我国集成电路布图设计专有权探究

杨晓丽 关 欣 杨逸航 贺美伊

(1.国家工业信息安全发展研究中心，北京 100040；2.中南财经政法大学知识产权研究中心，湖北 武汉 430073)

0 引言

集成电路产业是关乎国家经济安全全局的战略性产业，特别是随着“互联网+”等国家战略的实施，集成电路产业的战略性、基础性地位进一步凸显。《国家集成电路产业发展推进纲要》指出，集成电路产业是信息技术产业的核心，是支撑经济社会发展和保障国家安全的战略性、基础性和先导性产业，当前和今后一段时期是我国集成电路产业发展的重要战略机遇期和攻坚期。

布图设计是集成电路设计制造的核心环节之一，对于集成电路而言，布图设计的结果是整个芯片的模板，更是整个芯片的灵魂。由于集成电路布图设计的特殊性，世界上许多国家通过单行立法，给予集成电路布图设计专有权保护。中国在2001年颁布《集成电路布图设计保护条例》及《集成电路布图设计保护条例实施细则》，正式确立了集成电路布图设计专有权在中国法律体系中的位置。

近年来，我国集成电路布图设计工作取得了长足进展，集成电路布图设计专有权保护制度在保护布图设计智力成果、鼓励集成电路设计技术创新、促进集成电路市场良性发展等方面发挥着重要作用,与此同时，随着集成电路产业的发展，我国集成电路布图设计保护体系仍有待进一步完善，有效提升集成电路布图设计对于当前产业转型升级、产业结构深度调整、科技创新研发应用等方面的支撑能力。

本文以集成电路布图设计专有权保护为核心，以国家知识产权局公布的集成电路布图设计专有权公告信息为数据源，对国内集成电路布图设计保护总体情况进行梳理分析，研究目前我国集成电路布图设计事业发展面临的主要问题，并为完善我国集成电路布图设计保护体系、提升集成电路布图设计综合运用能力提出相应的工作启示。

1 集成电路布图设计专有权数据分析

专有权数据方面，本文根据国家知识产权局公开的集成电路布图设计专有权公告为数据源。数据起始自2001 年 10 月 1 日国家知识产权局官网公布的公告号序号为 1 的集成电路布图设计专有权，截至2019年12月31日国家知识产权局官网公布的公告序号为23216的集成电路布图设计专有权。

1.1 集成电路布图设计专有权申请趋势

如图1所示，我国集成电路布图设计专有权申请量不断增长，可以看出近年来业界对集成电路布图设计专有权的关注度不断提升，集成电路布图设计专有权保护意识不断增强。

图1 我国集成电路布图设计专有权申请趋势

1.1.1 集成电路布图设计专有权地域分布

如图2所示，我国集成电路布图设计专有权地域分布中，中国内地拥有21268件，占专有权总量的94%；其他国家1367件，占专有权总量的6%。

图2 我国集成电路布图设计专有权地域分布

1.1.2 集成电路布图设计专有权人申请量

如图3所示，在我国获得集成电路布图设计专有权的企业中，数量排名前两位为外资企业，分别是美国亚德诺半导体公司和美国安那络公司；其余均为国内企业。

图3 集成电路布图设计专有权申请人排名

1.1.3 集成电路布图设计专有权省市分布(国内权利人)

如表1所示，从国内集成电路布图设计专有权数量省市排名看，前五各省市分别为：上海、广东、江苏、北京和浙江，这五个省市集成电路布图设计专有权数量合计占国内总量的76.75%，这与上海、广东、江苏、北京等地聚集了众多集成电路设计企业的产业分布态势一致。

表1 各省市集成电路布图设计专有权申请量排名

1.1.4 集成电路布图设计专有权权利人类型分布(国内权利人)

如图4所示，按权利人类型分类，其中企业占比91%，远超其他权利人申请量总和，大专院校及科研单位占比均为4%，说明目前国内集成电路布图设计专有权申请的主力为企业。

图4 集成电路布图设计权利人类型

1.1.5 我国集成电路布图设计专有权结构、功能、技术分布

如图5所示，我国集成电路布图设计专有权涉及的结构主要包括MOS、Bi-Mos和Bipolar。其中MOS占比最高，占总量的76%，其次是Bi-Mos占比8%，Bipolar占比7%。

图5 集成电路布图设计专有权结构类别分布

如图6所示，我国集成电路布图设计专有权所涉及的技术类别主要包括CMOS、NMOS和TTL。其中CMOS占比最高，占总量的78%，远超其他技术类别。如图7所示，我国集成电路布图设计专有权所涉及的功能主要包括线性、逻辑、存储和微型计算机。其中线性占比19%最高，其次是逻辑占比18%。

图6 集成电路布图设计专有权技术类别分布

图7 集成电路布图设计专有权功能类别分布

2 集成电路布图设计专有权相关法律及政策分析

2.1 集成电路布图设计法律保护和管理制度

为更好保护知识产权成果，我国构建了以《专利法》《商标法》《反不正当竞争法》《集成电路布图设计保护条例》等法律法规组成的法律体系，但就集成电路布图设计这一集成电路特有的知识产权类型来说，仅有《集成电路布图设计保护条例》这一行政法规对其进行保护。

(1)立法层面。专利、商标和著作权作为较为重要的知识产权类型，我国通过制定《专利法》《商标法》《著作权法》对其进行保护；随着集成电路产业的发展，集成电路布图设计发挥着越来越重要的作用，但作为集成电路产业特有的知识产权类型，目前仅由《集成电路布图设计保护条例》这部效力低于法律的行政法规进行保护，立法层次偏低，无法形成有效保护。

