APP下载

利用氧化还原反应检测燃料氢气中的杂质

2021-05-21于瑞祥高艳秋任逸尘魏王慧

低温与特气 2021年2期
关键词:氩气氢气杂质

董 翊,于瑞祥,姜 阳,高艳秋,任逸尘,魏王慧

(上海市计量测试技术研究院,上海 201203)

1 前 言

氢气作为一种清洁能源,现在已经成为最受瞩目的新能源,被广泛应用于新能源汽车和分布式发电产业中。随着产业升级和环境保护的加强,当今社会对氢气的需求量越来越大,纯度要求越来越高;在新能源汽车行业,对氢气纯度要求达到99.97%[1],其中组分氩、氮分别小于300 (μmol/mol)[2]。在集成电路加工生产中对氢气的纯度要求更高,达到99.999%甚至99.999 9%[3-4]。现有的氢气中微量杂质的检测方法存在氧和氩在色谱柱上分离困难,氮气峰被氢气峰掩盖,普通进样方式无法准确定量的问题。一种分析方法是采用中心切割后得到氧+氩[5],再用微量氧分析仪测得氧,扣除氧后间接得到氩含量,这种间接的方法在定量上并不精确。另一种分析方法是用吸附剂将氧除去,再用阀切割方法得到氩,但主成分氢气峰在气路切割时易干扰到氩组分,甚至氮组分也会出现在氢气拖尾峰上,影响氩和氮测量的准确性和重复性。

本文研究设计了氧化反应装置,不通过中心切割方法实现了对氢气中氩、氮和甲烷的定量检测,解决了氢气峰对杂质峰的干扰问题,提高了测试的准确度和精度。

2 实验部分

2.1 实验仪器

仪器:GOW-MAC 816型气相色谱仪,氦离子化放电检测器(DID)。

色谱柱:预柱:硅胶柱,1/8”×1 m;柱1:13X分子筛柱,1/8”×3 m;柱2:5A分子筛柱,1/8”×3 m。

载气:氦气,纯度不低于99.999 9%。

氢气为底气的气体标准物质,瓶号L55003074;氧气为底气的气体标准物质,瓶号388618。组分与含量见表1。

表1 气体标准物质组分与含量Table 1 Composition and content of standard gases

2.2 实验过程

氢气中的氩气的测定主要是用吸附剂吸收样品中的氧,再用中心切割方法得到样品中氩的含量。主成分氢气先于氩出峰,且保留时间较为接近。中心切割处理不当,氢气峰和氩气峰易发生黏连甚至氢气峰完全覆盖氩气峰,造成氩气峰定量困难。

研究设计了氧化反应装置,内部装有CuO2和Cu。在加热的状态下,氢气、氧气发生氧化还原反应,其反应方程式如下:

2H2+CuO2=2H2O+Cu

O2+Cu=CuO2

当气体经过氧化反应装置时,氢气和氧气完全被反应,原有的主成分氢气被完全除去,剩余的组分由氦气载入气相色谱仪,通过外标法准确定量其剩余组分的含量。谱图只有氩峰、氮峰及甲烷等杂质峰。

实验条件是载气输出压力482.65 kPa,色谱柱温50℃(恒温),反应器填充CuO2、Cu温度80℃(恒温),载气流速30 mL/min,定量管1 mL,六通阀自动进样。如图1所示,在正常试验条件下,样品被载气携带从定量管吹出,经过反应器,主成分氢气与杂质氧发生氧化还原反应生成水,水和其他组分一起随载气进入色谱柱,经色谱分离后由检测器检测。图中有两个六通阀,前一个六通阀起进样作用,后一个六通阀起反应器主路或者旁路切换作用。

实验采用的定量方法是外标法,公式如下:

ui=Ai/Ais×uis

(1)

式中,Ai是组分i的峰面积;Ais是组分i标准品的峰面积;uis是组分i标准气的含量。

1.样品气入口;2.样品气出口;3.载气入口;4.六通阀;5.定量管;6.预柱;7.氧化还原反应器;8.色谱柱1;9.色谱柱2;10.检测器图1 样品检测气路图Fig.1 Gas path diagram of sample detection

