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TFT-LCD中液晶取向异常亮点机理研究及改善

2020-04-07宋勇志洪永泰陈维涛

液晶与显示 2020年2期
关键词:液晶异物杂质

周 波,王 祺,宋勇志,洪永泰,陈维涛

(北京京东方显示技术有限公司, 北京 100176)

1 引 言

目前市场上ADS/IPS等硬屏TFT LCD显示产品中,液晶取向技术仍主要是接触式摩擦配向工艺,其中亮点类不良由于其可视性,一直是显示屏出货的主要不良。

按照亮点不良形成原理,可以将其分为两大类:像素亮点和不规则亮点。像素亮点主要是由于单个TFT充电异常造成的整个亚像素亮点[1],此种不良主要是依靠阵列基板(Array)工艺条件优化、检测维修工序进行改善及维修[2];另一种不规则亮点,正如其名,亮点形状不规则,与TFT充电无关,按其成因又分为两大类:异物亮点和非异物亮点。由屏内可见异物造成的亮点即为异物亮点,异物亮点可以通过人员作业管理、清洗设备优化[3]、摩擦强度优化[4]等方面进行改善。另一种非异物造成的不规则亮点,即为本文所要分析改善的亮点不良。

针对上述非异物亮点不良,一直未有有效的分析手段和明确的不良发生机理。本文通过对非异物亮点不良进行详细宏观和微观分析,同时建立实验室测试模型找到不良发生的根本影响要素,从本源上对这种不良建立了改善对策,并将改善条件在生产线进行了实际的验证及导入,验证了不良机理和实验室模型有效性,并提升了TFT LCD的量产良率。

2 非异物亮点不良的描述及初步分析

2.1 非异物亮点的不良描述

以我公司为例,该类不良的发生率维持在0.5%~1.5%左右,极大影响了我公司产品的良率和边效等级。

图1中像素亮区即为非异物亮点的不良显现。该不良具有3个特征:一是亮点大小形状不规则,可能小于一个亚像素,也可能是横跨几个亚像素,且形状边缘不规则;二是该亮点不良在玻璃母板和单个显示屏中的位置分布无集中性;三是使用显微镜观察时,微调焦距,亮点周边无晕且大小变化不明显。

图1 非异物亮点不良照片

由上述非异物亮点不良的特征,不良位置和形状不固定,可以说明一个问题:这里所研究的液晶取向异常造成的亮点,与集中分布在摩擦阴影区(阵列金属布线边缘区)的摩擦力度不均匀造成的PI配向异常[5]亮点不一致,是由于其他原因影响了液晶取向而发生了亮点不良。

2.2 非异物亮点的初步分析

按照常规不良的分析思路,我们对非异物亮点不良进行了分析,在分析中发现不良在TFT和彩色滤光膜(CF)侧均有发生,由于CF侧现象便于观察,此处以CF侧不良为例进行介绍。主要分析步骤可参照图2所示。

图2 非异物亮点不良初步分析

步骤一:实验室显微镜观察微观现象,如图2(a),对不良区进行标记。

步骤二:将显示面板拆开分为TFT和CF两部分,在显微镜下分别观察TFT侧和CF侧是否存在可见不良,如图2(b)和图2(c) 所示,不良在CF侧可见,TFT侧不可见。

步骤三:去除液晶后再次观察CF侧,确认不良是否可见。见图2(d),去除液晶后,CF侧不良现象消失;

步骤四:在上述CF侧重新滴上液晶,放置在显微镜下进行观察,现象复现,如图2(e)所示;

步骤五:去除液晶和配向膜(Polyimide,PI)后,CF侧不良现象消失;

步骤六:在CF侧不良区重新滴上液晶,不良现象不可见。

综上,参考示例,可以判断所分析非异物亮点发生在CF侧,亮点由PI配向异常导致液晶取向异常[6],显现为亮点不良。下面我们通过微观分析等手段对这里的PI配向异常产生的根本原因进行深入研究。

3 PI配向异常原因分析

3.1 PI配向异常区微观分析

图3 AFM分析结果

我们主要采用原子力显微镜(AFM)和飞行时间二次离子质谱技术(Time of Flight Secondary Ion Mass Spectrometry,TOF-SIMS)两种分析设备对PI配向异常原因进行研究。同时为了便于分析,排除CF侧有机膜层的影响,选取成分较为简单的TFT侧不良为例进行分析说明。

