造个CPU有多难
2021-09-09超载
超载
CPU是每台电脑的中枢,相当于电脑的“大脑”,不过想要生产这个“大脑”是需要极高门槛的。注意,我们说的是制造,随着“代工”行业的蓬勃发展,现在能够设计的CPU公司有一些,能制造CPU的公司又是另一部分企业,能够同时实现CPU设计、生产制造的,那就更是凤毛麟角了。
我们经常能看到一句玩笑话“CPU就是沙子”,理论上这句话没有错误,但是要想实现从“沙子到CPU”的转变,那真是无比困难。总体来说,CPU的制造过程需要一个非常冗长的制作阶段,每一步都是集尖端技术之大成。
从沙提纯开始
目前CPU的制造,是基于一种名为硅(sili con)的化学元素。它是半导体,CPU的计算是通过半导体的不断“开/关(导通/断开)”来完成的,所以实际上CPU的最核心部件某种程度上可以被称作“硅做的半导体开关总和”。
硅是外观带着灰蓝色金属光泽且坚硬易碎的晶体,亦是一种四价的类金属半导体。它广泛分布于我们的地壳中——因此我们通常就是从沙子中对硅进行高度提纯,也就是有些人说的“沙子变CPU”。这个提纯的过程并不是用筛子进行筛选,它首先需要用焦炭去烧沙子,从而得到粗炼的硅,注意这时只是硅。接下来就是精炼提纯,主要是使用化学沉积法实现,精炼提纯步骤完成后,粗炼的硅纯度就提升到了99.99%。这还不够,要让硅成为硅晶体,还需要通过石英熔炉进行再次提纯,并且“塑形”。提纯的过程大致是在一个巨大的石英熔炉中放入一颗“晶种”,用于沙子中的硅晶体依附其上开始“生长”,并且通过提拉手段让其形成柱体状。当然,这个过程不是如此简单,因为制造CPU需要的硅晶体纯度是惊人的99.999999999%。此时,便是我们说的硅晶圆了。
说了这么多,为什么半导体需要用硅来制作呢?除了容易获得、成本低廉之外,硅具有非常好的热稳定性。举例来说,CPU超频在使用液氮散热时可以让其工作在极低的温度;而在日常使用中,几十度的“炙烤”下CPU依然可以稳定运行,这就是硅的特质——热稳定性带来的好处。
从柱体切割晶圆
有了单晶硅,下一步的工作就是把它变成硅晶圆。在绝对无尘的环境下,通过“金刚线”切割变成硅晶圆。这个过程不是单纯的“一切了事”,切的方法也是根据硅晶圆的尺寸而有所区别的。
在200mm直径以下的晶圆上,准确的说它并不是纯粹的圆柱体,而是有一个平切面,作用就是为了更好的定位(后续工艺使用)。到了200mm以上的晶圆上,为了尽量利用晶圆生产更多的芯片,减少不必要的浪费,这个平切面就“变成”了一个小切口,这样可以节省一部分晶圆面积,用来制造芯片。
听起来很容易,不就是切割成片吗?实际不然,在半导体晶圆切割过程中,由于机械力的作用,半导体晶圆边沿容易出现微裂、崩边和应力集中点,半导体晶圆表面也存在应力分布不均和损伤,这些缺陷是造成半导体晶圆制造中产生大量滑移线、外延层错、滑移位错、微缺陷等二次缺陷以及半导体晶圆、芯片易破裂的重要因素。所以,这就需要极高技术水平的切割工艺来实现,从而克服线锯的晃动、提高其稳定性,减少对降低硅片表面损伤、特别是表面较粗糙的缺陷。
听起来是不是已经非常困难了?实际在CPU制造过程中,这点技术难度还不算什么。更难的事情在后面。现在这个切好的薄片并不能做什么,甚至现在它还都不是一个真正的“半导体”,接下来的步骤是给这个切片涂抹光阻剂,这个光阻剂的涂抹需要非常均匀而且非常薄,相当于把这个晶圆切片成为一个胶片底板,方便后续的影印、蚀刻。
“拍照、印刷”制作基板
制造CPU的晶圆切片只能算个“准备工作”,接下来我们就要用这些涂抹了光阻剂的切片进行“拍照”。工厂将使用专业设备通过紫外线将印制了CPU复杂电路结构图样的“模板”照射到这些晶圆切片之上,图样的透光部分射出的紫外线,会让照射到的部位光阻剂溶解,而模板上不透光的部分会使得相应地点的光阻剂保留下来,也就是“该曝光的地方曝光、该隐藏的地方隐藏”。之后涂上金属层,就形成了一个粗糙的线路或者说芯片模块的雏形,这个过程相当于给后续CPU制造做一个“基板”。
笔者这个形容其实极为简化,这个过程的复杂程度超出想象——每个遮罩、照射的复杂性,都是以10GB为单位的数据来实现的,绝非是“拍照曝光”那么简单。
蚀刻 电路成“画”的关键
蚀刻也称之为光刻(使用光来蚀刻 ),就是在已经做好基板的晶圆切片上,将真正的电路刻画出来,这是CPU制造的关键核心步骤,也是最为复杂的一个步骤。
蚀刻就是使用一定波长的光在晶圆上(实际是已经涂上的金属层)画出刻痕,由此改变该处(刻痕)的化学特性,从而实现真正的电路工作机能。这一步驟对光线的波长要求极为严格,更先进的技术可以生产更小的电路间隙,也就是我们通常意义上看到的CPU制程工艺,如28nm、14nm、7nm乃至5nm。