APP下载

芯片之困

2020-12-25刘植荣彭天放

青年文摘 2020年23期
关键词:光刻机电子元件晶体管

刘植荣 彭天放

2020 年9 月15 日,美国阻止全球厂商向中国华为供应芯片,华为面临巨大生存困境。不只华为,过去一年多,美国为阻击中国高科技产业发展,屡屡对中兴、华为、中芯国际“卡脖子”,中国芯片行业发展的不足被充分暴露。有人问,很早之前中国大陆便开始布局半导体产业,还从全球顶端企业不断引进人才,华为也有高端芯片的设计能力,为什么差距依然如此之大?

这就要从芯片是个什么东西来说起。

信息时代的伟大发明

1947 年,美国贝尔实验室3位科学家发明了锗晶体三极管,电子世界进入半导体時代。1959年,美国德州仪器公司成功制造出世界上第一块集成电路,即芯片。该集成电路就是在一块锗片上蚀刻出PNP 型晶体管(三极管)、电阻和电容,用外部导线把它们连接成电路。这块简陋的集成电路拉开了芯片产业的序幕,也把人类科技水平推向一个新的高峰。

芯片可谓20 世纪最伟大的发明,其他很多发明都建立在芯片的基础上。手机、电脑、智能手表等智能设备有芯片,路由器、U 盘、储存卡等网络设备有芯片,身份证、银行卡、购物卡、消费卡等随身证件也有芯片……如果谁发明一种代码让世界上所有的芯片失效,那人类生活将会停滞。

普通人看不到芯片“真身”,其小如人的头皮屑,大的也就像人的指甲盖。1959 年,一块芯片上只有6 个晶体管,到2004 年,一块芯片上便已经有了上百亿个晶体管。芯片运算速度不断提高,正是得益于芯片的集成度越来越高。而芯片的集成度越高,上面的电子元件就越小,各电子元件之间的导线也就越短,电流通过时用的时间随之缩短,能耗减少,处理速度加快。

而让一块芯片承载更多的晶体管,有三种方法,一是增加芯片面积,二是缩小晶体管体积,三是让集成电路立体化。增大芯片面积一般不被考虑,因为这会增加能耗,降低芯片效率。现在,人们主要采取后两种方法增加芯片上的晶体管数量。

芯片制造属于微观世界,上面的电子元件小到只有几个原子或几个分子大,要用更小的单位纳米和埃来衡量。1 毫米等于1000微米,1 微米等于1000 纳米,1纳米等于10 埃。人的头发直径是7 万纳米,而用5 纳米工艺制造芯片,就好比沿着一根头发修建4.4万条公路。缩小晶体管体积毕竟有极限,人们便考虑在一块芯片上搭建多层集成电路来增加晶体管数量。这就好比是把平房变楼房,但集成电路的叠加可比盖楼房复杂得多。楼房各层布局是相同的,而芯片各层电路是不同的,层与层之间的连接异常复杂。

制造芯片就像在一颗米粒上雕刻出一个完整的地球,而且要把地球上所有的道路和建筑都雕刻出来。道路就是芯片上的导线,建筑就是芯片上的电子元件。其难度之大不难想象。

中国芯片之困

最初中国芯片行业采取了“造不如买,买不如租”的发展思路,直到20 世纪90 年代,逐渐认识到芯片自主的重要性,才推出发展微电子产业的“909 工程”。自此,中国的芯片业和国际水平的差距逐渐缩小,特别是在封测和设计环节,中国可以说位居世界前列。但芯片行业三大环节除了封测和设计,还有制造。而制造的短板,也最终让今天的中国芯片业受制于人。

中国台湾的台积电是芯片制造业当之无愧的龙头,全球市占率高达50%,而大陆的中芯国际则只有5% 左右。作为中国大陆芯片制造的最高水平,中芯国际在2019年实现了14 纳米制程的量产,而台积电则已经进入5 纳米量产。

不仅如此,在制造环节,中国还严重依赖国外原材料和关键设备。

半导体材料很多, 但九成以上都选用硅,因为硅的熔点是1415 摄氏度,可在芯片加工中允许高温工艺。能制造芯片的硅,需要极高的纯度,我们把纯度为99.99% 的金叫纯金(4 个9),而制造芯片的硅的纯度至少要达到11 个9,即每10 亿个硅原子里的杂质原子不得超过1 个,这一纯度的硅1955 年美国贝尔实验室就提炼出来了。为什么制造芯片的硅要求纯度这么高?芯片上的电子元件非常微小,如果用5 纳米制程工艺制造芯片,上面有1 纳米的杂质就会把整块芯片废掉。我们不妨打个比方,如果一条公路40 米宽,公路中间有块1 米宽的大石头,汽车可避开这块石头走,不会造成交通拥堵。

