专利视角下集成电路企业技术创新合作网络演化分析

衣春波　胡梦雅　许鑫

关键词： 集成电路； 技术创新合作网络； 网络演化； 专利合作

ＤＯＩ：１０．３９６９ ／ ｊ．ｉｓｓｎ．１００８－０８２１．２０２３．０５．００８

〔中图分类号〕Ｇ２５０.２５ 〔文献标识码〕Ａ 〔文章编号〕１００８－０８２１ （２０２３） ０５－００７９－１１

集成电路产业发展与时代更迭密切相关， 是国民经济提升的重要支柱， 已成为各国（地区）战略经济发展的先导产业， 直接影响国家（地区）科技发展的战略计划与国际竞争力。但目前国内半导体芯片在产业链制造环节仍然受到国外企业的技术垄断， 限制了我国在半导体生产中的产能提升， 影响整体产业链环节的高效运转。“中兴事件” 与“华为断供” 事件足以反映集成电路领域的技术突破已经关系到我国的国际话语权［１］ ， 实现“卡脖子领域” 技术追赶与突破创新迫在眉睫。近年来， 政府高度重视集成电路领域的产业创新发展， “十二五”时期明确产业发展规模及技术目标， 针对产业链各环节出台具体配套措施； “十三五” 时期进一步加大资金投入， 强化人才支持力度， 布局重大科技专项， 尤其是“大基金” 二期的项目投入直接引领了全国各省份在半导体行业的投资热潮， 为规模相对较小的集成电路企业带来重大发展机遇［２］ 。

本文研究过程中采用２０１１—２０２０ 年专利数据作为衡量企业创新成果落地的重要指标， 结合专利数据与企业基础属性构建企业技术创新合作网络，分别从整体网络、产学研合作网络以及关系特征网络的角度， 分析整体网络与节点特征变化， 明确高校与科研机构的重要地位和特殊作用， 以企业技术、地域和产业链属性分析网络演化特征。将产业发展与实证分析结合， 数据导向暴露领域内合作关系、资源流通、政策导向中潜在问题， 帮助产业主体明确行业位置， 窥探演化过程中领域合作发展全貌。同时， 利用趋势预测未来发展， 为后续集成电路领域企业和政府制定发展策略提供参考。本文的主要创新性在于， 将传统研究中的单一合作网络拓展至整体、产学研和关系特征的三重视角， 通过对比分析网络演化各阶段内在关联及领域发展全貌， 为集成电路领域的技术突破提供内生力量， 持续性正向影响专利成果落地与产业瓶颈环节创新突破。

１文献综述

１.１集成电路领域发展相关研究

集成电路是国内重要战略部署领域， 尽快实现成果创新、技术突破能够提高我国核心竞争力。国内对于集成电路领域的发展研究主要从路径及政府支持、企业创新绩效两个方面作为切入点。

从集成电路发展路径及政府支持的角度， 集成电路作为整个信息社会经济发展的先导性产业， 对每个国家（地区）的战略发展和市场经济均有重大影响， 我国在该领域的技术发展和创新水平上， 仍与国外有较大差距［３］ 。因此， 政府带头投资了大基金项目扶持行业发展， 迫切希望利用自身优势在“中国梦” 的时代背景下解决“卡脖子领域” 的发展困境［４］ 。已有研究验证政府干预有效， 明确政策支持能够促进集成电路产业重组与升级［５］ 。部分学者将国内外发展现状进行对比， 总结发达国家（地区）竞争优势及经验， 重点分析國际相关政策保障体系及战略导向， 为国内发展提供建议［６］ 。有研究以国内各地区政策差异为切入点， 分析高技术产业发展与政府绩效间的关联， 以对标分析锁定政策重点保障政策适用性［７］ 。

创新是集成电路领域发展的核心引擎， 近年来， 国内学者对企业创新绩效关注密切。和文凯等［８］ 研究中小企业在美国半导体产业发展中的重要作用， 在尚未形成“技术范式” 的中期更易加速新技术的商业化发展。集成电路领域的创新发展伴随着创新合作网络的形成， 合作对象大多为产学研和企业间两种， 产学研能够整合多方力量发挥主体内在优势［９］ ； 企业间的战略创新联盟能够跨越资源异质性提升创新绩效， 直接影响集成电路产业发展［１０］ 。周磊等［１１］ 从企业年报信息中挖掘集成电路业务合作和资源关联信息。实际上， 影响集成电路领域的企业创新绩效因素众多， 除政策支持外，企业规模、资金投入、人员支持、市场集中度、组织协调网络的结构属性等均会对集成电路领域的企业创新造成影响［１２－１３］ 。

