微种植体植入不同部位治疗安氏二类错颌畸形疗效及美学效果观察*

田彦星，郝少英

(河北省邢台市第五医院口腔科，河北 邢台 054000)

上颌前突常表现为开唇露齿，侧貌前突，严重影响患者的美观及口腔功能[1]。矫治上颌前突成功的关键在于上前牙最大限度地内收。传统增强支抗的方法不仅制作工艺复杂，舒适度差，还依赖患者的配合。随着技术的发展，微种植体作为一种新的增强支抗的方式，受到了医生和患者的欢迎。其不仅体积小，不需要患者的配合，还可以提供强支抗。但是，微种植体植入的高度和角度不同，对前牙及磨牙移动的影响各个学者的说法却不一致。本研究旨植入不同高度的微种植体在增强支抗的前提下，观察上前牙及上磨牙的移动情况，评价软组织侧貌及标准微笑时的美学效果，以期更好地指导临床应用。

1 资料与方法

1.1一般资料 收集邢台市第五医院口腔科2014年至2019年门诊安氏二类Ⅰ分类错颌患者50例。纳入标准：恒牙合；上颌后牙区无拥挤，可植入微种植体，ANB角大于或等于5°，覆盖大于或等于6 mm下颌平面角为均角，侧貌显示上颌前突，开唇露齿。排除标准：全身系统疾病；长期服药史，外伤史，明显牙槽骨吸收及颞颌关节病，牙列缺损。在征得患者及家长同意，签署知情同意书，并经邢台市第五医院医学伦理委员会批准后，随机分为试验组和对照组。试验组中男10例，女15 例；年龄18～28 岁，平均(22.06±5.36)岁；对照组中男9 例，女16 例；年龄18～30岁，平均(21.25±4.95)岁。两组一般资料比较，差异均无统计学意义(P>0.05)。所有患者于治疗前、治疗后拍摄X线头颅侧位片，正侧位面相，口内片。

1.2方法

1.2.1矫治设计 两组均拔除上颌第一前磨牙和下颌第二前磨牙。使用MBT矫治技术进行矫正。试验组于上颌第一磨牙与第二前磨牙之间颊侧植入微种植体，植入高度为主弓丝龈向 9 mm。对照组于上颌第一磨牙与第二前磨牙之间颊侧植入微种植体，植入高度为主弓丝龈向5 mm。均使用高度为2 mm牵引钩进行牵引。

1.2.2矫治方法 全口牙列粘结MBT托槽及颊面管(美国3M公司)上颌第一磨牙与第二前磨牙之间植入微种植体，(苏州市康力骨科器械有限公司生产 PTⅢ 1.5 mm×8.0 mm)试验组植入高度为主弓丝龈向9 mm，对照组植入高度为主弓丝龈向5 mm。在排齐整平阶段，微种植体被动牵引上颌尖牙。排齐整平后，两组上下颌更换为0.482 6 cm×0.063 5 cm不锈钢方丝，微种植体用镍钛拉簧施力150 g于上颌侧切牙远中牵引钩，关闭拔牙间隙，下颌牙列排齐整平，调整磨牙关系。关闭间隙后进行咬合关系的调整。

1.2.3临床观察指标 以FH平面为基准平面，测量指标为U1-FH上中切牙与眶耳平面的下后角U1-S(mm)上中切牙的切缘到眶耳平面的垂线与蝶鞍点到眶耳平面垂线之间的距离。U1-SN角，U1-PP角 U1-PP距上中切牙切缘到腭平面的垂直距离，U6-PP上颌第一磨牙近中颊尖点到腭平面的垂直距离U6-S上颌第一磨牙近中颊尖点到眶耳平面垂足与蝶鞍点到眶耳平面垂线之间的距离。U6-PTM翼上颌裂点与上颌第一恒磨牙近中颊尖到FH平面的垂直距离。放松状态下侧面照测量鼻唇角，上唇到审美平面的距离，(UL-Z线，位于审美平面内侧为负值，外侧为正值)下唇到审美平面的距离的测量值(LL-Z线，位于审美平面内侧为负值，外侧为正值)，社交微笑时牙龈暴露程度(微笑时上唇下缘与上中切牙龈缘之间的距离，位于牙龈缘龈方为正，位于龈缘切方为负)。

2 结 果

2.1两组患者矫正前后前牙X线头影测量结果比较 矫正前两组前牙转矩、前牙垂直向距离比较，差异无统计学意义(P>0.05)。矫正后两组均有明显的内收，两组比较，差异无统计学意义(P>0.05)。试验组较关闭间隙前压低0.73 mm，转矩丢失6.4°。对照组较关闭间隙前伸长0.67 mm，转矩丢失13.63°，两组比较，差异有统计学意义(P<0.05)。见表1。

表1 治疗前后两组患者矫正前后前牙X线头影测量结果

2.2两组患者矫正前磨牙X线头影测量结果比较 矫正前两组磨牙垂直距离和矢状向位置比较，差异无统计学意义(P>0.05)。见表2。

表2 两组患者矫正前磨牙X 线头影测量结果

2.3两组患者矫正后磨牙X线头影测量结果比较 两组均有不同程度前移，试验组磨牙前移0.85 mm，对照组磨牙前移1.11 mm，对照组较试验组前移0.26 mm，但差异无统计学意义(P>0.05)。试验组上颌第一磨牙伸长0.71 mm，对照组上颌第一磨牙压低0.91 mm，但两组比较，差异无统计学意义(P>0.05)。见表3。

