1%的相似性能构成侵权么?
2015-12-22徐晓丹
1%的相似性能构成侵权么?
点评 1集成电路布图设计纠纷也会越来越多,越来越复杂,专业人士如何既能充分研制创新集成电路,又不会轻易踩到侵犯知识产权的“红线”,是一个值得注意的问题。
本案中这近于1%的相似性能构成侵权么?二审法院将会如何判定?本律师根据二审判决就以下要点简单分析如下:
其一,鉴定机构的意见是否合理合法?
二审法院除明确鉴定机构和鉴定人员资质合法、鉴定程序合法外,重点说明了鉴定方法的合理性,即依据《集成电路布图设计保护条例》所确定的保护标准,比对是在双方集成电路布图设计的相似部分之间进行,而不是去比较两个完整的布图设计。
其二,双方的涉案芯片是否相同?
集成电路布图设计的创新空间有限,因此在“相同或实质性相似”的认定上应当采用较为严格标准。法院在明确“工艺不是布图”、“互联线路虽然是集成电路布图设计考量时的参考因素之一,但布图设计的侧重点更在于有源元件和元件与互连线路的三维配置”等原则后,依据本案证据认定,即使按照严格的认定标准,双方芯片的集成电路布图设计仍有极小部分构成实质性相似。
其三,钜泉公司的“2个点”是否具有独创性?
钜泉公司已经对自己的“独创性”提供了权利登记证书,而且专利复审委经审查后也终止了撤销程序,鉴定机构的结论也表明其芯片中的“2个点”具有独创性。反之,锐能微公司提交的证据材料不足以证明其所称的“常规设计”之说,故法院认定钜泉公司“2个点”具有独创性。
其四,锐能微公司的行为是否侵犯钜泉公司的权利?
法院通过终审判决认定了即使是占整个集成电路布图设计比例很小的非核心部分布图设计,其独创性也应得到法律保护。
所以在本案中,锐能微公司未经许可直接复制了钜泉公司芯片布图设计中的“2个点”并进行商业销售,确实构成了侵权。
侵权方的代价是什么?法院该如何判断钜泉公司的损失呢?
因锐能微公司在法庭上拒绝提供相关财务资料,原审法院只能根据可查询到的信息来综合评判,比如其网站页面显示的销售数量,同时综合考虑了法院保全的锐能微公司部分发票、“2个点”所占布图面积及作用、锐能微公司钜泉公司受让了珠海炬力集成电路设计有限公司通过直接复制缩短了芯片研发时间而获得的市场竞争优势等情况,最终判决赔偿钜泉公司320万元。
一审法院关于赔偿数额的考虑是较为全面的,加之二审期间,两方上诉人亦未就损失赔偿事宜提供更多的证据,最终上海高院总体评价本案后作出了驳回上诉、维持原判的终审判决。
我国目前在保护集成电路布图设计方面的法律规定主要是《集成电路布图设计保护条例》和《集成电路布图设计保护条例实施细则》,其内容包括了布图设计权利专有权的界定、取得权利的流程、权利的确认与保护等方面。
下面本律师便就我国有关此权利的法律规定做一简单梳理:
布图设计专有权,是指通过申请注册后,依法获得的利用集成电路设计布图取得商业利益的权利。
(一)权利的主体
按照我国《集成电路布图设计保护条例》第3条的规定,中国自然人、法人或者其他组织创作的布图设计,依照本条例享有布图设计权;外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的,依照本条例享有布图设计权;外国人创作的布图设计,其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或共同参加国际条约的,依照本条例享有布图设计权。
(二)客体条件
集成电路布图设计必须具备独创性。
布图设计应当是作者依靠自己的脑力劳动完成的,设计必须是突破常规的设计或者即使设计者使用常规设计但通过不同的组合方式体现出独创性时,均可以获得法律保护。
(三)权利人享有的权利
1.复制权,实际上是重新制作含有该布图设计的集成电路;
2.商业利用权,是指专有权人为商业目的而利用布图设计或含有布图设计的集成电路的权利。
(四)取得权利的方式和程序
目前,世界各国主要采取三种取得方式:自然取得,登记取得,使用与登记取得。大多数国家采取登记取得制。我国也采取登记制度,由国家知识产权行政部门负责受理权利人的申请文件;布图设计登记申请经初步审查,未发现驳回理由的,予以登记并公告。需要注意的是,未经登记的布图设计是不受法律保护的。
(五)权利的行使
1.布图设计权的转让
权利人将其全部权利转让给受让人所有,即本案中钜泉公司与原集成电路设计权人珠海炬力公司的权利转让行为。根据条例规定,转让布图设计权的,当事人应当订立书面合同,并向国务院知识产权部门登记并公告。
2.设计权的许可
权利人依据合同约定,在权利不转让的情况下,许可其他主体使用其布图设计权的行为,此类许可也应当订立书面合同,以避免今后权属出现争议。
(六)权利的保护
1.侵权行为
所谓布图设计的侵权,是指侵犯了布图设计人的权利,依法应当承担的法律责任。包括侵犯布图设计人的复制权和商业利用权。本案中,一审被告锐能微公司便是侵犯了钜泉公司的上述权利,被法院判决赔偿权利人公司损失的。
2.保护期限
布图设计权的保护期限为10年,自布图设计登记申请之日或在世界任何地方首次投入商业使用之日计算,以较前日期为准。但是,无论是否登记或投入商业利用,布图设计自创作完成之日起15年后,不再受到保护。
在本文最后,再次提醒大家注意的是,未经登记的布图设计不受我国现行条例的保护。如果企业独立创制、研发了集成电路的布图设计,为维护本企业对此项设计的专有性或希望通过转让或许可的方式产生经济收益,一定不要忽视法律法规。