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专利名称: 一种纳织构原子层沉积二硫化钼软涂层刀具及其制备方法

2021-04-04

中国钼业 2021年4期
关键词:化学键二硫化钼织构

专利申请号: CN201811331573

公开号: CN109161870A

申请日:2018.11.09

公开日:2019.01.08

申请人: 东南大学

本发明属于金属切削工具制造技术领域,涉及一种纳织构原子层沉积二硫化钼软涂层刀具及其制备方法。该刀具由基体材料、表面纳米级织构、二硫化钼软涂层构成,刀具基体材料为硬脆性陶瓷材料,软涂层与基体材料之间具备织构和弱化学键的协同增强结合机制。该纳织构原子层沉积二硫化钼软涂层刀具可通过高能束加工织构、原子层沉积涂层的工艺制备而成。该刀具可广泛应用于强韧性材料的干式切削加工,织构和弱化学键的协同增强结合机制可有效强化软涂层与基体的结合强度,显著改善金属切削工况并提高刀具的润滑使用寿命。

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