(2)法律和产业发展匹配程度。《专利法》《商标法》等法律及相关条例自颁布实施以来，为更好的适应技术发展、产业发展新形式，已经进行了多次修订。反观《集成电路布图设计保护条例》，2001年至今集成电路产业已发生了巨大变化，集成度不断提高，超导芯片、生物芯片等相继出现，2001年颁布实施的《集成电路布图设计保护条例》已不适合当下产业发展现状，难以对产业发展起到有效的支撑和促进作用。

(3)审查规范性。国家知识产权局对专利申请文本的撰写规范进行了明确规定，但根据国家知识产权局2019年发布的《集成电路布图设计审查与执法指南》内容显示，在布图设计登记流程中，仅对需要提交的文件类型和数量进行了要求，对“布图设计结构、技术、功能简要说明”部分的形式、格式未作出明确规定，未对“集成电路布图设计独创性说明”作出规范，导致在维权等程序中，出现权利范围难以界定等问题，不利于布图设计专有权保护。

2.2 集成电路布图设计相关政策

根据国务院政策文件库检索到的相关文件显示，2001年以来，国务院及相关部委印发了一系列通知文件，从政策方面鼓励促进集成电路产业的发展。具体来看，其中明确提到“集成电路布图设计”的政策有11项，相关政策的发布进一步提升了业界对集成电路布图设计专有权的关注，但从政策发布年限分布看，政策发布缺乏持续性，未能形成连续的政策引导。

3 我国集成电路布图设计工作存在的问题

(1)国内权利人布图设计专有权拥有总量最高，但缺少有明显技术优势的龙头企业。从分析数据看，我国集成电路布图设计专有权数量不断增长，国内权利人拥有的专有权总量占比最高，但从权利人排名看，前三的只有一家国内企业，且专有权拥有量远远低于排名第一的企业，国内企业中缺乏有明显技术优势且能够引领产业发展的龙头企业。

(2)大专院校及科研单位申请量较低，产学研用体系成效不高 。我国集成电路布图设计权利人91%为企业，科研单位和大专院校集成电路布图设计专有权的申请总量仅占国内申请总量的8%，大专院校及科研单位申请集成电路布图设计专有权的积极性不高，产学研用体系尚未得到高效利用。

(3)产业政策持续发力不足，难以持续激发申请。自《集成电路布图设计保护条例》及《集成电路布图设计保护条例实施细则》颁布实施以来，我国先后出台多项政策促进集成电路布图设计专有权的保护和利用，但从政策出台时间看，明确提及集成电路布图设计的相关政策发布缺乏持续性，难以对集成电路布图设计专有权保护起到持续的引导作用。

(4)法律保护、管理制度不够完善，权利人维权困难。《集成电路布图设计保护条例》自2001年颁布实施至今，集成电路产业已经发生了巨大的变化，集成电路布图设计专有权保护领域也发生了很多新变化，出现了许多新问题，但《集成电路布图设计保护条例》在近20年的时间里未进行过修订，已经无法满足现阶段集成电路布图设计保护领域的相关诉求。

4 政策建议

4.1 加强对优势企业的培育，充分发挥龙头企业对创新的引导作用

提升集成电路布图设计专有权数量、质量与加强集成电路布图设计专有权保护相辅相成，近几年我国集成电路布图设计专有权申请量持续增加，但在布图设计专有权总体数量获得增长的同时，缺乏申请数量及质量较高的龙头企业。可在科研项目申报等重大经济科技活动中引入有效的评审机制，对于项目涉及的相关专有权质量进行综合评价，激励企业在增加集成电路布图设计专有权申请数量的同时提高集成电路布图设计的质量，培育一批有技术优势的龙头企业，引导带动产业整体发展。

4.2 提升产学研用合作成效，促进大专院校、科研单位助力创新发展

我国集成电路布图设计权利人中企业占比非常高，大专院校、科研单位对集成电路布图设计专有权申请积极性偏低。

可通过设立专项研究课题等方式引导产学研用之间加强合作，激发大专院校及科研单位在集成电路布图设计领域攻坚克难、推动自主可控技术研发的积极性，同时提高科研成果在企业的商业利用率，推动技术的产业化应用，有效发挥技术进步对产业发展的推动作用；人才培养方面，可以采用企业与大专院校联动的方式，从多个层次培养集成电路布图设计相关专业人才，促进其在产学研用之间的有效流动和交流，提升产学研用合作成效。

4.3 完善法律体系、规范管理制度，有效保护创新主体

我国现有集成电路布图设计保护相关法律法规立法还有待完善，法律制度与产业发展不够匹配，审查及管理制度不够规范，导致现有法律体系难以对创新主体形成有效保护。建议根据我国集成电路产业发展现状、集成电路布图设计专有权申请审查情况、司法及行政执法情况，对《集成电路布图设计保护条例》及《集成电路布图设计保护条例实施细则》的修订进行研讨和意见征集，对现行条例中存在的突出问题进行修订，并对集成电路布图设计保护单独立法的可行性进行研究。

同时，进一步规范专有权相关管理工作，明确集成电路布图设计专有权相关申请规则及侵权判断标准，改进申请流程，规范申请文件撰写；建立布图设计专有权数据库；推动建立合理的集成电路布图设计成果转化收益分配制度，为未来集成电路布图设计的发展提供有效保障。

4.4 加强政策支撑，持续激发创新积极性

我国集成电路发展正处于关键阶段，未来一段时间集成电路布图设计相关工作的主要任务依旧是加强保护和促进产业化应用。需根据我国集成电路产业发展和布图设计专有权现状，研判集成电路产业发展和布图设计专有权保护相关趋势，积极吸取产业专家和相关企业相关建议，针对产业发展相关诉求，持续有序出台相关政策促进集成电路布图设计专有权的保护和利用，持续激发相关主体创新积极性，形成对集成电路布图设计专有权保护和应用的良好氛围。