表3 两组患者矫正后磨牙X线头影测量结果

2.4两组患者矫正前软组织测量结果比较 矫正前两组软组织测量指标上均接近，两组比较,差异无统计学意义(P>0.05)。见表4。

表4 两组患者矫正前软组织测量结果

2.5两组患者矫正后软组织测量结果比较 矫正后鼻唇角角度均有增加，UL-Z线，LL-Z线均减小，两组比较,差异无统计学意义(P>0.05)。试验组上唇覆盖上切牙1.15 mm，对照组前牙区牙龈暴露量1.74 mm,两组比较,差异有统计学意义(P<0.05)。见表5。

表5 两组患者矫正后软组织测量结果

3 讨 论

安氏二类Ⅰ分类错颌畸形是较为常见的一种错颌畸形，我国发生率约为30%。其不仅影响患者的颜面部美观，还对患者的功能也有影响。矫正安氏Ⅱ类Ⅰ分类错颌畸形的关键是防止后牙前移，最大限度地内收前牙，从而改善患者的侧貌，建立良好的功能。传统增强支抗的方式不仅欠舒适、不美观且依赖患者的配合。近年来，微种植体作为一种新的增强支抗方式[12-15]，受到越来越多的正畸医师的欢迎。但是，微种植体植入的角度、高度及所涉及的正畸力系和生物力分析尚不明确。本研究旨在通过植入不同高度的微种植体内收前牙，观察整个上颌牙弓的变化，评价患者的侧貌及微笑美学效果，从而给医师临床操作提供指导意义。

从表1、2中可以看出，随着微种植体植入高度的增加，前牙转矩丢失量逐渐减少，冠舌向倾度减少，压入趋势增强。这与孙志涛等[1]、FELICITA等[6]研究结果一致。分析其原因是，随着微种植体植入高度的增加，内收力的作用线越来越接近前牙的阻抗中心。牵引力除了产生水平向后的力量，还产生垂直向压低的力，前牙正转矩增加，牙齿发生可控的倾斜移动。关于前牙的阻抗中心各个学者的观点各不相同。SUNG等[2]认为前牙阻抗中心位于正中矢状面上，弓丝上方约9 mm弓丝中点后方 13.5 mm处。而周雪中等[3]认为根本不存在共同的阻抗中心前牙的整体移动很难达到，只能无限接近。临床上前牙阻抗中心的位置受牙周膜面积、牙根的形态长度等影响，很难确定上颌前牙的阻抗中心的确切位置。

从表3中可以看出，试验组磨牙前移0.85 mm，对照组磨牙前移1.11 mm，这与其他研究结果一致[8]，陈志伟等[8]认为磨牙的前移可能Ⅱ类牵引有关。本研究中，两组均未采用Ⅱ类牵引，磨牙仍有前移，分析原因可能是咬合力使磨牙轻微前移。试验组上颌第一磨牙伸长0.71 mm，对照组上颌第一磨牙有轻微压低，但差异无统计学意义(P>0.05)，这与其他学者的结果不一致。尹传卫等[4]指出，微种植体支抗位于托槽槽沟根尖方向8～10 mm，牵引钩位于托槽槽沟上方5～6 mm，关闭间隙时上颌磨牙被压低。这可能是本实验采取的牵引钩高度为2 mm，内收牵引力的作用线有所改变，造成磨牙的移动方向不同。再者，牵引钩的位置位于侧切牙及尖牙之间，随着微种植体高度的增加，前牙的压低趋势增强，弓丝弹性作用下，磨牙会随着弓丝的形变，而有所伸长。对照组磨牙降低0.91 mm，上颌合平面顺时针旋转，分析原因可能是前牙内收力的作用线位于上颌前牙和上颌磨牙阻抗中心合方。前牙舌倾，磨牙向后倾斜，造成磨牙压低。

正畸治疗的结果如果只关注咬合情况，而忽略了软组织的变化也是不完美的。毕竟拥有良好面容是许多患者寻求正畸治疗的目的所在。本研究从软组织的变化中发现，安氏二类Ⅰ分类错颌畸形，随着上前牙的内收，鼻唇角角度在逐渐增大。逐渐接近正常值92.33°[7]并向美貌人群靠拢。矫治结束后，两组患者均可在放松状态下闭唇，改变开唇露齿的情况，接近于正常成人上唇在审美平面后方1～2 mm，下唇几乎接触审美平面的水平,说明虽然微种植体植入高度不同，均能有效内收前牙，改变侧貌凸度，在矢状向上满足支抗的需求。一般认为显露75%的牙冠到2 mm的牙龈这一范围是美观的,有学者研究适当地露龈微笑更具有吸引力，尤其对于年轻女性，而大多数人呈现为中位笑线[9-10]。对照组在社交微笑时，牙龈有适当暴露约为1.7 mm，试验组上唇缘盖过上切牙约1.1 mm均是美观的，但差异有统计学意义(P<0.05)。这可能是因为矫正过程中，对照组上颌牙列顺时针旋转，造成切牙暴露量多。而试验组微种植体有压低前牙的趋势，造成前牙暴露量减小。

尽管本研究旨在研究微种植体植入高度对牙齿移动的影响的相关性,但其结果差异性并不显著。这可能与选取病例例数不多有关。两组患者矫正结束时间短均未进行长期的追踪观察，应进一步增加病例，追踪现有患者矫正结束后长期效果总结更多的实践经验，让更多的患者受益，在临床上推广使用。

综上所述，对于开合趋势的安氏Ⅱ类患者植入微种植体的位置要尽量接近合平面，能更好地矫正开合，上颌合平面的顺时针旋转，不仅有利于垂直向控制，还会带来更协调的侧貌[5]。对于低角安氏Ⅱ类患者植入微种植体的位置尽量远离合平面便于压低前牙，升高后牙，矫正深覆合，改变面型。植入微种植体的位置还需要考虑患者牙槽骨的解剖形态、患者的舒适度、软组织的变化、微笑的吸引力，从而达到完美的矫正效果。