片式多层陶瓷电容器电镀失效分析与控制
2021-04-19黄皓滕斌杨翠刚游健李云仕赵景勋朱万宇
黄皓,滕斌,杨翠刚,游健,李云仕,赵景勋,朱万宇
(成都宏明双新科技股份有限公司,四川 成都 610091)
片式多层陶瓷电容器(MLCC)与钽、铝电解电容相比,不仅外形尺寸小、绝缘电阻高、等效电阻低,而且具有优异的噪声吸收、较强的耐脉冲电流性能以及较好的阻抗温度特性与频率特性,自密封性也良好,可以有效地避免内电极受潮和污染,显著提高飞弧电压和击穿电压。MLCC作为基础电子元器件,在信息、军工、移动通信、电子电器、航空、石油勘探等行业得到广泛应用[1]。
MLCC的生产工艺流程十分复杂,包括了流延、印刷内电极、叠层、切块、排胶、烧结成瓷、倒角、涂端、烧结端电极、电镀等工序[2],只有保证了每道工序的质量,才能生产出合格的产品。笔者所在公司接到该产品电镀工艺的研发任务,要求采用三层端头电极技术,即在 MLCC端头 Cu电极上电镀 Ni层和Au层。由于之前未接触过类似产品,研发过程走了不少弯路,尤其是遇到电镀后脱层和溢镀问题。本文总结了此次研发的经验,供同仁参考。
1 实验
1.1 工艺流程
采用滚镀方式作业,陪镀钢珠(直径0.5 mm)装至滚筒容积的1/3。工艺流程为:化学除油→水洗→弱酸浸蚀→水洗→氨基磺酸盐镀镍→水洗→柠檬酸盐镀金→水洗→烘干(100 ~ 110 °C)。
1.2 材料
待镀原材料为CT41L-0402-104-500型多层瓷介电容器,通过Cu浆封端并烧结,最外层为Cu层。
1.3 设备
采用德国Fischer的XDLM-237型X射线测厚仪测量镀层厚度,测量偏差为±0.2 μm。采用Sinowon的VM-500A型视频显微镜观察电镀后的产品。采用康恒仪器的XCT-0AS型鼓风干燥箱烘干产品。
2 结果与讨论
2.1 除油对脱层的影响
本文所述脱层均指Cu层与陶瓷之间脱层,该Cu层是通过铜浆烧结而成,靠玻璃粉附着在陶瓷上。影响脱层的首要因素其实是烧结质量,其次才是电镀。本文均以烧结合格为前提来讨论。
从表1和图1可知,除油液的配方、温度、时间均对脱层有影响,有无强碱(NaOH)是影响脱层的首要因素,温度和时间为次要因素。含强碱、温度越高、时间越长,脱层就越严重。
表1 不同除油的溶液配方、温度和时间对脱层的影响Table 1 Effects of bath composition, temperature, and time for degreasing on delamination
图1 按表1中方案1(a)、4(b)、6(c)、8(d)除油后的表面状态Figure 1 Surface state after degreasing by following the Scheme No.1 (a), No.4 (b), No.6 (c), and No.8 (d) described in Table 1
从理论上讲,除油液中的OH−对玻璃粉影响最大。NaOH的电离程度远高于Na2CO3和Na3PO4,而温度影响热运动的剧烈程度。实际结果比较符合理论。由于MLCC电镀前的工序均不涉及到使用冲压油、润滑油等油类,脏污只是转移过程中的指印、汗渍等,因此采用不含强碱的中性除油液便可。经验证,除油液配方及工艺条件为:Na2CO320 g/L,Na3PO420 g/L,Na2SiO320 g/L,温度50 °C,时间3 min。
2.2 浸蚀对脱层的影响
浸蚀液对脱层的影响极大。笔者前期按照常规电镀所用的盐酸或硫酸浸蚀液,水洗后镀镍,检查工件时发现几乎100%脱层。开始一直以为是镀镍工艺的原因,后来才发现工件在盐酸或硫酸中浸泡2 ~ 3 s便出现了伪脱层(指目视没有脱层,但Cu层和陶瓷之间结合力很差,如图2所示),受到轻微外力影响(如与陪镀钢珠摩擦)便脱层。有资料指出,该类产品不能用强酸浸蚀[3],因为强酸会影响玻璃粉,进而影响结合力。经验证,浸蚀液的配方及工艺条件为:柠檬酸15 g/L,常温,时间2 min。
2.3 镀镍对脱层的影响
镀镍采用常规氨基磺酸镍体系,即:氨基磺酸镍350 ~ 400 g/L,氯化镍10 ~ 15 g/L,硼酸35 ~ 40 g/L,温度50 ~ 55 °C,pH 4.3 ~ 4.8。除陪镀钢珠与产品的体积比例需大于8,且总体积不能超过滚筒的1/3,电流密度控制在0.5 ~ 1.0 A/dm2范围内之外,镀镍的关键还在于通过加入添加剂使镀层具有一定的压应力,令Ni层向Cu层和陶瓷面挤压,以保证结合力。压应力可通过如图3所示的镀层应力分析仪测定。
图2 浸完强酸后的伪脱层状态Figure 2 Pseudo-delamination after immersion in strong acid
图3 有压应力(左)和无压应力(右)的镀层测试结果Figure 3 Test results for the coatings with (left) and without (right) compressive stress
2.4 镀金对溢镀的影响
金的标准电极电位很正,因此极容易在Ni层边缘向陶瓷上析出,导致溢镀,严重时直接导致电容器联通而短路失效。笔者验证了氰化物镀金和柠檬酸盐镀金两种体系,结果如图4所示。氰化物镀金更活泼,溢镀严重;采用柠檬酸盐镀金可以避免该问题,但要防止电流过大导致的镀层烧焦。
经验证,柠檬酸盐体系的配方及工艺条件为:Au(以柠檬酸金钾加入)5 ~ 8 g/L,柠檬酸钾100 ~ 120 g/L,柠檬酸50 ~ 60 g/L,磷酸氢二钾20 ~ 30 g/L,乙二胺四乙酸二钠2 ~ 5 g/L,电流密度0.3 ~ 0.6 A/dm2。
图4 氰化物镀金(左)和柠檬酸盐镀金(右)的产品外观Figure 4 Appearance of the products electroplated in cyanide bath (left) and citrate bath (right), respectively
3 结论
与常规材料电镀不同,MLCC电镀整个流程必须在中性环境下进行。选择合适的除油、浸蚀、镀镍溶液,可以改善MLCC脱层现象;选择柠檬酸盐镀金体系,可以改善镀金后溢镀的问题。另外,本轮实验的陪镀钢珠直径及混合比例是根据传统经验来选择的,有待进一步通过正交试验来确定其最优范围。