六方氮化硼的合成及表征
2019-03-14孙长红张旺玺梁宝岩李启泉张玲杰
孙长红 ,张旺玺 ,梁宝岩 ,李启泉 ,张玲杰
(1.中原工学院材料与化工学院,河南郑州450007;2.河南省金刚石工具技术国际联合实验室;3.河南省金刚石碳素复合材料工程技术研究中心)
六方氮化硼(h-BN)具有良好的耐高温性能、优良的耐腐蚀性能、较高的热导率、较低的热膨胀系数,还具有绝缘和透波等性质[1-3],是一种应用价值巨大的新型功能材料,在导热、润滑、储氢、电池隔膜材料、高温抗氧化涂层、催化等领域都有重要的应用[4-10]。h-BN是一种结构和性能与石墨极为相似的化合物,俗称“白石墨”,是合成立方氮化硼(c-BN)的主要原料。自19世纪Balmain首先用氧化硼和氰化钠合成h-BN以来,已发展出多种制备h-BN的方法,如:前躯体法、气相沉积法、高频等离子法等[11-14]。目前中国合成h-BN的方法主要有硼砂-氯化铵法、硼砂-三聚氰胺法、硼砂-尿素法、硼酸-尿素法[15]。虽然各种方法制备的h-BN都可用于生产c-BN,但是都需要对h-BN进行高温氮化处理,以提高其纯度和结晶度。h-BN的结晶形态、粒度大小、颗粒均匀性和杂质等都影响c-BN的制备。在合成c-BN的过程中,h-BN中的杂质(氧化硼和水)会与触媒发生反应,使触媒效率降低,并且这些杂质与触媒反应后生成的物质也会阻碍c-BN晶体的生长,使c-BN质量降低[16-18]。传统高温法是在NH3气氛下合成h-BN,再经稀盐酸、去离子水洗涤,该生产工艺不符合环保理念。以硼酸为硼源,可以省略脱水工序,同时也减少了产品中金属盐杂质的混入;以三聚氰胺为氮源,含氮量高。以两者为原料,制备的h-BN产物纯度高,后处理简单且环保。笔者采用硼酸和三聚氰胺为原料,通过一步焙烧法制得h-BN样品,研究了工艺参数对合成h-BN的影响,探讨了其反应机理及h-BN颗粒的形貌。
1 实验部分
1.1 实验原料
硼酸(分析纯)、三聚氰胺(分析纯)、甘露醇(纯度≥98.5%)、氮气(纯度为99.5%)。
1.2 样品制备
将硼酸、三聚氰胺按一定比例混合,放入坩埚,置于高温气氛管式烧结炉中(NBD-T1700-60IT型),在N2气氛下以10℃/min的速率加热至设定温度并保温一定时间,自然冷却至室温,热水洗涤,得到焙烧样品。硼酸与三聚氰胺反应方程式:
1.3 样品测试与表征
BN 产率测定[19]:因三聚氰胺(氮源)过量,BN产率以B元素计,BN中B元素的量与硼酸中B元素的量的比值即为BN产率。BN纯度测定[18]:将一定量BN与NaOH在700℃进行熔融反应 (BN+3NaOH=Na3BO3+NH3),再 用 HCl将 Na3BO3酸 化 为H3BO3,H3BO3为弱酸,甘露醇与H3BO3络合形成强酸,酸碱滴定测定硼酸量,得到产品中硼的含量。
采用UltimaⅣX射线衍射仪对样品的晶型结构进行分析;采用MERLIN COMPACT场发射扫描电镜观察产物的微观形貌;采用NICOLET 5700 FTIR对产物的化学结构进行分析。
2 结果与讨论
2.1 原料配比对合成h-BN的影响
表 1 不同 n(H3BO3)/n(C3H6N6)制得h-BN的样品参数
图 1 不同 n(H3BO3)/n(C3H6N6)制得h-BN的XRD谱图
图 2 不同 n(H3BO3)/n(C3H6N6)制得 h-BN 的 SEM 照片
在焙烧温度为1 300℃、保温时间为3 h条件下,不同 n(H3BO3)/n(C3H6N6)制得 h-BN 的样品参数见表1、XRD谱图见图1、SEM照片见图2。由表1看出,硼酸用量少时硼源不足,产品产率低,但纯度高;硼酸用量多时产品产率增加,但纯度低。由图1看出,采用不同 n(H3BO3)/n(C3H6N6)制备的样品均出现了h-BN的(002)(100)(004)等特征峰,没有其他杂峰,且产物均为白色,说明实验制得的样品是h-BN。当n(H3BO3)/n(C3H6N6)为(1.5~2.4)∶1 时,随着二者比例的增加衍射峰变化不明显,其半高宽较大,h-BN结晶性较差;当 n(H3BO3)/n(C3H6N6)为 3.0∶1 时,衍射峰变化显著,峰形尖锐,半高宽较小,证明h-BN结晶度增加;当 n(H3BO3)/n(C3H6N6)为 4∶1 时,衍射峰强度最高,峰形最为尖锐,半高宽最小,说明h-BN结晶性最好;继续增大 n(H3BO3)/n(C3H6N6),衍射峰强度逐渐弱化,半高宽逐渐宽化,说明h-BN结晶性下降。
