高管研发背景、短视主义与企业创新持续性——来自中国制造业上市公司的经验证据

徐 燕 樊 晨

（新疆财经大学工商管理学院 新疆乌鲁木齐 830012）

一、引言

党的二十大报告指出“必须坚持科技是第一生产力、人才是第一资源、创新是第一动力，深入实施科教兴国战略、人才强国战略、创新驱动发展战略，开辟发展新领域新赛道，不断塑造发展新动能新优势”[1]。《中国制造2025》指出我国制造业正不断通过技术创新来提升自身创新能力。但华为、中兴等多家企业受到美国多次制裁的客观事实也告诉我们，我国制造业只有不断增强创新能力，攻克“卡脖子”技术，拥有自身的核心技术，才能在国际舞台拥有话语权。熊彼特[2]在创新理论中强调了持续创新的重要价值，指出持续创新在动态变换和高度不确定的市场环境中发挥着重要作用。综上，保持创新持续性既是制造企业赢得市场核心竞争力的关键，也是我国步入制造强国的关键，因此，如何提升我国制造企业的创新持续性成为一个重要命题。

关于创新持续性的影响因素，已有研究主要集中在外部环境及企业特征等方面[3-4]。但高层梯队理论指出，高管在组织经营活动中扮演重要角色，组织的经营结果映射出高管的决策行为，高管的认知思维对组织产生深远的影响[5]，可见，高管对于企业创新持续性有着重要影响。党的十九届五中全会明确提出要“发挥企业家在技术创新中的重要作用”，而高管作为企业技术创新决策的主要发起者，其个人特质及管理风格会对企业的生产经营活动产生巨大影响[6-7]。文献梳理显示，学者们关于高管背景特征影响创新的研究可分为三类。一是职业背景。有学者认为，具有财务经历的高管更具冒险精神，愿意承担创新风险，乐于进行技术创新[8]；高管职业经历越丰富，企业创新水平越高，其中，高管的跨企业经历对创新水平的影响最为显著[9]。二是海外背景。具有海外背景的高管通过三种方式促进企业创新：首先，通过提升企业风险承担水平和自信度促进创新投入[10]；其次，通过优化企业人力资本结构促进企业探索式创新[11]；最后，通过强化企业社会责任感提高绿色技术创新水平[12]。三是教育背景。高管的教育层次越高，其创新思维越强，对创新绩效影响越大[13]，越能推动企业履行社会责任，从而推动企业技术创新[14]。综上，高管背景对创新的影响已受到了学者们的关注，但职业背景和教育背景只是间接影响高管的创新管理和决策[15]，而拥有研发背景的高管对创新决策的影响更为直接，可以有效推动数字化技术创新[14]，做出有利于创新资源投入以及创新绩效提高的决策[16]。在绿色创新中，当高管是技术专家时，能有效提升企业绿色创新投入和创新效率[17]；在电商企业的平台化和高质量发展中，具有研发背景的高管能进行更有效的治理[18]。尽管学者们对高管研发背景与企业创新的关系已进行了较为广泛的研究，但创新并非一蹴而就，只有持续创新才能应对千变万化的外部环境，为此，本文拟对高管研发背景如何影响企业创新持续性进行研究。

创新具有风险性，可能失败，也可能短期内无法获得收益甚至不能收回成本。同时，上市公司中高管短视主义普遍存在[15]，短视主义使企业对研发活动重视不够，研发支出减少[19]，从而阻碍了企业的持续创新，最终不利于企业成长[20]。而具有研发背景的高管往往能够正视研发的长期性，其短视主义相对较弱，愿意为持续创新活动不断投入资金和人力。从企业实践来看，上市公司因管理者短视行为而遭遇负面影响也引起了各界关注，如康美药业和瑞幸财务造假事件等。基于此，本文拟将短视主义纳入研究框架，探讨其在高管研发背景和企业创新持续性中的中介作用。

综上所述，本文拟探讨高管研发背景对企业创新持续性的影响，并验证短视主义在其中的中介作用。本文的边际贡献主要有两个方面：第一，从高管特质出发，分析高管研发背景对创新持续性的影响，丰富了创新持续性影响因素的研究；第二，研究高管研发背景对企业创新持续性的作用机制，即分析短视主义的中介作用，为企业提升创新持续性提供依据。

二、理论基础与研究假设

（一） 高管研发背景与创新持续性

企业创新需要投入大量资金和人力，且可能具有较长的回报周期，此外，一次成功创新难以保证企业的长久竞争优势，因此，企业必须不断提高创新绩效，保持创新的持续性。已有研究发现，高管是创新的活力源泉[21]；高层梯队理论指出，创新决策的主体是高管，其职能是实现创新[5]；在企业研发创新过程中，高管的个体特质如认知、经历等会影响企业战略决策[22]。