１.２企业技术创新合作网络相关研究

对企业技术创新的研究多数以提升企业创新绩效为目的， 企业间的技术交流和资源互通促使技术创新合作网络形成， 通过合作模式从外界获取信息、人才、知识、技术等资源， 促进技术突破、提升共同利益［１４］ 。

静态分析中， 学者经常以挖掘具体影响企业创新绩效的原因为研究目标， 影响因素主要包括两类， 一类以合作网络中展现的结构属性作为影响因素［１５］ ； 另一类大多从多维邻近性的角度展开因素分析［１６］ 。也有部分学者利用专利信息构建技术创新合作网络， 认为合作伙伴的选择是提升网络创新效率、实现差异化竞争的基础［１７］ 。尤其是产学研视角下的创新合作网络， 重点突出这种新型合作形式的优势与重要性［１８］ 。部分学者将这种两个及两个以上组织的组合形式定义为联盟或集群， 分析该群体的形成与演化［１９］ ， 联盟中的主体分别以市场为导向实现各自战略诉求， 包括跨国技术创新联盟， 合作对象增加了中介金融机构、政府等其他主体， 共同推进国际合作科技创新［２０］ 。这种联盟创新合作本质上仍是共同行动的多合作主体， 以联合形式综合创新优势， 提升企业绩效。

动态分析视角下， 可以分为两条研究路径， 一是技术创新合作网络在企业属性与外界环境不断变化的过程中， 呈现与细分领域相关的阶段性特征和动态演化规律， 如李培哲等［２１］ 划分卫星应用产业的应用时期为４ 个阶段， 分析网络拓扑结构的动态演化特征。分析演化规律时以网络结构作为数值测度细化演化过程， 主要包括网络密度、网络中心性、网络规模、小世界性等［２２－２３］ 。二是从系统动力学的角度出发构建演化仿真模型并验证， 通过模型实证分析演化机制， 如王道平等［２４］ 构建知识服务网络系统动力方程， 通过演化模型揭示网络演化过程。

１.３研究述评

集成电路领域的发展关联到国家核心竞争力的提升， 而合作是实现企业创新绩效提升、技术能力突破的重要方式， 对于高科技领域而言， 时空序列下的演化分析更适合结合国家政府在不同阶段颁布的政策， 吸取发展经验找到内在优势， 但重点仍聚焦单个网络演化过程， 极少有研究将整体网络与网络特征结合分析时空变化的差异性， 将整体网络与合作主体关系的特征网络共同纳入演化规律分析范畴的研究则更少。且单一产学研视角网络虽聚焦了该主体组合的发展优势， 但缺乏对大专院校、科研机构这两类主体与企业的差异性分析。因此， 本文将以整体网络演化、产学研合作网络演化、关系特征网络演化三重网络进行集成电路领域的技术创新合作网络演化分析， 从网络中心性和凝聚性双重角度研究网络结构演化特征。

２研究设计

２.１数据获取

专利数据满足可获取性、数值化、权威性等基础数据特征， 是技术创新合作的重要产出成果。本文以２０１１—２０２０年中国集成电路领域合作发明专利数据作为研究样本， 数据来源为ｉｎｃｏＰａｔ专利数据库， 该数据库完整收录了全球１２０个国家／ 组织／地区１.２ 亿多专利文献数据， 是国内首个将全球顶尖发明深度整合， 并将数据翻译为中文的专利信息平台， 数据字段完善， 数据质量高。由于专利数据公开有１～２ 年滞后期， 故２０１９年、２０２０ 年数据将仅做参考用途， 不作为最终计算和分析的依据。集成电路与半导体在日常使用中通常不做具体区分，因此， 本文以“集成电路” 作为主要关键词， 加入等价关键词“半导体” 辅助检索， 确定本文的专利数据获取检索式为： （（ＴＩＡＢ＝（半导体） ＯＲ ＴＩＡＢ＝（集成电路）） ＡＮＤ （ＡＰ－ＣＯＵＮＴＲＹ＝（ＣＮ） ＯＲ ＡＰＣＯＵＮＴＲＹ＝（中国））） ＡＮＤ （ＡＤ ＝ ［２０１１０１０１ ＴＯ２０２０１２３１］）。筛选申请人类型为企业， 专利状态为授权的专利， 并过滤申请人数量为１ 的专利， 得到中国集成电路领域企业合作专利数据集。本文中專利初始数据的获取时间为２０２２ 年１ 月３ 日。

