《石门铭》技法探微(四)
2017-05-10党现强
□党现强
《石门铭》技法探微(四)
□党现强
第四讲 横画组合
一字之中,多横并用,其组合关系亦是临帖中经常遇到的情况。《石门铭》结字扁方,取右上倾斜之势,所以,横画多左低右高,临习时须注意斜中取正,以草作楷,欹侧飞动、飘逸有致。
横画组合,首先体现在主、副、余笔的关系之中。一般来说,主笔特征是长、大,是字的主体部分,是字中的关键所在;副笔是配合主笔的,其大小要比主笔小一些,处于从属位置;余笔是主副笔的补充,大小又居副笔之次,占位最小。如“其、年、至、无(无)、上”等字(图1),“其”字下横最长,上横次之,中间两横最短,每个笔画的长短,由其所在的位置及在字中承担的角色来决定;“年”字第二横最长,第三横最短,笔画长短参差,排布有序;“无(无)”字第二横、第三横等长,且形态相似,以重复的手法建立秩序,则是主、副、余笔运用的变例。
其次,横画组合练习还需留心笔势的俯仰变化。《石门铭》的横画表现为三种形态:上仰、平直、下俯。一般来说,短横呈上仰或平直形态,长横呈平直或下俯形态,但在具体运用时,会结合字势表现出微妙的变化。如“岸、南、褒、里、泰”等字(图2),“岸”字中,“干”部上横上仰,下横平直;“褒”字的上横下俯,极尽伸展之势,下横取斜势,左低右高,于笔画右端微有变化;“泰”字的横画层垒而下,两短横略有仰势,末横下俯。
图1
图2
第三,多横组合还会形成远近疏密的对比。不同的构字会形成不同的笔画搭配关系,其疏密、远近,一方面受笔画位置的制约,另一方面还会受书手审美倾向和个人结字习惯的影响。《石门铭》中的横画搭配,或疏密有致,或均衡排布,皆舒卷自如,于规矩中寓变化。如“自、葛、皇、献(献)、开(开)”等字(图3),“自、皇”为均衡布局,笔画走向、距离一致,追求秩序井然之美;“献(献)、开(开)”加大疏密对比,于变化中增加字的奇趣。
图3
图4
再者,从笔画形态来讲,多横搭配还需兼顾笔画的藏露、方圆变化。《石门铭》是魏碑中圆笔的典型刻石,以圆笔为主,但书手在书写中为追求变化,以及刻写的刀法掺杂其中,也呈现出一些方笔写法,丰富了其书法表现力。方圆对比,在多横组合运用中尤其重要。如“五、者、羊、车(车)、表”等字(图4),方圆互见、刚柔相济,朴质中有清健,圆劲中见锋芒。
临习过程中,还要注意通篇布白、字势的呼应关系。孙过庭谓:“一点为一字之规,一字乃终篇之准。”要使通篇笔画粗细、笔势角度在某个幅度内变动,既要有丰富的变化,又须兼顾统一性。(图5)
图5