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科研装备研制项目——“高离化率磁控溅射复合受控阴极电弧镀膜装置”通过中科院验收

2016-11-10中科院宁波材料所

表面工程与再制造 2016年4期
关键词:磁控溅射镀膜阴极

科研装备研制项目——“高离化率磁控溅射复合受控阴极电弧镀膜装置”通过中科院验收

2016年6月30日,中国科学院宁波材料技术与工程研究所承担的中国科学院科研装备研制项目—— “高离化率磁控溅射复合受控阴极电弧镀膜装置”顺利通过了中国科学院条件保障与财务局组织的验收。验收专家组由来自苏州纳米所、物理研究所、合肥强磁场科学中心、中国计量大学、苏州大学、金属研究所、兰州化物所、上海硅酸盐所等有关单位的专家组成。中国科学院条件保障与财务局副局长曹凝、科技条件处副处长姜言彬出席了验收会。

上午,测试专家组听取了项目组测试说明,审议和确认了测试大纲,根据实施方案规定的要求从研制装备的运行、使用情况、技术测试实验结果等角度对各项技术指标逐一进行现场测试,形成技术测试报告。

下午,验收专家组听取了项目组工作报告、财务报告、使用报告和测试专家组的测试报告,现场查看了装备的运行情况,查阅了文件档案及相关财务账目。验收专家组认为,项目承担单位完成了实施方案规定的研制任务,达到了研制目标,同意项目通过验收。

“高离化率磁控溅射(HIPIMS)复合受控阴极电弧镀膜装置”项目通过对高功率磁控管模块、受控阴极电弧源模块、HIPIMS电源、关键子系统、PLC控制等的设计优化和适配加工,研制出了一套具有核心专利技术的高功率脉冲磁控溅射复合受控阴极电弧镀膜装置,该装备具有离化率高、放电稳定、绕射性好、大面积均匀、运行可靠的特点。利用该装置,不仅实现了以TiAlSiN与DLC为主的两类目标硬质涂层材料高质量制备;且光谱与探针原位诊断表明,HIPIMS技术实现了金属Ti的离化率达80%,等离子体密度达1019/m3。另外,该装置具有良好功能拓展性,能实现CrB2超硬涂层和高纯MAX相防护涂层的设计与制备。

(中科院宁波材料所)

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