德国SUSS MicroTec与美国Rolith共同研发用于太阳能发电的纳米光刻技术

德国SUSS MicroTec公司系一家专注于半导体工业及相关市场设备与技术方案著名供应商，该公司于2010年12月2日宣布与美国Rolith公司签订技术研发合作与专有许可证协议，旨在利用由后者研发的分裂式纳米光刻方法制造一种纳米结构设备，用于大面积基材高产出、高生产效益的纳米光刻技术为可再生能源和绿色建筑市场带来契机。

该技术采用圆柱形滚动掩模实现近场光学光刻，目前Rolith公司正在申请相关专利。利用相移干扰效应或等离子强化印刷结构可设计出次波长技术解决方案，运用连续运行模式可实现低投入、高产出。Rolith公司的“滚动掩模”纳米结构系统生产成本有望低于2美元/m2。

Rolith公司CEO Boris Kobrin表示，预计利用该技术可制造出包括高效3D太阳能电池、光伏建筑一体化、智能玻璃、具有防反射、防眩光、自清洗和防雾等功能的优质涂层在内的新一代产品。

SUSS MicroTec公司CEO Frank Averdung称，该公司最近纳米压印光刻系统相关研究成果使其成为在利用微机电系统（Micro Electro Mechanical System，MEMS）和纳米技术实现基材构建方面的领先企业。当公司的设备解决方案与Rolith公司的新型光学纳米光刻技术相结合后，通过从根本上改变了既有成本结构，有望将高效纳米压印技术推向市场。