【中国专利信息】

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编者注：本期刊登的是2010年11月份国家知识产权局公布的有关表面处理系列类专利信息。如需专利全文，请与我部联系（联系人：吴海玲；电话：020–61302516）。

离子液体氯化镓/氯化1–甲基–3–乙基咪唑体系电镀液

公开号 101876082

公开日 2010.11.03

申请人 沈阳师范大学

地址 辽宁省沈阳市沈北新区道义南大街8号

离子液体氯化镓/氯化 1–甲基–3–乙基咪唑体系电镀液的组成如下：无水氯化镓(GaCl3)：420 ～ 450 g/kg，氯化1–甲基–3–乙基咪唑(EMIC)500 ～ 530 g/kg，金属镓(Ga)10 ～ 30 g/kg，糊精10 ～ 20 g/kg，氯化钠(NaCl)10 ～ 20 g/kg。离子液体是一种绿色溶剂，具有较宽的电化学窗口，在室温下即可得到在高温熔盐中才能电沉积得到的金属与合金，但没有高温熔盐那样的强腐蚀性；同时，在离子液体中可以电沉积制得大多数在水溶液中得到的金属，且无副反应，因而所得金属的性能更好。离子液体的上述特性及其良好的导电率、低的蒸气压使之成为电沉积研究中崭新的电镀液。

一种离子液体电沉积溶液以及在该溶液中电沉积制备铱层的方法

公开号 101892498

公开日 2010.11.24

申请人 北京航空航天大学

地址 北京市海淀区学院路37号

本发明公开了一种离子液体电沉积溶液以及用其进行电沉积制备铱层的方法，所述的离子液体电沉积溶液由10 mL的三氯化铝型离子液体中加入0.001 ～ 0.200 g无水三价铱盐组成；或者是由10 mL的非三氯化铝型离子液体中加入0.001 ～ 0.200 g无水三价铱盐组成；有或是由 10 mL的三氯化铝型离子液体中加入0.001 ～ 0.200 g无水三价铱盐和1 ～ 20 mL乙二醇组成。本发明的电沉积制备铱层的技术方案是：在真空手套箱中的电沉积槽内加入离子液体电沉积溶液，用惰性材料作阳极，待电沉积材料作阴极，采用恒电流方式在70 ～ 120 °C下进行电沉积，从而在阴极材料表面获得铱层。

无氰化学镀金镀液及无氰化学镀金方法

公开号 101892473

公开日 2010.11.24

申请人 深圳市荣伟业电子有限公司

地址 广东省深圳市龙岗区南联简二村下龙塘25号

本发明公开了一种无氰化学镀金镀液，主要成分为：苹果酸7 ～20 g/L，EDTA-2Na 5 ～ 18 g/L，乳酸12 ～ 35 g/L，氨水20 ～ 45 g/L，防老化剂1 ～ 3 g/L，加速剂0.1 ～ 0.5 g/L，稳定剂0.1 ～ 0.5 g/L，柠檬酸金钾1 ～ 4 g/L，镀液的pH为5.0 ～ 5.2。采该镀液用于镀金时，温度为89 ～ 93 °C，时间为7 ～ 30 min。本发明采用新的配方比例，并以无氰盐类作为稳定剂，实现了电路板等制品的无氰化镀金工艺，由于不使用氰盐类物质，为镀金工艺提供了一种新型的无公害、成本低的途径，本发明的推广应用具有极好的经济效益和社会效益。

一种铜–铬–钼三元合金镀层及其制备方法

公开号 101892502

公开日 2010.11.24

申请人 华南理工大学

地址 广东省广州市天河区五山路381号

本发明公开了一种铜–铬–钼三元合金镀层及其制备方法。制备方法及步骤为：用蒸馏水将柠檬酸溶解，加入六水钼酸钠搅拌溶解，调节pH至1.5 ～ 3.3；再依次加入氯化镧、硫酸铵和甲酸铵，调节pH至2.1 ～ 4.0；然后依次加入五水硫酸铜、六水硫酸铬和硼酸，加入余下的蒸馏水，调节pH至2.0 ～ 3.8，得到电镀液。将基材表面经磨光和化学清洗后，放入电镀槽，浸渍在电镀液中，在40 ～ 55 °C下电镀沉积30 ～ 60 min，电镀完毕后取出基材，冲洗，烘干，得到铜–铬–钼三元合金镀层。本发明可根据具体要求改变表面合金成分，来提高表面硬度、强度和耐磨性能，而心部仍为高电导率和热导率的Cu。

采用电沉积制备氟化锶或稀土掺杂氟化锶薄膜的方法

公开号 101892504

公开日 2010.11.24

申请人 浙江大学

地址 浙江省杭州市西湖区浙大路38号

本发明公开了一种采用电沉积制备氟化锶或稀土掺杂氟化锶薄膜的方法。包括如下步骤：1──用丙酮清洗ITO导电玻璃2 ～ 3次，再用去离子水将ITO导电玻璃放在超声波清洗器里清洗10 ～ 30 min，接着将ITO导电玻璃放在10%的硝酸溶液中活化10 ～ 30 s，最后用去离子水清洗，待用；2——0.01 ～ 0.5 mol/L乙二胺四乙酸二钠与锶离子的配合物溶液中，加入抗坏血酸钠，再加入氟化铵溶液，调节pH为6 ～ 9，得到电解液，待用；3──以ITO导电玻璃为工作电极，铂电极为对电极，甘汞电极为参比电极，置于电解液中进行电沉积，相对于甘汞电极的阳极沉积电位为0.8 ～ 1.4 V，得到氟化锶薄膜。本发明的优势在于设备简单，低成本，常压低温。除了适合于科学研究外，有望实现大规模工业化生产。

[ 编辑：周新莉 ]