但是,如果一条公路只有5 米宽,公路中间有块1 米宽的大石头,汽车就避不开这块石头了,这条公路就堵死了。

不掌握硅的提纯技术,不可能造出芯片来。这方面我国与国际相比仍有一定差距。

实际制造中,芯片通过光刻、刻蚀等手段将电路布图集成于晶体硅上,也就是大家常说的光刻机、蚀刻机,中国已经有了5 纳米的蚀刻机,但光刻机一直没有显著突破。

“光刻机”这个名字很有误导性,让人误认为光刻机是在晶体硅表面上“刻”出集成电路来。其实,芯片不是“刻”出来的, 而是“ 照” 出来的。光刻机把集成电路图投影到晶圆表面的光刻胶上,光刻胶曝光后,通过化学药液把曝光区域蚀刻,然后清洗, 这样, 集成电路的图形就出来了。光刻过程和传统照相的照片冲印是一个道理,光线通过底片让相纸感光,然后把感光的相纸放在药液里显影、定影。一块芯片要经过数十次甚至数百次光刻。

中芯国际为了实现7 纳米的技术突破,曾向荷兰阿斯麦公司订购一台最先进的光刻机,但因为美国从中阻挠,迟迟未能交付。

再有,芯片上有数以千亿计的电子元件,这么庞大的电路靠人工是画不出来的,必须使用电子设计自动化软件EDA。EDA在芯片制造过程中起着决定性作用, 芯片的功能和集成度, 完全取决于EDA 的设计能力,而EDA 由美国凯登、新思科技和明导三家公司垄断。

以上种种现实,让中国芯片制造业的发展举步维艰,为此我国每年要进口超过3000 亿美元的相关商品,而我国的石油进口每年也不过2000 亿美元。

全球化既是问题也是答案

随着中国芯片被高度关注,大家都担心每年进口这么多芯片,如果人家不卖了,怎么办?其实,国外的芯片公司也在苦恼,如果我们买不了了,他们该怎么办?毕竟中国采购了全球2/3 的芯片,没有人想放弃如此庞大的市场。目前,有部分公司已经获得向华为供货的许可证,其供货范围主要是面向笔记本和服务器等低端芯片市场。

这提示我们,在今天,全球化之所以重要,是因为它是一张利益网络,大家你中有我我中有你,既会带来摩擦也是一种解决问题的方式。

芯片制造非常復杂。一块7纳米芯片大概需要4000 道流程,一个7 纳米工艺的芯片制造工厂,其建设成本相当于一个航空母舰战斗群的制造价格。而制造一枚芯片,至少要用到元素周期表118 种元素中60 种以上的元素所组成的上万种材料。不夸张地说,芯片制造工艺是目前人类最精密、最复杂的工业技术,没有之一。它需要大量的技术、人才、资本相互合作,是一个庞大的全球化产业网络,任何一个国家都不可能垄断全部环节。

产业的复杂性也注定了其脆弱性。任何一个节点出问题,都会给整个产业造成不小的麻烦。比如,在2019 年,日本和韩国在半导体领域开打,美国罕见地出面调停,可见这种冲突后果的严重程度。而美国也正是利用了芯片产业脆弱性的特点,来制约华为甚至中国芯片产业的发展。

即便如此,我们也没有理由一味悲观。中国的原子弹、航空航天、北斗导航,没有一项不被封锁,没有一项不被打压,但没有一项至今仍孱弱不堪。而针对芯片行业的特点,我们应对打压最好的方式,除了继续在该领域加强自主创新能力,还要继续扩大开放,把自己牢牢嵌入芯片产业网络之中。

无论哪家企业都不能忽略中国市场的存在,特别是2019 年全球芯片市场比2018 年下降大概10%。而2020 年的疫情又对芯片行业产生了巨大的下行压力,在此情况下,只有更大范围的国际合作和更健康的市场竞争,才能让整个行业快速复苏。华为轮值董事长郭平说:“尽管华为不断遭受打压,也不会走向封闭和孤立,会坚持全球化脚步发展。”

(资料来源:《羊城晚报》、得到app 邵恒头条专栏等,魏克图)

猜你喜欢

光刻机电子元件晶体管
镜鉴ASML成长之路
围 观
(0.10~0.14)mm电子元件用极薄冷轧钢带开发
2.6万亿个晶体管
光刻机打破ASML垄断还要多久?
2020年(第33届)中国电子元件百强企业名单
功率晶体管击穿特性及测试分析
电子元件与材料 月刊
电子元件与材料
一种新型的耐高温碳化硅超结晶体管