烙印理论认为，个体的经历会形成与环境相匹配的烙印，即使环境发生改变，这些烙印也会对个体持续产生影响。高管的技术学习和研发工作经历塑造了高管的创新思维和决策特征，这会对其后续管理行为产生烙印效应。烙印过程包含三个核心要素：(1)敏感时期(sensitive period)：即环境对于个体影响较大的短暂时期。(2)环境烙印(imprint of the environment)：环境的主要特征对敏感时期的个体产生不可磨灭的影响，从而个体形成了与环境匹配的特征。(3)持续影响(persistence of imprints)：即使外部环境发生翻天覆地的变化，烙印仍将持续产生影响[23]。

在过去的学习和职业生涯中，技术的不断创新和环境的不断变化使有研发背景的高管处于特定敏感期，进而形成特定的决策行为，这一经历使高管充分认识创新研发的重要性[24]，并对研发规律有了深入把握[25]，同时，研发经历使高管积累了大量知识并强化了知识吸收能力，从而获得了维持企业创新持续性的资源[26]。其次，在不断变化的市场环境中，当企业创新研发面临较高的不确定性与风险、投资周期与回报周期较长时，具有研发背景的高管倾向于通过技术创新提升企业的成长性。最后，由于在特定敏感期形成的烙印会对以后工作产生不可磨灭的影响，因此，高管的研发背景使其具有技术创新的敏感性[27]，能更加透彻地分析创新项目的可行性，并凭借其专业知识对研发资源进行优化配置，从而保证并提升企业的创新持续性。基于以上分析，本文提出如下假设：

H1：在其他条件不变的情况下，高管研发背景对企业创新持续性具有显著正向作用。

（二） 高管研发背景、短视主义与创新持续性之间的关系

短视主义是指高管决策时只考虑当下利益而很少关注企业未来的长期发展[28]。企业高管作为投资决策制定与执行的核心人员，其个人特质极大地影响着企业对长期投资项目的态度[5]。当面临业绩压力时，企业高管可能从个人利益角度出发而谋求短期业绩和股票价格最大化，从而牺牲企业长远利益，放弃中长期研发创新项目[29]，形成决策中的短视主义。短视主义对创新持续性的影响主要体现在缩小研发投入规模、降低研发投入效率和传递负面信号三个方面。首先，当企业高管与所有者存在利益冲突时，短视主义会使高管产生“小富即安”的思想，出于利己主义而先满足自身利益再考虑企业利益，从而缩小研发投入规模[20]，降低创新持续性。其次，短视主义使高管格外关注能获得短期收益的项目，对需要长期投入的研发创新项目缺乏兴趣，进而降低研发投入效率。最后，短视主义会向市场传达“负面信号”，当市场参与者识别到高管为了短期利益而减少对创新活动的关注时，其投资意愿会降低，从而阻碍创新项目所需的外部资金投入，进而抑制企业创新持续性。

有学者将短视主义视为一种具有先天性和稳定性的个人特质[30]，但也有学者指出短视主义会受到后天环境的影响[31]。职业经验和知识积累发挥烙印作用，使具有研发背景的高管对创新活动形成了整体性认识，有效抑制短视主义的产生。烙印作用具体分为认知烙印与能力烙印。认知烙印表现为高管受到技术学习和研发岗位中高强度和高挑战性氛围影响，形成远见卓识和独特思维，对创新活动的重要性有清晰认识，关注并推进企业具有长期价值的研发项目，有效抑制企业追求短期利益的动机。能力烙印表现为研发背景使高管拥有突出的创新治理能力和资源配置能力（尤其是对外部资源的利用，因为持续创新更需要外部资源尤其是技术的注入[32]），凭着敏锐的判断力洞悉行业前沿，聚焦核心技术，从而有效抑制短视行为，推动企业持续创新。

