专利信息

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饮料瓶清洗装置

Drink container washing instrument ：日JP2011235223 [专]/ Miyazaki, Michihito.－2011.11.24－4页.－JP 2010-107797（20100509）

本专利提供在没有废除使用铝罐和PET瓶之前，在家不用沾湿手就可以将饮料瓶清洗干净的饮料瓶清洗装置。本装置由树脂构成的储水槽内的底板能灵活地释放圆形橡皮圈，在下面有个水注入装置和一个防回流阀。饮料瓶清洗装置的典型特征是：有一个突出的喷嘴和在喷嘴周围储水槽中心上部有篦状突起。

清洗烤架的装置

Machine for cleaning grills：韩KR 2011123841[专]/ Eom, Jae Pung. －2011.11.16.－KR 2010-43282（20100510）

清洗烤架装置包括：一个O形清洗滚筒，一个低层固定板、压力罐、压力活塞、几个导杆、几个直的轴承、上层固定板、上层液压缸、活塞杆、上下移动板、抛光杆、悬挂挡板、绳子、圆形板、超声加湿器、隔膜泵、电热圈、电脑输入板和辅助输入板、电子阀门和喷嘴。烤架的肉碳化物通过使用高压去除，烤架上的油脂及表面活性剂使用高压高温水蒸气去除。因不使用氢氧化钠所以预防了污染。

清洗和干燥电子和机械部件的方法和装置

Method and apparatus for washing and drying electronic and mechanical components：日JP 2010-94897 [专]/ Denso Co., Ltd. (Yanagawa, Keita).－2011.11.10－13页.－JP2010-94897（20100416）

本发明涉及一种对电子和机械部件洗涤干燥一步完成的方法和装置。洗涤剂是疏油的并且b.p. ≧40。

清洗机械部件的装置和组分

Washing and cleaning apparatus and materials for mechanical components:意IT 1374592 [专]/ Forni-Tecnica S.r.l. (Spagocci, Stefano Maria; Teruzzi, Alessandro; Zamboni, Alberto).－2010.05.17－26页.－IT 2006-MI695（20060407）

本发明提供清洗机械部件包括流化床的清洗装置，包括一个装粉末的室、气流和管道入口，步骤是将气流带动粉末流化，这样组成可移动的室作为清洁流化床的组分。例如用压缩气体和玻璃珠作为磨料清洗，从金属零件、超声碱性溶剂、丝染印刷溶剂去除润滑油

使用陶瓷辐射远红外和超声波无洗涤剂的的洗涤机

Washing machine of nodetergent using ceramic radiating far-infrared rays and supersonic waves:韩KR 2000021103 [专]/ Ecoma Co., Ltd., S. (Cho, Bong Am; Lee, Jeong Hyeon; Ko, Jong Cheol.).－2000.04.15.－KR 1998-40043（19980925）

本专利提供一个无洗涤剂的洗涤机，使用产生超声波和远红外射线辐射的陶瓷材料，防止了使用洗涤剂洗涤污水的产生。在洗缸内此洗涤机有产生超声波设备，在洗缸内涂有产生远红外辐射的陶瓷涂层。远红外辐射的陶瓷涂层由60-70% SiO2、10-15% Al2O3、1-5% Fe2O3、5-10% TiO2、3-8%CaO、2-6% MnO。当陶瓷涂层被添加到洗衣机中后，通过超声波的振动操作洗涤水产生许多空穴，提供强大的洗涤操作动力，在不使用合成洗涤剂的情况下污染物质在短时间内快速脱离。

自动清洗机器部件的洗涤机和组分

Washing machine for automated cleaning of mechanical parts and components：俄RU 2348553 [专]/ Zao Nauchno-Proektnyi Tsentr "Tormoz" (Murtazin, A. V.; Troshkov, Zao Nauchno-Proektnyi Tsentr "Tormoz"V. V.; Moskalev, P. I.; Zhernovoi, V. G.; Belyaev, M. S.).－2009.03.10－20页.－RU2007-128477（20070724）

本发明的洗衣间自动清洗部件包括一个洗室、一个支撑转盘和球状检测器，检测器由气缸驱动。本机器配有运动传感器、高压供水机、减速箱、异步电动机。气压输送分配器是控制装置及提供压缩空气。控制室包括：控制部件、控制台，电力设备面板来控制驱动调节装置。检测器通过气缸移动和旋转。同时，空气分配器提供干燥的目的。

清洗机械、光学、电子零部件油脂的方法和组分

Method and apparatus for cleaning processing oils and greases from mechanical , optical, and electronic components:日JP 2003080180 [专]/ Asahi Kasei Corporation (Matsumoto, Shoji).－2003.03.18－18页.－JP 2001-273358（20010910）