２.２网络构建

将２０１１—２０２０ 年间的每两年作为一个阶段划分， 利用ＶＢＡ 编程将５ 个阶段下企业主体间合作次数关系转化为０～１ 矩阵， 以．ｃｓｖ 的形式导入Ｇｅ?ｐｈｉ， 调整网络节点大小及网络显示特性实现演化网络数据可视化。将０～１ 矩阵数据导入Ｕｃｉｎｅｔ 计算网络节点属性， 包括网络节点、连边、中心势在内的中心性特征数值， 密度及其标准偏差、弱成分数在内的网络凝聚特征数值等。除企业间申请人合作专利网络外， 将与企业产生过合作的大专院校、科研机构一起作为节点， 得到产学研技术创新合作网络。利用企业基础属性绘制演化图， 得到企业技术创新合作关系的特征演化网络。其中， 技术特征以企业合作专利成果总数做技术水平的定量标准；地域特征通过提炼企业申请人地址到省级， 绘制各省份间的合作演化网络； 产业链特征以企业主营业务划分所处产业链环节， 得到各阶段产业链上下游合作演化。

２.３分析思路

结合已构建的整体网络、产学研合作网络与关系特征网络， 本文将从以下４ 个方面展开研究： ①以２０１１—２０１８年集成电路联合申请授权专利分析创新合作网络基本特征； ②结合整体网络演化、网络中心性特征演化、凝聚特征演化三重视角分析企业间技术创新合作网络； ③基于动态网络， 分析产学研技术创新合作网络演化过程， 与企业间合作网络对比， 突出大专院校与科研机构在演化过程中的主要作用； ④基于多重网络视角， 分析企业间合作网络、产学研合作网络与关系特征合作网络主要特征与内在联系。基于这４ 个方面深化对集成电路领域的演化全貌认知， 指导产业内部主体充分发挥内在优势， 促进“卡脖子领域” 尽快颠覆创新发展。

３集成电路领域企业专利合作网络

集成电路领域专利申请人合作次数数据概况如表１ 所示， 专利合作次数最小值与最大值差距较大， 根据合作次数标准差， 整体分布同样存在较大差距。结合表２ 总合作次数排名前１０ 的申请人组合发现， 最大值对标准差的影响较大， 合作频率排名第一的上海中芯国际和北京中芯国际已形成稳定合作关系， １０年内输出大量专利成果， 是推动领域技术突破的重要力量。结合网络中心度指标， 上海中芯国际点度中心度和中间中心度一直位于排名前列， 而北京中芯国际中间中心度较低， 证明上海中芯国际是领域内的合作中心， 控制了大环境下的核心资源， 掌握技术突破必备的核心内容， 是其他企业进行创新项目必不可少的合作伙伴， 而北京中芯国际只是与单一企业的合作较多， 并未对整个领域内的资源掌控造成影响。

排名第六后的差距从３０～１缓慢减少， 证明领域内长尾效应明显， 大多数中小型企业１０ 年内仅合作１ 次， 关系并不稳定， 各企业都在积极探寻相对契合的合作伙伴， 整个领域更新快， 前期发展迅速但后劲不足的企业容易被新兴企业赶超并取代。不仅如此， 领域内的头部企业已形成一定垄断态势，创新能力远高于中小企业， 彼此已建立信任机制巩固关联合作。这些企业不仅是核心技术及资源的掌握者， 对整个领域的影响程度也很大。清华大学和中国科学院微电子研究所分别作为大专院校和科研机构排名靠前， 得益于政府对产学研协同创新的大力支持， 为集成电路做优做强提供了科研基础。

４集成电路技术创新合作网络演化

本节主要根据网络演化的具体规律及网络中心性、凝聚性等角度， 对技术创新合作网络特征做演化分析， 并结合产学研合作演化网络， 分析大专院校与科研机构对合作的影响变化。

４.１企业间技术创新合作网络整体演化

图１ 是以申请人为网络节点绘制的动态演化网络图， 其中网络中节点大小反映该企业节点的总对外合作次数， 节点连线代表企业间两两建立合作关系。网络演化中高合作专利产出节点在２０１２年以前尚处于变化中， ２０１３年开始明显增长。中芯国际上海总部主要与子公司稳定合作， 类似的还包括北大方正。一方面由于企业间本质关系亲密； 另一方面侧面展现企业在挑选合作伙伴时， 更易选择性质相似、技术更接近的企业。这是由于企业建立合作是知识传递与技术共享的过程， 背景知识差异过大会增加沟通成本。

