电力电子集成电路的静电放电保护探讨
2019-02-13黎翠凤
黎翠凤
(鲁东大学,烟台 264001)
伴随当今半导体集成电路技术的持续更新与完善,电力集成电路在此背景下,呈现出迅猛的发展势头。既往的电力电子电路,通常将功率晶体管当作主体,所形成的集成电路功能单一,工艺多为双极集成电路,工艺线条宽,器件尺寸大,有一定抗静电能力,一般情况下,不需要另外添加用于实施静电放电保护的相关电路。但需要指出的是,伴随其功能的越发丰富,以及设备类型的日渐多种多样。做好静电放电保护显得越来越重要。本文围绕电力电子集成电路,就其静电放电保护方法作一探讨。
1 静电放电的概念分析
(1)器件抗静电放电能力。所谓器件抗静电放电能力,从根本上来讲,就是在选定模型后,器件任一端口间的组合,经受3次正极性、反极性规定电压冲击下,所形成抗静电能力所对应的最低值。(2)抗静电放测试模型。当前,主要有人体模型、机器模型、插座放电模型、带电器件模型等。(3)器件耐静电等级。以电路为对象,对其开展有针对性的静电试验后,对于此时的HBM 模型来讲,依据其所具有的抗静电能力,可将其划分成四等级,分别为0~1999V、2000~3999V、4000~8000V 与>8000V,针对0~1999而言,其实为静电敏感型器件,而对于>8000V 的器件,多为静电不敏感器件。
2 静电放电保护方法
2.1 选择保护方案的基本原则
静电保护器件连接于电路端口上,会使输入端漏电增大,而且还会使负载电容增大。若增加保护电阻,那么会带来其它方面的影响。因此,在对保护电路进行设计时,需秉持如下原则:其一,设定合理且实用的静电保护方案,可呈现出比较好的保护效果,而且在整个芯片中所占面积要小。其二,不能将原先设计架构当中电路的整体性能降低;其三,将原先的工艺流程及相关步骤予以保留。
对于电力电子集成电路来考量,其在具体的工艺上,较为负载,且电路类型也比较多样;另外,各种差异性的电路间,无论在信号类别上,还是在工作电压上,再或者是端口性质上,均会有比较大的差别。所以,采用的保护方法也不同,需要进行详细区分,酌情对待。
2.2 常用保护方法
2.2.1 Zener 二级管保护
设计要点为:(1)采用发射机-基极二极管;(2)需要把扩区设计成圆角,另外,其半径需大于结深;(3)将接触孔与扩区间的套刻增大;(4)扩区面积需≥800μm2。因EB 结的击穿电压仅为6伏,当处于放电状态时,此时所配套的保护器件,可以承受比较小的功耗。究其原因,主要在于其在一种低电压下,便能够实施相应保护,而且对内部电路同样有着比较突出的保护效能;但需强调的是,针对此种保护法,其不适用于那些信号输入电路,另外,一些输出电路同样不适用。还需要指出的是,如果有较大的结电容,可能会使电路的频率特性降低。但对于多数模拟电路的输入端而言,乃是首选。
2.2.2 NPN 晶体管保护
需要指出的是,在NPN 晶体管保护方面,所采用的是当前比较先进且实用的基极接地的NPN 三极管;此外,还采用的比较高效的ESD 保护方法;需要说明的是,针对输入电压来讲,如果其达到Vces(NPN 晶体管),针对此时的晶体管而言,便能保持通导状态,如果通导处于一种始发状态,并且跨于晶体管上的电压小于Veco,那么通导会自动停止。而对于45V 工艺来分析,Vces 通常维持在60V,而Veco 通常为40V。此种snapback而言,其在ESD 保护架构当中,对晶体管当中的放电功耗,有不错的降低效果。所以,从总体上来讲,其相比单个反向BC 结的保护,效果更为突出,可将其用作电压比较高的输入或输入端。另外,还需要指出的是,NPN 三极管除了能够保护正电压(PAD-地)之外,还能还能对负电压也能提供保护,因为VB 结的存在,同样提供正向二极管保护通路。所以,PAD-电源的保护,同样可用此来达成;针对正电压而言,放电通路通过PAD,再保护晶体管到地,最后,通过通过与之相配套的正向二极管,直入电源。而针对各PAD 之间所存在的放电来讲,都可以利用地线来完成。因此,借助单个晶体管,便能得到比较理想的保护作用。
具体的设计要点:(1)针对晶体管所对应的发射区来讲,其面积大于或等于500μm2;(2)对于晶体管所对应的发射极而言,其与基极设计之间呈圆角;(3)套刻尺寸稍大;(4)需有深磷扩散,用于降电串联电阻。
3 结束语
综上,为了能够最大程度提升电力电子电路的实用性与可靠性,选用抗静电放电保护设计尤为关键与必要。需要指出的是,由于电路类型比较复杂多样,且在具体的工艺技术上,也有比较明显的不同,因此,采取的保护方法也不同。但无论有多达的差异,其设计原则始终不变,因此,采用一些共同设计技术,仍然有效果。