本发明方法包括：（A）蒸气压1.33 ×103Pa的预清洁液和冲洗液，20℃时蒸汽压1.33 ×103Pa的非氯氟代抗氧化剂，（B）加热溶液使之产生蒸汽，然后冷凝，（C）过滤冷凝液以清除污垢，（D）循环过滤溶液作为预清洗剂。这样做成的配方含HFE -7100（甲基全氟丁基醚和甲基全氟异丁基醚混合物）50%，3 - 甲基-3 – 甲氧基丁醇30%，二丙二醇2 –甲醚20%（FM- 220），用于处理被油脂(FM-220)污染的部件显示不错的效果。

陶瓷制品清洗剂组成和方法A detergent composition and method for ware- washing:印WO 2002031095 [专]/ Unilever NV, Neth.; Unilever PLC; Hindustan Lever Ltd. (Neplenbroek, Antonius M.; Suk, Bouke.).－2002.04.18－29页.－WO 2001-EP10574（20010912）

本专利提供在洗碗过程中，尤其是公共设施洗碗机中，使用酸性漂洗可以有效去除污垢。应用此技术含两部分组成，每部分使用时溶解或稀释后使用。第一部分组分含清洁剂和碱，碱的加入可以在使用浓度时呈现中性或弱碱性，第二部分组分含酸，酸使漂洗液呈现pH接近6.0酸性。第一部分是洗涤步骤，第二部分是后洗，冲洗步骤。本技术即使不添加酶也能达到高效去污垢效果。由此，陶瓷器具清洗组分含三聚磷酸钠、偏硅酸钠和氯化钠，漂洗组分含润湿性强的、不起泡的非离子表面活性剂，柠檬酸和水。

工件清洗装置

An apparatus for washing a workpiece：大马WO 2010013995 [专]/ Invenpro (M) Sdn. Bhd. (Ng, Kae Jeng; Liang, Kien Hui; Liang, Kien Yew).－2010.02.04－20页.－WO 2009-MY107（20090731）

本发明涉及一种工件清洗，如芯片、PC板、混合电路、精密构件和电板元件、光学仪器、医疗器械或其它类似物品。因本发明有个特别平滑的圆盘，因此更适用于清洗磁盘驱动器组件。本发明提供了一种洗涤剂单向流动方式，能够使污垢在水溶液的介质中从工件表面去除并随溶液流走。洗涤剂单向流动通过将洗涤剂泵入入口，同时在装置出口流出，这阻止污垢的再次沉积。

清洗电子元件的方法

Method and system for washing electronic component:日WO 2009110549 [专]/ Du Pont-Mitsui Fluorochemicals Co., Ltd. (Kikuchi, Hideaki.).－2009.09.11－37页.－WO 2009-JP54168（20090305）

本专利提供清洗电子元件的方法，包括通过净化器净化不再使用的含氟有机液体洗涤剂。通过净化器将洗涤液净化并发送到洗涤装置中用于洗涤电子元件。净化器再次净化用过的洗涤液并循环供应洗涤液到洗涤装置中。在净化过程中，至少有机污垢通过精馏装置除去，固体污垢通过过滤装置除去。

清洗焊接印刷线路板和电子设备的配方

Composition for washing solders stuck to printed circuit boards and electronic devices:日JP 07266028 [专]/ Tonen Corp, (Suzuki, Sadakatsu; Asami, Masayuki; Ueno, Hiroshi).－1995.10.17－6页.－JP 1994-80953（19940328）

本标题配方组成为（1）N – 甲基- 2 -吡咯烷酮，（2）水，（3）1的下列之一化合物， 3 - 甲氧基-3 - 甲基丁醇，2 - 乙氧基乙醇和2 - 甲氧基乙醇和1 - 甲氧基-2 - 醋酸丙酯。此安全组成配方无需冲洗并且在低温可以快速干燥。

光电装置部件和电子装置的清洗及其设备

Washing and its apparatus for electrooptical device components and electronic apparatus therewith:日JP 2004261703 [专]/ Seiko Epson Corp. (Tsukahara, Akira.).－2004.09.24－10页.－JP 2003-54003（20030228）

光电装置部件，如LCD板的接触点，在由超纯水组成的清洗设备运输带上时，喷嘴尤其是在喷嘴下方的吹嘴都能被清洗干净。水作为清洗媒介对于电子部件工作性能没有任何副作用。对于电子设备如手机、电子记事本和集装设备等会有更高要求。

清洗电子材料和电子设备保护膜的方法

Method for cleaning electronic material and device for cleaning electronic material:日WO 2010113587 [专]/ Kurita Water Industries Ltd. (Tsukamoto, Kazumi; Morita, Hiroshi.).－2010.10.07－28页.－WO 2010-JP53527（20100304）