在网络中的各个阶段都存在较多连边极细、节点极小的合作关系， 这些合作仅有１～２ 个发明成果， 表明领域中存在“长尾效应”。随着阶段发展， 连边数在整个网络中变化较小， 但是代表的企业在不断变化， 一方面说明企业在不断开展多元化合作， 打破边界尝试新组合、新思路； 另一方面也反映整个集成电路领域虽然已经度过了高速发展期， 但合作关系仍不够稳定。演化后期的网络图中整体较前期的节点大小和连线宽度差异减小， 部分头部企业的总创新研发下降， 中小企业与头部企业的差距不断减少， 企业可抓住背景红利缩小差距，制造技术壁垒并站稳核心位置。未来仍然有更多新兴企业加入集成电路领域， 竞争压力不断增长， 技术创新能够帮助企业成为网络中的桥梁企业， 享有优质资源， 而持续稳定输出高质量创新成果的前提离不开稳定的合作关系。

４.２企业间技术创新合作网络中心性特征演化

社会中心化理论认为， 中心化程度可以反映网络中各节点间的连通性以及对社会资源的掌控程度［２５］ 。为了能够了解整个半导体产业的发展概况及信息、技术资源发展特征， 本文从网络中心势的角度对网络节点中心化特征进行衡量， 表３ 展示了本文基于集成电路领域企业技术创新合作网络计算统计的中心性指标。

２０１３年， 整个集成电路领域合作网络节点数与连边数大幅度增长， 此后一直保持较为平缓稳定且略有下降的趋势。规模经济下市场可容纳的企业数量有限， 企业数量会维持在小幅度波动范围内。企业在２０１１—２０１４年迎来合作创新高速发展， 得益于２０１１年国务院发布了鼓励集成电路产业发展的若干激励政策， 并开展多项集成电路产业投资项目以促进产业的重点突破与整体提升。图２ 展示了产业专利成果产出数量变化趋势， 虽然在国家政府的引导下， ２０１３年涌入产业的企业增多， 但磨合后的创新产出效率提升却相对滞后， 回溯基础数据可以看到主力军为中芯国际上海总部与其子公司，该头部企业的专利成果数量与产业中的总专利成果产出数量变化趋势基本一致， ２０１９—２０２０ 年数据由于专利滞后性仅作参考， 证明头部企業能够直接影响整个产业的创新发展。依据产业整体积极向上的发展趋势， 创新成果产出自２０１８ 年后仍然会是上涨走势。

２０１１—２０１８年网络点度中心势整体较低， 呈现“Ｖ” 字型增长， 前期资源分布较为分散， 后续增长说明网络中有出现掌握核心资源企业的趋势，不愿意与其他企业产生积极合作， 影响网络主体性及成果产出。中间中心势反映前期网络中形成的小团体较多， 团体之间的交流过度依赖于中间节点，若该节点消失则意味着小团体间的交流被打破， 信息传输阻塞； 后期过度依赖某些中间企业的现象减少， 有效防止合作断层， 但下降趋势并不会一直保持， 领域内仍然会存在桥梁企业避免信息和资源被局限在固有范围内传播， 无法实现效益最大化。接近中心势先上升后下降， 后期数值差异较小， 有逐渐趋于平缓的趋势， 证明整个技术创新网络不受他人控制的程度逐渐减小， 产业发展已逐渐稳定。

４.３企业间技术创新合作网络凝聚特征演化

网络凝聚性分为整体凝聚性和局部凝聚性［２６］ ，若合作网络的凝聚性高， 则意味着该网络中的连边数高， 企业研发团队拥有较高的团队意识， 已经形成知识互动共享及传播的良好心智。本节主要选取的凝聚性分析指标如表４所示。

网络密度反映整体凝聚性与是否存在紧密合作关系， 呈现急速上升后略有下降的整体走向， 尤其在２０１１—２０１６年急速增长， 这期间不止是网络密度， 网络节点数和连边数也在同步增长， 证明产业在这段时间内确实是属于快速发展的状态， 不断有新兴企业加入产业链的环节中， 这部分企业的加入在整个网络中共享了大量连边数， 使得网络密度整体大幅上涨。２０１６年以后的网络密度略有下降，但较前期仍是上涨状态， 波动范围较小， 信息传输可能略有受阻， 该技术创新合作网络仍然有很大的增长空间， 网络密度增长缓慢与产业的创新合作发展密不可分， 影响网络中节点企业的信息共享能力及知识多元化。

