBCT)影像的患者60例为研究对象，其中男28例，女32例，平均年龄(25.48±3.43)岁。随机分为高角组、均角组、低角组，每组各20例。3组患者性别、年龄等基本资料比较差异无统计学意义(P>0.05)。

1.2 纳入标准：①年龄≥20岁，恒牙列、牙列完整，除第三磨牙外无缺失牙；②上牙槽座点、鼻根点与下牙槽座点构成的角(ANB)>4.7°[4]；③牙弓中后段排列较为整齐，无严重扭转及过大或过小牙；④无牙周炎，牙槽骨水平高于上颌磨牙根分叉；⑤无上颌第三磨牙拔除史，无系统性及全身性疾病史；⑥无严重的先天颅颌面畸形，无正畸或正颌手术治疗史，CBCT数字图像清晰，无重影，图像完整[5-6]。

1.3 分类：按中国人正常牙合Steiner分析法,通过下颌平面角(GoGn-SN)值及后面高与前面高之比(S-Go/N-Me)值对垂直骨型进行分类。①高角组，GoGn-SN>37.7°，S-Go/N-Me<62%；②均角组，27.3°≤GoGn-SN≤37.7°，62%≤S-Go/N-Me≤68%；③低角组，GoGn-SN<27.3°，S-Go/N-Me>68%[7]。

1.4 研究方法：患者均拍摄CBCT(KaVo 3D eXam5 mA 120 kVP)，将影像资料以DICOM 格式导入三维测量软件Invivo Dental 5进行三维重建后分别测量。①上颌磨牙后间隙长度(RL)(mm)，上颌结节远中最凸点与上颌第二磨牙远中最凸点投影到牙合平面两点之间的距离[5]。②上颌磨牙后间隙宽度(RW)(mm)，矢状切面切至平分上颌结节处，冠状切面切至第二磨牙牙冠远中最凸点，横断切面切至上颌结节远中最凸点，测量此时上颌结节的宽度[5]。③上颌磨牙后间隙高度(RH)(mm)，矢状切面切至平分上颌结节处，冠状切面切至第二磨牙牙冠远中最凸点，测量此时上颌第二磨牙远中最凸点到上颌牙槽骨的投影点到牙合平面的距离[5]。④牙合平面[8]，于重建后的三维影像上定出上下第一恒磨牙咬合中点及上中切牙切缘点，三点构成的平面。

1.5 观察测量指标：测量在2个月内完成，每一个测量项目连续测量3次取其平均值。观察患者上颌磨牙后间隙RL、上颌磨牙后间隙RW、上颌磨牙后间隙RH。

2 结果

2.1 2组患者左右侧数据分析比较:对同一测量项目所有左右侧的测量数值进行配对t检验，其差异无统计学意义 (P>0.05)，故可将所有的左右侧测量值合并分析，见表1。

表1 60例患者左右侧RL、RW、RH数据比较

2.2 有第三磨牙组与第三磨牙缺失组各测量值比较:对有第三磨牙组与第三磨牙缺失组RL、RW、RH数据进行分析，有第三磨牙组上颌磨牙后间隙的RL、RW、RH均大于第三磨牙缺失组，差异具有统计学意义(P<0.05)，见表2。

表2 2组患者RL、RW、RH测量值比较

2.3 不同垂直骨面型各测量值比较:对实验组三种垂直骨面型的测量值两两对比分析结果显示，低角组RW值大于高角组，差异具有统计学意义(P<0.05)，见表3。

表3 不同垂直骨面型各测量值比较

3 讨论

3.1 影响磨牙后间隙的相关因素

3.1.1 第三磨牙测量值： 本研究结果显示，有第三磨牙组上颌磨牙后间隙的长度、宽度、高度均大于第三磨牙缺失组。郭鑫[8]等学者对上颌第三磨牙拔除与第三磨牙缺失患者上颌磨牙后间隙进行了对比研究，结果显示第三磨牙拔除组的磨牙后间隙的长度较缺失组长，得出第三磨牙对上颌结节的生长具有一定的促进作用，与本研究结果一致。

3.1.2 不同垂直及矢状骨面型：不同的垂直骨面型及矢状骨面型有不同的颌骨结构特点。NADINE等[9]学者对骨性Ⅱ类错牙合患者不同垂直骨面型上下颌骨特点进行了研究，得出相对于均角及低角组，高角组的后部牙槽骨垂直生长更为明显，下颌骨处于更后缩的位置且下颌体的长度较短。刘莉萍[10]等对平均生长型的骨性Ⅱ类与骨性Ⅰ类患者上颌磨牙后间隙进行了对比研究结果显示，骨性Ⅱ类患者上颌磨牙后间隙有更大的间隙供磨牙远中移动。但对于骨性Ⅱ类患者不同垂直骨面型上颌磨牙后间隙形态特点的研究并未发现相关报道。本研究结果显示，上颌磨牙后间隙宽度低角组大于高角组，其原因可能与高角及低角患者的颌骨结构特点有关，高角患者临床中表现为垂直向发育过度，面下1/3较长，咀嚼肌力较弱等特点；而低角患者则表现为垂直向发育不足，面下1/3较短，下面高与全面高比值较小，咀嚼肌力较强，较强的咀嚼肌力及垂直向发育不足使得上颌磨牙后间隙宽度增加。

3.2 正畸临床中对磨牙后间隙的利用:随着正畸技术及支抗的研究发展，推磨牙向远中的方法也越来越多样化。目前临床中常用的推磨牙向远中的方法主要有摆式矫治器、种植体支抗及无托槽隐形矫治器等[11]。与传统支抗相比较，种植体支抗具有可提供较强支抗、舒适等优点，使其在正畸临床中应用越来越广泛[12]。RAGHIS[13]等学者为了评估种植体支抗在推上颌牙列向远中的效果及稳定性，得出采用种植体支抗的治疗效果及稳定性良好。无托槽隐形矫治技术因其具有舒适、美观等优点，受到越来越多患者及医生的青睐。SAIF[14]等的研究表明，无托槽隐形矫治技术平均可获得2.6 mm的磨牙远中移动量。

综上所述，骨性Ⅱ类低角组患者其上颌磨牙后间隙宽度大于高角组，提示低角患者磨牙后间隙更有利于推磨牙向远中。但本研究的样本数量有限，且推磨牙向远中与牙根长短、骨质密度、牙齿的转矩等因素均密切相关，故还需要进一步的研究。同时，第三磨牙对磨牙后间隙的生长具有一定的促进作用，在可采取上颌推磨牙向远中的方案设计的患者，不可忽视对第三磨牙此间隙的影响。