本专利提供短时间内成功分离和去除电子材料保护膜的技术。电子材料用含过硫酸的硫酸溶液分离保护膜。然后，电子材料用含溶解气体的水清洗。此方法与常规清洗方法相比大大缩短了清洗时间。含过硫酸的硫酸溶液最好通过电解硫酸获得。硫酸溶液除去保护膜的清洗装置减少加入到电解器中过硫酸的浓度并可以再生，硫酸溶液中过硫酸在清洗设备中可以重复利用。这种通过使用高浓度过硫酸和重复使用硫酸溶液的方法使高效分离和去除保护膜成为可能。

清洗装置和含臭氧水的制备装置

Washing apparatus and ozonecontaining water production apparatus:日JP 2011136286 [专]/ Sumitomo Heavy Industries, Ltd. (Ueno, Norieda; Takahashi, Kyosuke).－2011.07.14－13页.－JP 2009-297866（20091228）

本专利提供的清洗装置含用于制浓缩臭氧气体的浓缩部分，为获得浓缩臭氧水的臭氧溶解部分，此目的可以通过高浓度臭氧溶解在水中实现，和用臭氧水清洗目标物的洗涤部分。臭氧浓缩水制备装置含用于制备浓缩臭氧的浓缩部分和可以获得臭氧水的臭氧溶解部分。用高浓度臭氧水可以有效洗涤目标物，如半导体装置的电子零件和晶体部件。

清洗电子部件上有害物质的方法和设备

Method and device for washing electronic parts to remove hazardous materials:日JP 2004174375 [专]/ Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. (Tsukahara, Chisato; Sawatsubashi, Tetsuya; Tatsuhara, Kiyoshi.).－2004.06.24－12页.－JP2002-343578（20021127）

本技术通过使用一个液体清洗组分，此液体清洗组分含异丙醇、辛醇和水，能将附在被污染电子部件表面的有害物质如PCB和废涂层颜料等去除的方法。

去除电子设备基板表面沉积物的方法和设备

Method and apparatus for removal of surface deposits from substrates for electronic devices:日JP2003103228 [专]/ Nomura Micro Science Co., Ltd. (Kono, Shigeru.).－2003.04.08－17页.－JP2001-304078（20010928）

本专利使用含臭氧气体和有机酸性洗涤液的清洗剂或含臭氧的洗涤剂，将洗涤剂喷洒在旋转基板上，能在短时间内全面清洗干净而不留任何残留的技术。本设备由基板支撑物、用与喷洒洗涤液或臭氧气体的喷嘴和一个可以固定或移动喷嘴的夹具组成。

餐洗机用洗涤剂

Machine dishwasher detergent：德WO2011147665 [专]/ Henkel AG & Co. KGaA (Eiting, Thomas; Sendor-Mueller, Dorota; Zipfel, Johannes; Kessler, Arnd; Bastigkeit, Thorsten; Nitsch, Christian; Mueller, Sven).－2011.12.01－35页.－WO2011-EP57180（20110505）

本专利提供液体餐洗机用洗涤剂配方为：a）20-70%水；b)至少一种淀粉酶；c)至少一种Ca2+源；d) l乳酸或乳酸盐，此配方可提高淀粉酶的稳定性并可显著提高清洁性能。

清洗方法和清洗设备

A cleaning method and cleaning apparatus： 日JP2011240318 [专]/ Sakura Seiki Co., Ltd (Karasawa, Hiroshi; Asaoka, Shinta; Shimizu, Toshiaki.).－2011.12.01－15页.－JP2010-117458（20100521）

本专利提供能去除粘附在如医疗器械表面的铁锈和水垢的清洗方法和设备。在清洁同时本技术不会引起清洁物表面的腐蚀，也不会对操作人员构成危险。对于清洁物，先使用酸性洗涤，然后用碱性洗涤剂洗涤，在碱性洗涤剂洗完后再用水或温水和碱性洗涤剂漂洗。

地板液体洗涤剂

The liquid detergent composition for floors：日JP2011241353 [专]/ Kao Corp. (Takano, Katsuyuki; Makino, Yasuhiko; Funoo, Mitsushi.).－2011.12.01－13页.－JP2010-117161（20100521）

本专利提供用于地板清洁的含高浓度、水不溶香精液体混合的洗涤剂，不溶香精由低浓度的表面活性剂来稳定。配方含(a)特定的非离子表面活性剂，(b)特定的阳离子表面活性剂，(c) C3-6的聚羧酸或它们的盐和(d)水不溶性特殊香精。