我国高性能阴离子交换膜取得突破

我国在采用等离子体方法制备高性能阴离子交换膜方面取得新进展，开发出了一种绿色、温和的阴离子交换膜制备新方法。这一成果由中科院合肥物质科学研究院等离子体物理研究所完成，近日发表在能源领域学术期刊《电源杂志》上。目前，该研究已申请2 项国家发明专利，有望直接面向市场应用。

研究人员以聚合物粉体为基体，经等离子体轰击和单体接枝聚合反应，在聚合物粉体上直接引入阴离子交换基团，制备了功能基团均匀分布的阴离子交换膜。制得的阴离子交换膜具有较好的热稳定性、化学稳定性、离子交换容量、离子电导率和较低的乙醇透过率。

阴离子交换膜因对离子具有选择透过作用，在能源、环境、化工等领域有着广泛的应用价值。目前，阴离子交换膜的制备方法主要有氯甲基化法和辐射接枝法。氯甲基化反应常需要使用剧毒致癌物质氯甲醚，且季铵化试剂有机胺也具有毒性和挥发刺激性。辐射接枝法虽然可以避免使用氯甲醚，但仍需大量使用毒性有机胺试剂。同时，高辐射能量容易引起聚合物基体结构损坏，影响膜的稳定性。