文献与摘要(151)
2014-03-09
文献与摘要(151)
Literatures & Abstracts (151)
高密度互连印制板的可靠性
HDI PWB Reliability
HDI板利用微通孔,埋孔和顺序层压绝缘材料和导体构成高密度线路,对可靠性尤为重要。必须考虑两部分:铜导体互连可靠和基体材料耐热可靠,办法是进行附连测试板的互连应力测试(IST)。附连测试板经受热循环通常为500次,由互连孔的电阻值变化在证实铜互连裂缝。
(Paul Reid PCB,magazine,2014/04,共5页)
PCB制造中的绿色技术
Green Technologies in PCB Fabrication
“绿色”和“环境友好”涉及PCB制造中,替代有毒有害物质的材料,减少加工步骤,和减少化学药品的消耗,以及减少水和能源的用量,和材料的可回收利用。具体有采用直接金属化孔工艺,用碳或石墨、导电聚合物代替钯活化,化学沉铜液中取消有毒的甲醛、氰化物和难处理的EDTA;采用半加成法减少电镀铜和蚀刻铜的消耗;采用激光直接成像减少作业。甚至采用导电膏印刷使孔金属化(ALIVH和B2it)。
(Karl Dietz,PCB magazine,2014/04,共3页)
各种测试要求概述
A Summary of Various Test Requirements
PCB的线条与间距更细、孔更多与更小,测试就更复杂。叙述IPC标准对PCB的分类和不同的电气测试要求。PCB产品按使用场合分为一般电子产品、服务性电子产品、高可靠性电子产品三类,及附加军事、航天级产品。不同等级的PCB电气测试条件不同,要求参照IPC-9252,考虑线路长度对电阻值影响。
(Todd Kolmodin,PCB magazine,2014/04,共3页)
适于复杂互连的石墨系直接金属化
Graphite-based Direct Metallization for Complex Interconnects
技术的发展趋势是PCB基板的面积减少而性能更高,这促使电路具有更小的孔。针对PCB复杂结构,生产效率提升和最终产品的高可靠性要求,推出直接孔金属化技术。胶体石墨具有稳定的分散性和与多种树脂良好的吸附牲,胶体石墨直接金属化工艺在刚性PCB制造应用多年,现可推行于复杂的HDI板、挠性板和刚挠板,可减少工序和设备场地、废水量,有利于环保。
(Michael Carano,PCB magazine,2014/05,共8页)
利用反向脉冲电镀进行微盲孔和贯通孔的铜填孔
Copper Filling of Blind Microvias and Through-Holes Using Reverse-Pulse Plating
盲孔激光打孔和铜填孔已成为HDI板典型的生产工艺,任意层互连10层堆叠BMV铜充填是目前智能手机首选技术。铜填孔技术中应用反向脉冲电镀的优点突出。新的挑战是板的孔的厚径比增大,芯板通孔也转向激光钻孔,激光钻孔孔壁不如机械钻孔光洁,反向脉冲电镀解决了这些问题。
(Henning Hübner等 ,PCB magazine,2014/05,共7页)
低频超声对化学镀铜的催化剂影响
The Effect of Low-Frequency Ultrasound on Catalysed Electroless Copper Plating
印制板绝缘基板的孔经过化学镀铜实现金属化,常是通过使用钯/锡胶体溶液催化(激活)这个非导电基底。在化学镀铜前进行催速处理把锡除去,留下钯在化学镀铜催化表面沉积铜。有关化学电镀过程应用超声波已有研究,现有利用低频超声快速催化表面,可使化学镀铜溶液电镀速率几乎翻一番,并且低温处理,晶粒细化。需注意的是超声处理过程必须优化,以免钯催化物去除过度。
(A. J. Cobley等, PCB magazine,2014/05,共4页)
印制线路板电镀技术最近状况
プリント配線板のめっき技術におけるトピックスRecent Topics in the Plating Technology for PWBs
叙述PCB的现在与将来与电镀技术的关系。现在高密度PCB主要涉及到导通孔镀铜填孔;在平滑树脂表面化学镀铜需保持一定的抗剥离强度;还有一系列的表面处理。重点叙述低粗化度介质面上化学镀铜的半加成法(SAP)技术,在纳米级平整表面得到良好的铜层结合力。比SAP更细更可靠线路的为激光开槽镀铜工艺,另外导通孔镀铜填孔也会得到更加平坦。
(君塚亮一等,電子実装学会誌,Vol.17,2014/01,共5页)
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