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一种镁合金基材单向移动表面处理设备

2016-05-14

科技创新导报 2016年5期
关键词:电解池参数设置单向

摘 要:该发明公开了一种镁合金基材单向移动表面处理设备,包括电解池(1)、基材(2),第一电电极组(8、9)、第二电极组(7、11),第三电极组(10、12),第一变频器(6)、第二变频器(4)、第三变频器(5)和第一变压器(3)、第二变压器(14),第三变压器(13),基材(2)置于电解池(1)的磷酸电解液中,基材(2)与第一至第三电极组平行相对设置,且设置在电极下方,基材2与电极之间的距离为5~10 mm,其特征在于:基材(2)为单向运动,即由左向右运动,第一变频器与第三变频器的参数设置相同,120 Hz 10 min(即在120 Hz下处理10 min)或240 Hz 3 min,通过第二变频器输出180 Hz 10 min或200 Hz 3 min,电极电压为40~45 V。处理方法独特,利于表面微细化。

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