网络局部凝聚性描述了网络中的子群成团程度， 局部凝聚性越高， 部分节点越容易形成子群，网络子群的凝聚性越强， 越容易带来专业化、差异化知识诱发技术创新。网络密度的标准偏差能够侧面分析局部凝聚性， 数值含义为网络子图的密度与网络平均密度的偏差， 数值越小， 偏差越小。该值的变化趋势呈倒“Ｖ” 型， 但整体趋势上涨， 在２０１５—２０１６ 年出现峰值， 头部企业的子群密度拉高了整个网络的平均密度， 其余子群的密度远不及平均密度， 局部凝聚性出现两极分化的状态， 头部企业对资源的优先掌握能力拥有高局部凝聚性， 技术专业形成壁垒， 内部子群创新成果随之增加， 中小企业尚未形成这种专业化技术， 因此难以攻破。

网络中的弱成分数可以辅助局部凝聚性演化分析。成分数在２０１３ 年开始增长并趋于稳定， 节点数增加而弱成分数未增加， 且至少含有３ 个节点的合作企业组数占比增加， 证明新企业组合不断增加， 已形成多元合作良好态势。网络中一对一的合作企业对增加了网络局部凝聚性， 却由于节点较少不易形成专业知识壁垒， 尤其是这部分企业以新加入网络的、基础技术尚在探索巩固期的新兴企业为主， 容易形成闭门造车； 但对于头部企业而言， 一对一的合作企业对会因为局部凝聚性高减少关系维护成本， 形成特有异质资源优势， 有利于单个企业发展， 却会对整个集成电路领域的技术突破造成限制， 因此， 仍有必要帮助领域内企业建立合作连边， 巩固合作关系， 提高网络凝聚性。

４.４产学研技术创新合作网络演化对比分析

本节在４.１的基础上加入与集成电路领域企业会产生合作的大专院校和科研机构， 绘制得出的技术创新合作网络演化图， 如图３ 所示， 与纯企业间演化图做对比分析， 探析科研机构和大专院校在创新演化中扮演的角色及影响变化。图３ 以大专院校作为主体属性的节点数量随演化上升， 而科研机构节点数量一直下降， 在产学研的发展演化中， 企业越来越倾向与大专院校展开合作。企业与高校展开项目合作可以推动技术创新， 为人才输送做铺垫；高校从项目中既可以获取物质支持， 也可以将理论与实际结合促进学生的实践能力和进入社会的衔接能力。除国内顶尖高校外， 其他高校经ｔｏｐ２ 院校的相关课程开展试验后也加入领域内人才培养的核心力量， 得益于政府加速集成电路产学研融合、架起科研与生产桥梁的一系列举措。

企业与科研机构的合作需求相对小一些， 输送人才的可能性小， 资源获取能力比高校强， 偏向于机构之间建立合作关系。科研机构在２０１９—２０２０年与企业间合作回升， 虽然仍然不及２０１１—２０１２年的高合作连边与高成果输出， 但是隐约有回升的迹象，为了技术的突破， 二者同样需要加大合作倾向， 进行优势互补。区别于图１中合作节点受到地理位置、产业链等诸多因素的限制， 在图３ 中可以很明显看到， 高校不受地理空间约束， 合作的企业往往跨越多个省份， 且合作方不会局限于某几个企业， 高校往往会与多方展开专利合作。高校和科研机构可以作为网络中的“桥梁” 为其他企业相互了解学习提供机会和渠道， 将网络已有三元结构转化为三元闭包， 为企业建立更合适和稳定的合作关系。

５企业技术创新合作关系的特征演化

本节主要从地域、技术水平和产业链３ 个角度展开节点关系特征的演化分析， 关系特征在技术创新合作网络的演化中势必也会呈现一定的规律特征， 挖掘相关特征能够进一步反映到节点合作的连边趋势上， 找到集成电路领域如何建立稳定合作的普适性。

５.１企业合作关系的技术特征

企业间技术水平的差异会导致交流与知识沟通成本增加， 主要反映在企业间对事物认知、知识储备、技术架构上的差异， 在磨合与知识接纳中需要花费较多的时间成本， 阻碍了知识与信息的高效传递。表５ 将所有企业间合作专利的类别进行统计，一项专利通常拥有１ 个或多个专利号代表技术内容， 专利号总数在２０１１—２０１８ 年的数量在演化后期逐渐趋于３００ 左右， ２０１９—２０２０ 年若不受专利滞后影响也应符合该趋势。反映了当前集成电路领域研究热点从加速拓展到逐渐稳定的趋势， 这３００多个热门创新活动主题也是集成电路领域的核心知识突破点。

