原子光刻
2009-03-24巨新ＷＡＮＧＺｈｏｎｇ－Ｐｉｎｇ
物理 2009年1期
巨 新 ＷＡＮＧ Ｚｈｏｎｇ－Ｐｉｎｇ
摘要与光子和电子不同，原子的激发亚稳态具有方便操作的内能态结构，这使利用内能态的光学淬灭原理实现光刻技术成为现实，基于原子光学的中性原子束光刻技术是下一代光刻技术(the next generation lithography，NGL)的一种，它可分两种途径实现：激光驻波原子直沉积技术和亚稳态中性原子光刻技术，前者可以实现图案的纳米尺度特征、大面积平行沉积和高分辨率；后者结合有效的抗蚀剂，同样可以实现纳米图形制造，在基板上获得的尖锐边缘分辨率目前可达40nm，两种途径的原理相差甚远，但最终获得的结果相似。
关键词原子光刻，原子光学，微纳米制造