综上所述，本文提出如下假设：

H2：在其他条件不变的情况下，高管研发背景能显著抑制短视主义。

H3：在其他条件不变的情况下，高管短视主义能显著抑制企业创新持续性。

H4：在其他条件不变的情况下，短视主义在高管研发背景影响企业创新持续性过程中起中介作用，即高管研发背景会通过抑制短视主义而促进企业创新持续性。

三、研究设计

（一） 样本选取与数据来源

自2020 年以来，新冠疫情给企业带来了前所未有的挑战。有学者研究认为，在危机时期，企业更关注生存和短期目标[33]，因此，在经济低迷与不确定的环境下，企业可能减少研发投资[34]。为减少新冠疫情对研究样本的影响，本文选取2010—2020 年A 股制造业上市公司作为研究样本。企业创新持续性数据来源于中国研究数据服务平台(CNRDS)，管理层短视主义数据来源于WinGo 财经文本数据平台，企业规模和股权集中度等控制变量数据来源于国泰安数据库(CSMAR)。本文针对原始样本还做了如下处理：(1)剔除ST、ST*和PT 上市公司样本；(2)剔除主要变量缺失的公司样本；(3)针对连续变量进行上下1%缩尾处理；(4)由于国泰安数据库中的高管研发背景数据大量缺失，因此本文通过对高管简历进行分析，剔除非高管团队人员，并对缺失的高管研发背景进行手工填补；(5)由于创新持续性指标是通过企业研发投入计算得出，针对缺失数据，本文查询了各公司年报并进行了手工补充。最终，本文获得了12432 个观测值，并运用Excel 和Stata16.0 软件进行了数据处理。

（二） 变量定义

1. 创新持续性

本文参考了国外学者Triguero 和Córcoles[35]的研究，同时借鉴了国内学者何郁冰等[36]的研究，采用研发投入的环比增长率乘以当期研发投入来衡量企业创新持续性。考虑到创新研发是一个长期且逐渐积累的过程，同时企业研发活动具有动态性和碎片化的特点，本文将当年和前一年的数据综合计算作为当期数据，为确保变量系数在合理的范围内，本文再对当期数据取对数，具体计算公式如下：

式中，IINt代表企业当期的研发投入，即第t年和第t-1 年的研发投入之和；IINt-1代表公司滞后一期的研发投入，即第t-1 和第t-2 年的研发投入之和；IIPt代表企业第t年的创新持续性。

2. 高管研发背景

本文选取两种方式衡量高管研发背景：一是用具有研发背景的高管占比衡量；二是采用高管研发背景的虚拟变量衡量，即具有研发背景的高管取1，否则为0。本文参考朱焱和王广[37]的研究成果，将满足以下情况的高管视为具有研发背景的高管：(1)具有工程师、研究员等技术类职称；(2)具有技术学习经历；(3)具有研发或技术岗位工作经历。

3. 短视主义

本文参考胡楠等[20]学者关于“短期视域”的词语统计方法，将能代表短视主义的词语分为直接和间接两大类，其中，直接类包括“马上”“立刻”等，间接类包括“压力”“契机”等。本文根据上市公司年报中的“短期视域”词汇总词频占年报中披露的管理者讨论与分析(MD&A)总词频的比例，再乘以100 得出短视主义数据。其中，“短视视域”词汇总词频包括10 个种子词集和33 个扩充词集。

4. 控制变量

参考已有研究[15]，本文选取企业规模(Size)、股权集中度(Share)、企业财务杠杆(Lev)、资产收益率(ROA)、现金水平(Cash)、独立董事比例(Indep)和固定资产率(Ppe)作为控制变量，且在回归中控制了年份(Year)和行业(Ind)。

综上，本文选取的主要变量及其定义如表1 所示。

表 1 主要变量及定义

（三） 模型构建

首先，为检验高管研发背景对创新持续性和短视主义的影响，本文构建回归方程（1）和（2）。其次，为进一步检验短视主义在高管研发背景与创新持续性之间的中介作用，本文构建回归方程（3）和（4）。

式中，各变量定义详见表1 中相关内容；ε为随机扰动项；i代表企业；t代表年份；Controlsi,t代表企业i的第t年的控制变量。

四、实证分析

（一） 描述性统计

表2 为样本的描述性统计。可以看出，高管研发背景的均值为0.248，最小值为0，最大值为0.83，标准差为0.204，表明具有研发背景的高管在样本企业中占了一定的比重，但不同企业的占比存在较大差异。创新持续性的均值为18.872，最小值为12.12，最大值为23.11，表明不同企业的创新持续性差别较大。短视主义的均值为0.082，最小值为0，最大值为0.45，说明各企业中高管短视主义现象有较大差异。创新持续性的标准差为1.401，短视主义的标准差为0.068，表明不同企业的创新持续性和短视主义的离散程度较小，说明选取的样本具有较好的代表性。

表 2 描述性统计分析

（二） 相关性分析

表3 为各变量的Pearson 相关性分析结果。表3 显示，高管研发背景与创新持续性的相关系数为0.103，在1%水平下显著正相关。高管研发背景与短视主义的相关系数为-0.065，在1%水平下呈显著负相关。短视主义与创新持续性的相关系数为-0.056，在1%水平下呈显著负相关。相关性分析结果表明，关键变量之间的相关关系初步符合本文研究假设的预期。

