CPC分类号在图像传感器领域的应用

何 贝

国家知识产权局专利局专利审查协作湖北中心 湖北 武汉 430070

一、H01L27/146领域CPC分类号分析

IPC对于H01L27/146仅有2个分类位置,CPC分类体系有71个分类位置,新增了69个分类位置,从结构、类型和制造方法三个角度对H01L27/146进行了细分。

涉及图像传感器的结构的分类号主要集中在H01L27/14601及其下位点组,主要包括H01L27/14603像素元件,地址线或者栅极电极的特殊几何形状或者布置,H01L27/14607感光区域的几何形状;H01L27/14614具有特殊栅结构的晶体管,H01L27/14616 以晶体管的沟道为特征的,H01L27/14618 容 器,H01L27/14621 颜 色 过 滤 装 置,H01L27/14623 光 学 屏 蔽,H01L27/1463像素隔离结构,H01L27/14627微型透镜,H01L27/14629反射器,H01L27/14636互连结构,H01L27/1464背照式成像器结构等。

按照成像器类型可以分为：H01L27/14643 MOS成像器、H01L27/14665光电导体层的成像器、H01L27/14678接触型成像器、H01L27/14679JFET或SIT成像器和H01L27/14681双极性晶体成像器和H01L27/148电荷耦合图像器件等六大类。

涉及制造或处理成像器件或其零部件的方法或装置的分类号集中在H01L27/14683及其下位组,主要包括H01L27/14685涂层或光学元件的工艺,H01L27/14687晶片级工艺,H01L27/14689 MOS技术,H01L27/1469 组装件,即混合集成,H01L27/14692 薄膜技术,H01L27/14694 有源层,H01L27/14698用于器件的后处理等。

二、CPC分类号检索实例

【案例一】

发明名称：背照式CMOS影像传感器及其制造方法申请号：201310210850.X

权利要求：一种背照式CMOS影像传感器,其特征在于,包括：半导体基底,所述半导体基底包括正面及背面;所述半导体基底的背面形成有多片滤光片;每相邻两片滤光片之间形成有金属遮蔽侧墙,所述金属遮蔽侧墙的顶面等于或者高于所述滤光片的表面。

发明构思：通过将金属屏蔽侧墙设置得足够高(等于或高于滤光片的表面),以将光线限定在被照像素中,避免光线进从金属隔离的顶面反射,造成影像传感器的像素之间的光学串扰。

检索策略确定：本申请的关键技术手段为金属屏蔽侧墙等于或高于滤光片的表面,其作用为实现光学屏蔽,因而在CPC分类号中首先定位到分类号H01L27/14623(颜色过滤装置相关的光学屏蔽),而H01L27/14621(颜色过滤装置)则限定了滤光片。这两个分类号体现了本案的关键技术手段,同时确定关键词(Barrier?or shield+or block+)sfilter? 以限定金属屏蔽侧墙和滤光片的位置关系,检索式如下：

1 VEN 597 /CPC H01L27/14621 and H01L27/14623

2 VEN 75916 (Barrier?or shield+or block+)s filter?

3 VEN 111 1 and 2√

在检索式3中迅速发现可以评价本申请新创性的X 文件：US2013/0027577 A1,极大的提高了检索效率。

【案例二】

发明名称：CMOS图像传感器及其形成方法

申请号：201310084627.5

权利要求：一种CMOS图像传感器,其特征在于,包括：基底,所述基底包括第一像素区域和与之相邻的第二像素区域;位于所述基底内的浅沟槽,所述浅沟槽位于第一像素区域和第二像素区域之间;覆盖所述浅沟槽的底部和侧壁的隔离层;位于所述浅沟槽内的隔离层表面的导电层;覆盖所述导电层的介电层,所述介电层和隔离层共同包裹所述导电层。

发明构思：本申请通过对像素间的隔离沟槽进行改进,在浅沟槽内形成与各像素区域相隔离的导电层,以使相邻像素区域的光生载流子更多的汇集在光电转换部,防止串扰现象发生。

检索策略确定：本案的关键技术手段涉及浅沟槽隔离结构,因此迅速定位到分类号H01L27/1463成像器件的隔离结构,该权利要求还限定了隔离沟槽位于相邻像素之间,由此确定分类号为H01L27/14609图像传感器的像素元件,同时对发明点沟槽内填充导电层进行关键词表达(trench?or groove?or STI)s(conduct+or metal),检索式如下：

1 VEN 496 /CPC H01L27/1463 and H01L27/14609

2 VEN 158515 (trench?or groove?or STI)s(conduct+or metal)

3 VEN 31 1 and 2√

检索式3 中发现多篇影响本申请创造性的X 文件,其中US2012153127 A1公开了产品和方法步骤。极大的提高了检索效率。

通过对图像传感器领域的CPC分类体系情况及其在检索中的应用可以看出CPC分类系统相较于IPC具有明显优势,我们应密切关注CPC的发展动态和研究成功,并在实际工作中积极加以运用,进一步提高检索水平和审查质量。