首先,使用AFM的形貌模式(Height Mode)和相模式(Phase Mode)[7]对不良区域进行扫描。如图3(a)为TFT的不良区域,去除TFT侧液晶后,利用AFM的形貌模式进行观察,发现在不良区域PI表面有7.5~10 nm厚的粗糙区,如图3(b)所示;利用AFM相模式观察不良区域,发现有位相差异,说明该位置存在非PI成分的杂质。

根据AFM结果,可确认在不良区PI表面存在粗糙形貌的杂质层。由此结果也可以证明,这里所分析的亮点不是由于摩擦力度不均匀造成的PI配向异常,而是由于杂质影响了PI配向,进而影响了液晶取向形成亮点。

然后,用TOF-SIMS对杂质区成分进行了正离子和负离子分析[8]。使用TOF-SIMS进行正离子测试,如图4所示,该杂质区检测到CxHyOz成分含量较高;使用TOF-SIMS进行负离子测试,如图5所示,该杂质区C2H3O2含量较高。

图4 TOF-SIMS正离子分析结果

图5 TOF-SIMS负离子分析结果

综合TOF-SIMS测试结果,有机成分CxHyOz是造成该区域配向异常的主要成分。下面是对杂质成分产生的一个预测。

3.2 成分及机理推测

为了说明我们的机理推测,首先简单说明一下LCD的PI成膜、配向及LCD成盒的工艺制程[9]。

(1)PI成膜:采用辊轮或者喷墨[10]的方式将PI分别涂覆在TFT基板和CF基板表面,经过预固化(约100 ℃,120 s)实现溶剂蒸发,并在主固化(约230 ℃,1 000 s)条件下完成酰胺转换,PI膜厚约为50~120 nm;

(2)摩擦配向:将摩擦布粘附在摩擦设备的辊轮上,控制辊轮转速、辊轮在基板上的压入量、基板行进速度等参数,分别对TFT和CF表面的PI进行摩擦配向;

(3)成盒前清洗:摩擦配向后,使用水、水气混合液等对PI表面进行清洗,去除PI表面异物,并通过风刀(Air Knife)和IR加热等设备去除基板表面水份;

(4)按照设计的图形,完成液晶滴入和封框胶涂覆;

(5)成盒:完成液晶滴入和封框胶涂覆的CF和TFT基板,在真空状态下进行对盒,对盒后对封框胶进行紫外线固化和热固化,完成成盒工艺。

图6 LCD成盒工艺

LCD的PI涂覆到成盒工艺过程中,易于产生杂质的环节主要在于接触式的摩擦配向,对发生机理的推测如下:

(1)杂质产生:在摩擦配向过程中,摩擦布中的成分、PI的成分、TFT表面膜层成分可能会散落在PI表面;

(2)杂质堆积:在成盒前清洗过程中,由于高压水、水气混合溶液的冲击以及气刀的冲击,上述杂质离子在TFT表面段差区域形成堆积,经IR热处理后,形成难以清除的杂质层;

(3)成分推测:由TOF-SIMS结果中有机物CxHyOz含量高可以推测出,杂质区可能的成分主要是摩擦布中的成分、PI成分等有机成分。TFT表面膜层成分主要为无机化合物和金属,在TOF-SIMS中未检出,可以将其排除。PI碎屑成分已知,可以通过摩擦参数和PI材料优化改善,下面主要针对摩擦布中各种成分残留对PI配向和液晶取向的影响进行实验研究。

