Sol-Gel法制备钛酸锶钡薄膜及其掺杂介电行为
2012-10-26赵丽丽高永进张智翔翟春雪何崇斌西北大学信息科学与技术学院陕西西安710127
赵丽丽 高永进 张智翔 翟春雪 何崇斌 西北大学信息科学与技术学院,陕西 西安710127
Sol-Gel法制备钛酸锶钡薄膜及其掺杂介电行为
赵丽丽 高永进 张智翔 翟春雪 何崇斌 西北大学信息科学与技术学院,陕西 西安710127
采用溶胶-凝胶法制备钛酸锶钡薄膜,经XRD测试薄膜的相结构,证明薄膜具有一定的择优取向性。性能测试表明,随Mn掺杂量的增加,薄膜的介电系数稳定地增加,而介电损耗在Mn含量为7.5%时最小。
溶胶-凝胶法;钛酸锶钡薄膜;掺杂;介电性能
引言
由于集成电路集成度快速提高,动态随机存储器必须快速缩小以适应其要求,然而器件缩小会致使其漏电流增大,甚至导致器件失效。为了从根本上解决这一问题,需要采用高介电薄膜代替现有的介电层。钛酸锶钡由于其居里温度可调、介电性能突出,是人们关注的焦点之一。
钛酸锶钡薄膜的制备方法主要包括脉冲激光沉积法[1]、磁控溅射法[2]、溶胶-凝胶法[3~5]等。已有研究表明,掺杂可以显著改善薄膜的介电性能[3,5]。本文采用溶胶-凝胶法制备钛酸锶钡薄膜,研究薄膜的相结构、微观形貌及Mn掺杂对薄膜介电性能的影响规律。
1 实验部分
按锶:钡:钛=1:1:1(物质的量比)的比例,称取醋酸锶和醋酸钡,溶于适量的冰醋酸和乙二醇甲醚混合溶液中,搅拌30分钟,加入几滴乙酰丙酮,继续搅拌30分钟。然后将混合溶液倒入钛酸丁酯中,再搅拌45分钟,得到浅黄色清澈透明的溶胶。溶胶陈化2天后在硅片上甩胶,甩胶层数分别为9层,每层均经过120℃热处理,最后在700℃(2h)煅烧获得薄膜。
薄膜的相结构采用日本Rigaku的D/max-3c型X射线衍射仪测试,微观结构采用日本Shimadzu的SPM9500J3型原子力显微镜进行观察,并采用LCR DATABRIDGE2018A测试薄膜的介电性能。
2 结果与讨论
2.1 钛酸锶钡薄膜的相结构和微观结构
采用X射线衍射仪测定薄膜的相结构,典型图谱(Sr0.5Ba0.5TiO3)如图1所示。图2是该薄膜的AFM形貌。
由图1可见,本实验制备的钛酸锶钡薄膜为钙钛矿结构,具有一定的(100)择优取向性,这种取向有利于薄膜良好介电性能的发挥。图2是该薄膜的AFM形貌。二维的AFM图像和三维AFM图像清晰地表明,实验制备的薄膜平整、致密,晶粒大小均匀。
图1 钛酸锶钡薄膜的典型XRD谱(*代表Sr0.5Ba0.5TiO3)
图2 钛酸锶钡薄膜的AFM形貌
2.2 锰掺杂对薄膜介电性能的影响
锰作为受主元素可以有效地提高薄膜的介电系数,本实验研究了锰掺杂量分别为2.5%、5%、7.5%和10%时薄膜的介电性能。图3是Mn掺杂量与介电性能的关系图,其中(a)是Mn掺杂量和介电系数的关系,(b)是Mn掺杂量和介电损耗的关系。
图3 Mn的掺杂量与介电系数(a)和介电损耗(b)的关系
由图3可见,Mn掺杂可以有效地提高薄膜的介电性能,在10KHz和100KHz条件下,薄膜具有更高的介电系数和更小的介电损耗。随着Mn掺杂量的提高,薄膜的介电系数稳定的提高,而介电损耗的最小值则出现在7.5%的Mn掺杂量处。在100KHz下,薄膜的介电系数达到744,介电损耗为0.6%。因此,综合考虑7.5%是最佳Mn掺杂量。
3 结论
采用溶胶-凝胶法制备了具有(100)择优取向的钛酸锶钡薄膜,AFM显示薄膜致密、晶粒均匀、表面平整;适量Mn掺杂可以显著改善薄膜的介电性能,研究显示,7.5%是最佳Mn掺杂量,此时Ba0.5Sr0.5TiO3薄膜的介电系数最大,介电损耗最小。
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赵丽丽,山西临汾人,副教授,从事新型电子材料与元器件研究。
10.3969/j.issn.1001-8972.2012.07.022
陕西省教育厅自然科学项目(08JK462);陕西省科技厅自然科学项目(SJ08-ZT04)