2011年晶圆设备支出高达23%,继续维持历史最高点
2011-08-15本刊通讯员
电子与封装 2011年10期
SEMI全球集成电路制造工厂报告表明,2011年资本支出将增至411亿美元,达到历史最高水平。由于某些公司基于更广泛的经济状况调整了计划,这一新出炉的预测将增长百分比下调至23% (2011年5月预期增长为31%)。尽管2012年的支出有下降趋势,但总体上仍有可能达到第二个历史最高点。
SEMI产业研究与统计小组的高级分析师Christian Gregor Dieseldorff表示:“全球经济的变化影响到了半导体行业。最近几个月的经济走向使消费者的信心和消费有所降低,此次放缓态势也波及到半导体行业。”
2011年,据SEMI的统计,进行设备支出的晶圆厂数量为223个,其中有77个为LED晶圆厂。明年,190个晶圆厂将开始或继续进行装备,其中包括72个LED项目。2011年最高支出地区集中在美洲,总计约100亿美元;台湾地区紧随其后,约为90亿美元。美洲地区上一次引领支出之最是在2002年。尽管英特尔公司的支出最多,但促使美洲出现高支出的另一关键因素是三星电子公司,其在奥斯汀的晶圆厂支出了约25至30亿美元,项目名为“S2-line”。2012年,预计韩国地区的支出将超过美洲,晶圆设备支出约100亿美元;台湾地区仍尾随其后,约92亿美元。在过去几个月里,一些公司宣布2011年的资本支出有所削减,但多数公司的资本支出计划仍维持不变。尽管市场的谨慎心态日趋明显,但一些公司的支出甚至还略有增长。
由于半导体行业根据市场进行调整并削减了开支,报告预计扩大产能的步伐将放缓。