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美国 Natcore 科技公司建设抗反射涂层液相沉积处理站

2011-02-13

浙江电力 2011年4期
关键词:晶圆硅烷液相

美国 Natcore 科技公司建设抗反射涂层液相沉积处理站

美 国 Natcore 科 技 公 司 (Natcore Technology)于2011 年 3 月 15 日开始建设太阳能电池硅晶圆抗 反 射 (antireflective, AR) 涂 层 液 相 沉 积 (liquid phase deposition, LPD)处理站。 据称 该站将利用该公司的专利技术为现有太阳能电池制造方式带来一场重大变革。

目前太阳能电池采用化学气相沉积(chemical vapor deposition, CVD)方法在高温真空炉里制造,并需使用剧毒易燃硅烷等危险化学品及具有相当厚度可承受高温加热的硅片。 而处理站采用 LPD技术 又称湿 化学 法 (wet chemistry)在温 度 适 中 的化学池里制备 AR 涂层,在过程中无需使用硅烷,极大地减少了能耗及硅的使用量,从而降低太阳能电池制造成本并减少环境污染。

处理站为全封闭式,并配有晶圆预清洗辅助系统, 可在 LPD 处理之前对晶圆进行清洗。 此外,还将最新尺寸设置和过程控制技术与美国MicroTech 公司用于清除轻度金属污染物的最新干燥模块相结合,有利于实现电池的最佳性能。

系统的主要特征是对涂层工艺实施全程监测,并利用 MicroTech 公司分光计系统对化学池晶圆的AR涂层厚度实施精确测量,同时还可根据需要更改化学药剂成分与使用时间,为电池生产带来便利并提高精确度。

摘译自互联网

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