专利名称：光电含钼蚀刻废液再利用处理方法

专利申请号：CN201510397109.8

公开号：CN105254095A

申请日：2015.07.08

公开日：2016.01.20

申请人：中国台湾华钼实业股份有限公司

本发明涉及一种光电含钼蚀刻废液再利用处理方法，是将含钼蚀刻废液中的钼离子吸附于阴离子交换树脂内饱和之后进行分离解析作业，所得的分离液含高浓度钼金属离子再利用回收处理，采用的制程技术包含纯化、除杂、晶析、锻烧等程序制成高纯度及高溶解度触媒级氧化钼、高纯精钼酸、高纯度钼酸钠及钼酸铵等钼盐类产品并将光电产业含钼蚀刻废液中钼离子浓度由约10 mg/kg含量降至0.5 mg/kg以下。