4 摩擦布成分与不良关联实验室再现分析

4.1 摩擦布主要成分说明

我公司ADS型TFT-LCD主要使用的是Hybrid摩擦布,如表1所示,其中有机成分主要包含布毛纤维、背胶、柔顺剂、防静电剂。

其中布毛纤维、背胶、防静电剂为摩擦布成品必要成分,柔顺剂会在纺织完成后被清洗掉,余少量残存在摩擦布中。

表1 Hybrid摩擦布主要有机成分

4.2 实验室测试方案设计

为了研究上述摩擦布中何种成分堆积形成了PI表面的杂质区,造成了亮点不良,我们进行了如下实验室测试方案设计。

实验所用材料如表2所示,其中摩擦布、布毛纤维为固体状,背胶、柔顺剂为浓溶液,防静电剂为稀溶液。

表2 实验所用材料列表

实验步骤设计如图7所示,共分为萃取溶液制作、萃取液滴附、点灯测试3个实验步骤。

(a)萃取溶液制作(a) Preparation of extraction solution

(b)萃取溶液滴附(b) Surface treatment by the extraction solution

(c)点灯测试(c) Microscopic observation with LC

4.2.1 萃取溶液制作

为了便于测试,我们将各测试样品分别制作成测试溶液。

固态的Hybrid摩擦布和布毛纤维溶液制法,主要有溶解、老化和过滤3个小步骤。

(1)溶解:将上述固态物质放置到溶剂去离子水(DIW)中,固态物质质量分数为2.5%;

(2)老化:将上述溶液放置在40 ℃的环境中,静置1 d,静置时保持超声处理;

(3)过滤:使用0.2 μm的过滤器进行过滤。

浓溶液状态的背胶、柔顺剂溶液制法主要有稀释和过滤两个步骤。

(1)稀释:使用DIW进行稀释,稀释比为浓溶液∶DIW=1∶500;

(2)过滤:使用0.2 μm的过滤器进行过滤。

防静电剂为稀溶液,无需处理直接使用。

4.2.2 萃取溶液滴附

在第一步中我们得到了Hybrid摩擦布、布毛纤维、背胶、柔顺剂和防静电剂的共5种萃取溶液。如图7(b)所示,将这5种溶液分别滴附在倾斜放置的PI基板上(已摩擦配向),随着液滴流动,其按照一定轨迹滑落PI基板。然后用DIW进行3次清洗,这是按照生产线的工艺流程模拟清洗过程。最后,将PI基板放置在120 ℃下干燥1 min,完成了萃取溶液滴附。

4.2.3 点灯测试

将上述5种完成干燥的基板放置在点亮的背光源(背光源表面放置一层偏光片)上面,分别滴入液晶,分别使用显微镜观察,显微镜的偏光轴与背光源上偏光片偏光轴成一定夹角(90°最佳),如图7(c)所示。

4.3 实验室测试结果

图8为点灯测试观察到的5种溶液滴附后PI基板表面的画面。从图中可以看到,Hybrid 摩擦布、背胶、柔顺剂所对应的基板上出现了亮暗不一致的条纹,该条纹的出现代表了PI表面配向力受到了影响,与在图1中观察到的TFT LCD显示屏中非异物亮点现象一致。由此可见背胶和柔顺剂的成分是造成TFT-LCD中非异物亮点的主要杂质成分。

图8 实验室测试结果

5 产线测试结果

依据上述实验结果,我们对摩擦布进行了改善优化,主要优化方向有两点:

(1)加强织布后的清洗,增强柔顺剂和背胶脱落成分的去除能力,主要通过清洗水量加倍实现。

(2)增加真空吸收环节,吸收背胶脱落成分,避免留存在摩擦布中。

使用优化后的摩擦布,我们进行了两次测试,从表3结果看出,非异物亮点均得到了有效改善,证实了我们的不良机理分析及实验结果是有效的。

从表3数据看,使用改善后的摩擦布,非异物亮点发生比例降低了0.6%,按照我公司每个月300 k 液晶面板的产量,每月可减少1 800片液晶面板的损失,按照每片50美元的价格,每月可以为公司减少9万美元的材料损失。

表3 新摩擦布产线测试结果

6 结 论

本文主要对使用Hybrid摩擦布的TFT LCD产品中出现的非异物亮点进行了机理研究。首先对非异物亮点进行了初步分析,不良区无可见异物,亮点的成因为PI膜配向和对应液晶取向异常;对PI配向异常的机理进行研究发现,PI表面有7.5~10 nm的杂质区,影响了PI膜的配向,其成分主要是CxHyOz;我们推导异物成分主要来源为摩擦布;通过建立实验室模拟测试方案,验证摩擦布中的柔顺剂和背胶成分是造成PI配向异常的杂质成分;最后对摩擦布中的柔顺剂和背胶成分进行了加强清洗和真空去除,在生产线测试取得了较好的结果。结果表明,柔顺剂和背胶成分加强去除后,非异物亮点不良由0.6%降低至0%,预计每月为我公司减少9万美元的材料损失。

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