由图 2 可知,n(H3BO3)/n(C3H6N6)≤2.4∶1 时,h-BN形貌变化不大,有明显的孔洞,且孔洞数量随着n(H3BO3)/n(C3H6N6)的增加而减少,样品呈现不规则的棒状和球状;当 n(H3BO3)/n(C3H6N6)≥3.0∶1时,样品中出现了厚度较薄、尺寸较小的片状晶体,表明 n(H3BO3)/n(C3H6N6)的增大有利于 h-BN 结晶度的提高,与图1结果一致。在焙烧过程中,n(H3BO3)/n(C3H6N6)越小,氮源越多,降低了样品的结晶度,同时氮源越多产生的NH3、CO2、水蒸气越多,会使制备的h-BN表面产生大量孔洞。综上所述,n(H3BO3)/n(C3H6N6)=4.0∶1 较为适宜。
2.2 焙烧温度对合成h-BN的影响
在 n(H3BO3)/n(C3H6N6)为 4.0∶1 条件下,采用双温度段制备h-BN样品(不同的低温焙烧2 h、高温1 400℃焙烧2 h,N2气氛)。图3为不同的低温焙烧温度制备h-BN的XRD谱图。由图3可知,随着低温焙烧温度的升高,衍射峰强度呈现先增强后减弱的趋势,低温焙烧温度为1000℃时,衍射峰强度最强。
图3 不同低温焙烧温度制得h-BN的XRD谱图
表2为不同低温焙烧温度制备h-BN的样品参数。由表2看出,采用双温度段焙烧后的h-BN样品产率可达25%左右,纯度为97%以上。其中,低温焙烧温度为1 000℃时制备的h-BN产率最大(25.60%)、纯度最高(97.81%)。
表2 不同低温焙烧温度制备h-BN的样品参数
图4 不同低温焙烧温度制备h-BN的SEM照片
图4为不同低温焙烧温度制备h-BN的SEM照片。由图4可知,制备的h-BN样品均为表面光滑的片状颗粒,颗粒直径为 100~400 nm、厚度为20~80 nm。低温焙烧温度越高颗粒尺寸越大,颗粒团聚现象越明显,低温焙烧温度为1 200℃时h-BN颗粒团聚现象最为显著。参看其对应的XRD谱图(图3)和表2可知,低温焙烧温度为1 000℃时制得的h-BN品质最好。与采用单温度段1 300℃制得的h-BN样品(图2)相比,采用双温度段制得的h-BN样品颗粒较小、粒度更为均匀、表面更为光滑。这主要是由于h-BN焙烧时的推动力来源于胚体的表面能和晶粒的界面能,低温焙烧时温度越低样品内部扩散、蒸发、凝聚等作用越弱、变形能越小、晶界越难发生移动、气孔越难排除,使得晶粒越难长大,颗粒棱角更加分明;再经1 400℃焙烧时,晶体中分子运动能力增强,结晶度增大。由于此温度与高温精制温度相比较低,晶体中分子运动幅度有限,同晶粒长大的程度较小,因此制得了h-BN纳米片状颗粒[20]。
图5为低温焙烧温度为1 000℃制得h-BN的FT-IR图。由图5看出,3 400 cm-1处为—NH键的伸缩振动峰,可能是样品在空气中吸收了少量水分引起的;813 cm-1和1 397 cm-1处分别对应 h-BN的B—N—B弯曲振动模式和h-BN的伸缩振动模式,说明生成了h-BN。在图5中没有观察到B—O—C和B—O—B,说明在焙烧条件下B和N充分生成了h-BN,纯度较高,与XRD谱图(图3)没有发现其他杂质的观察结果相一致。
图5 低温焙烧温度为1 000℃制得h-BN的FT-IR图
3 结论
以硼酸和三聚氰胺为原料,在N2气氛下成功制备出片状h-BN。研究了硼酸与三聚氰胺物质的量比、焙烧温度对h-BN产率、纯度、结晶性、粒度的影响,论证了最佳工艺的稳定性。结果显示,在硼酸与三聚氰胺物质的量比为4.0∶1、1 000℃焙烧2 h、1400℃焙烧2 h条件下,制得h-BN的产率为25%、纯度为97%,样品结晶性较好、粒度约为250 nm。