3 实验结果

3.1 检出限

检出限按仪器3倍噪音来定,基线噪音N=0.902 6 mV。以浓度氩为5.1 (μL/L),氮为4.1 (μL/L)气体标准物质为样品检测得到氩峰高为345.417 mV,计算得到氩检出限为0.039 (μL/L);氮峰高为199.656 mV,计算得到氮检出限为0.055 (μL/L)。

3.2 色谱图

氢气为底的气体标准物质作为样品进行色谱分析。实验表明,在上述分析条件下,未见氢峰,被装置完全去除,见图2。氩保留时间tR1=7.16 min,氮保留时间tR2=9.68 min,则分离度R=2.2,相邻组分完全分离,且杂质峰峰形对称。

氧气为底的气体标准物质做比对,得到与图2相似的色谱图,按照公式(1)得到氩含量为10.0 (μL/L),分析结果和标称结果一致,证明该装置彻底消除了氢气和氧气。

图2 氧化还原吸附后氢气杂质色谱图Fig. 2 Chromatogram of hydrogen impurity after redox adsorption

用中心切割方法做比对进行分析,试验条件是两根5A分子筛色谱柱。图3结果显示,主成分氢与氩保留时间依然接近,切割甲烷窗口期引入的氢气在保留时间上和氮气接近,两者间形成干扰,因此氢峰和氩峰、氮峰发生黏连,影响氩峰、氮峰面积的计算,最终影响含量的测定。利用氧化还原方法除去氢气,主组分对杂质无任何干扰,因此该方法优于中心切割方法。

图3 中心切割方法分析氢中杂质色谱图Fig. 3 Chromatogram analysis of impurities in hydrogen by central cutting method

3.3 重复性

按上述方法对气体标准物质平行测定7次,由表2可知,相对标准偏差小于3%,说明本方法有较好的重复性,且通过表2与表3对比发现本方法重复性优于传统的中心切割方法。

表2 氧化还原法检测气体标准物质的测试结果Table 2 Test results of gas standard materials by redox reaction

表3 中心切割法检测气体标准物质的测试结果Table 3 Test results of gas standard materials by central cutting

4 讨 论

研究了氢气中杂质的分析方法,利用氧化还原反应,除去样品中的氢和氧,保留目标组分氩和氮及其他杂质,再利用氦离子化放电检测器检测。该方法分析气路设计简单,易于操作。结果表明,该方法能够有效消除主成分氢气的影响,色谱图上氩峰对称性良好,不受氢拖尾峰的干扰,相邻组分完全分离,有利于定量分析。该方法较传统方法有以下优点:

1.分析范围广:该方法可以分析0.055~5000 (μL/L)的杂质含量。传统方法窗口期不能开的过大,造成氢主峰对杂质峰干扰,所以在分析高含量的氩气时中心切割方法会带来较大分析误差,氧化还原方法却能完全适用。

2.分析方法简单:该方法只需要让样品通过氧化还原反应管后直接进入色谱柱分析,而中心切割需制定复杂的时间开关序列来实现杂质峰的分离。

3.方法稳定性好:该方法即使保留时间有偏移,也不需改变分析方法,只需和标气比对即可,提高方法稳定性。中心切割保留时间变化后,切割窗口期完全改变,需要重新寻找合适的窗口期,费时费力。

4.定量准确,重复性好。该方法最大特点就是消除主峰干扰,不仅满足燃料氢气的杂质分析要求,也可以用于超高纯氢气的杂质分析要求。

猜你喜欢

氩气氢气杂质
基于光谱识别的LF氩气底吹自适应控制设计
示范快堆主容器内氩气空间数值模拟
企业车间氩气泄漏模拟
剔除金石气中的杂质,保留纯粹的阳刚之气
二则
在细节处生出智慧之花
粗盐中难溶性杂质的去除
一种用氢气还原制备石墨烯的方法
氢气对缺血再灌注损伤保护的可能机制
电子支气管镜下氩气刀治疗气道狭窄的护理