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22纳米

2019-01-10

知识就是力量 2019年1期
关键词:光刻机光刻分辨力

22纳米

国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”已通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制,光刻分辨力达到22纳米,结合双重曝光技术后,未来还可用于制造10纳米级别的芯片。

科研人員展示利用超分辨光刻设备加工的超导纳米线单光子探测器

中科院理化技术研究所许祖彦院士等验收组专家一致表示,该光刻机在365纳米光源波长下,单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。项目副总设计师胡松介绍,中科院光电所此次通过验收的表面等离子体超分辨光刻装备,打破了传统路线格局,形成一条全新的纳米光学光刻技术路线,具有完全自主知识产权,为超材料/超表面、第三代光学器件、广义芯片等变革性领域的跨越式发展提供了制造工具。

4万年前

是谁带来远古的呼唤?是谁留下4万年的祈盼?是谁手执石叶在“世界屋脊”驻足?

尼阿底遗址出土的石叶、石核

11月30日,美国《科学》杂志在线发表中国科学院古脊椎动物与古人类研究所张晓凌等的研究论文,公布了在青藏高原腹地尼阿底遗址的重大考古发现及研究成果。该项发现将人类首次登上青藏高原的历史推进到4万年前,书写了世界范围内史前人类征服高海拔极端环境的最高、最早纪录。

据中国科学院古脊椎动物与古人类研究所研究员高星介绍,考古队员们在这里发现了大量的石叶、石核、刮削器等石制品。经过地层分析和光释光与碳十四测年,判断先民在该遗址活动的时间为4万~3万年前,证实古人在距今4万~3万年前已踏足青藏高原的高海拔地区,在世界屋脊上留下了清晰、坚实的足迹。

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