表 3 变量相关性分析

（三） 假设检验

1. 高管研发背景对创新持续性的作用检验

表4 为高管研发背景与创新持续性回归结果。从表4 中的M1 可知，高管研发背景与创新持续性的回归系数为0.256，且在1%的水平下显著为正，表明高管研发背景能显著提升企业创新持续性。因此，假设1 得以验证。

表 4 高管研发背景与创新持续性回归结果

2. 短视主义的中介作用

从表4 中的M2 可知，高管研发背景与短视主义的回归系数为-0.011，且在1%的水平下显著为负，表明高管研发背景能显著抑制短视主义，假设2 得以验证。从表4 中的M3 可知，短视主义和创新持续性的回归系数为-0.293，且在1%的水平下显著为负，表明高管短视主义显著抑制创新持续性，假设3 得以验证。

关于短视主义的中介作用，本文首先通过逐步回归法进行检验。从表4 可知，高管研发背景与创新持续性的回归系数为0.256（p＜0.01），说明高管研发背景正向影响创新持续性。模型4 将短视主义纳入回归方程，从表4 中的M4 可知，高管研发背景与创新持续性的回归系数由0.256（p＜0.01）降为0.254（p＜0.01），表明高管研发背景不仅可以直接提升创新持续性，还可以通过抑制短视主义促进创新持续性，体现了短视主义的中介作用。其次，本文还采用Bootstrap 检验法和Sobel 检验法进行中介效应检验。从表5 可知，在Sobel 检验中的Z 值为3.112（p＜0.01）大于1.65，在Bootstrap 检验法中短视主义的95%置信区间为[-0.183，-0.093]，不包含零，说明短视主义在高管研发背景影响创新持续性过程中的中介效应显著，假设4 得以验证。

表 5 Bootstrap 法和Sobel 法检验

（四） 稳健性检验

1. 替换解释变量

本文主回归中的解释变量为高管研发背景，采用企业中具有研发背景的高管人数占高管团队总人数的比例来衡量，为保证结果的稳健性，本文将高管研发背景替换为用虚拟变量衡量，回归结果如表6 所示。结果表明，高管研发背景在1%水平下显著提升企业创新持续性，在5%水平下显著抑制短视主义，因此本文结论具有稳健性。

表 6 替换解释变量衡量方式回归检验

2. 将解释变量“高管研发背景”滞后一期代入模型检验

考虑到高管研发背景对企业创新持续性的影响存在滞后效应，本文将解释变量滞后一期代入模型进行回归，结果如表7 所示。结果表明，高管研发背景在1%水平下显著提升企业创新持续性，在5%水平下显著抑制短视主义，说明本文研究结论稳健。

表 7 解释变量滞后一期回归检验

3. 倾向得分匹配估计（PSM）

为减少选择偏差，本文根据样本企业中的高管是否具有研发背景，采用倾向得分匹配估计（PSM）对控制变量进行一对一的近邻匹配，进而估计高管研发背景对企业创新持续性的处理效应，检验结果如表8 所示。一对一匹配后的平衡检验结果表明，匹配后的标准化偏差小于10%，说明协变量通过了平衡性检验。

表 8 一对一匹配后的平衡性检验

五、研究结论与管理启示

（一） 研究结论

本文以2010—2020 年制造业上市公司数据为研究样本，采用逐步回归法、Sobel 检验法和Bootstrap 检验法探究了高管研发背景对企业创新持续性的影响，并检验了短视主义的中介作用，最终得出以下结论：首先，高管研发背景对企业创新持续性具有显著正向作用。研发背景使高管具有创新意识和创新意愿，对持续创新的重要性有深刻认识，同时有能力对创新项目进行科学合理的可行性分析，有能力优化企业资源配置，从而保证了企业的创新持续性。其次，短视主义在高管研发背景对企业创新持续性的影响过程起中介作用。对具有研发背景的高管而言，以往的学习和工作经历形成了能抑制短视主义的认知烙印和能力烙印，从而削弱了企业追求短期利益的动机，最终提升了企业的创新持续性。

（二） 管理启示

第一，企业应加大力度引进和培养具有研发背景的高管。鉴于高管研发背景对企业创新持续性的重要性，企业不仅要多渠道引进具有研发背景的高层次人才，还要对拥有研发背景的员工进行有针对性的培养，充分发挥其技术专长，通过培育内部创新型人才，打造一批具有创新竞争力的管理团队。

第二，企业应高度重视持续创新活动。一方面，企业要建立和培育持续创新体系，制定创新战略，形成创新氛围，持续寻求新技术和新机会，使企业在激烈的市场竞争中获得较高的市场占有率和更多的投资，确保企业的持续发展。另一方面，企业要通过培训等方式改变高管的短视主义思维，摒弃“小富即安”的思想，营造提倡持续创新的文化氛围，为企业赢得竞争优势提供保障。