表６ 将２０１１—２０２０年所有专利的主分类号涉及专利总和进行统计排名， 其中专利号为Ｈ０１Ｌ２１／３３６ 总计数排名第一， 具体产业链环节为晶体管和电路板的制作。纵向来看， 该专利分类一直是研究热门， 与国外存在较大差距， 需尽快突破创新。排名前１０ 的研究热点不断变化， 主分类号为Ｈ０１Ｌ２１／８２３８专利大类在演化前期仅有少量几个相关专利，但从２０１５ 年开始进入直线上升阶段， 互补场效应成为２０１５—２０１８年的热门议题。大多数专利分类在２０１１—２０１４年只有小幅度增长， ２０１５年后实现了较大幅度的增长， 证明２０１５ 年开始整个领域内的企业都在拓展研究主题， 尝试多角度实现技术创新。仅有Ｈ０１Ｌ２９／７８６的研究数量自２０１４年后一直减少， 有关薄膜晶体管的研究越来越少， 随之增加的是以互补场效应晶体管作为研究主题的专利创新。

５.２企业合作关系的地域特征

在诸多企业合作网络中， 地理因素始终作为重要演化因素纳入分析中， 企业在合作对象的考察及选择时， 也会将地理远近纳入考虑范围中。图４ 展示了企业所属省份的地理位置变化， 取申请人申请地址作为企业所在地域， 绘制地域演化网络图。跨省市合作上升趋势明显， 部分省市如上海市和江苏省， 连边比重并不高， 但是节点权重大， 代表该省市的内部合作较多， 同省市企业合作倾向更高。类似于北京市的一线城市受距离影响较小， 其他省市更愿意与邻近省市或省市内部展开合作， 如广东省与福建省， 从文化交流的角度上更容易接纳。类似位于长三角位置的省份， 整体围绕着上海市展开领域内的知识交流； 西部地区成果较少， 仍有很大发展空间。

网络演化侧面证明空间距离的增加会导致信任感降低。远距离将导致关于知识的重要信息传递受阻， 这部分信息失真的成本损耗伴随着企业经济与时间成本的增加， 尤其是在创新突破难度较大的项目中， 科研人员“面对面” 传播隐性知识格外重要。虽然现代交通及交流工具使短距离合作主体能够做到即时通讯和运输， 受外在运力的干预小； 但对于跨区域的企业而言， 仍然需要花费较多的成本在人员和材料器械的运输上， 受高铁、货车等交通工具的限制比非跨区域企业多， 且随着距离的增加， 这部分成本的支出也会相应增加。

５.３企业合作关系的产业链特征

若集成电路领域存在新兴技术导向， 整个产业链都会互相影响， 从而形成产业链连环调整。当前主要产业链上下游可以划分为设计、制造、封装与测试。封装与测试在实际运作中一般划分为同一个产业链环节， 简称“封测”。在基础发展期， 市场曾短暂地出现过ＩＤＭ 厂商， 其主营业务横跨整条产业链。随着技术的更新换代加速， 企业逐渐走向专业化、单一化的主营方式， 因此， 在对企业的主营业务进行环节划分时， 基本都可以将企业划分至不同的产业链环节。

表７展示了专利申请人企业所属产业链上下游的合作演变， 设计和封测环节较少进行内部合作，更倾向于与邻近产业链的制造环节合作， 以该产业链为主营业务的企业， 容易触达技术天花板， 企业会寻找邻近产业链做交叉领域合作， 促进上下游生产对接。制造环节一直是国内集成电路领域的短板， 与国际差距较大， 是技术突破的重点方向， 无论是上下游合作还是内部合作， 专利创新成果数量都占比最高， 尤其在２０１５ 年及以后， 制造环节的成果数量取得了突破性的增长， 预测未来仍然是重要发展及投入环节。

图５是企业所处产业链环节的个数演变， 反映网络中企业主营产业链类型的进入与退出。在２０１１年后ＩＢＭ 厂商不再出现， 企业及市场都更偏向于精细化方向发展。此外， 设计与制造环节的企业数量一直处于稳步增长中， 得益于政府着力增强产业链自主可控能力， 而封测环节的企业一直较少， 且有下降趋势。由此可见， 封测技术含量较少， 通过合作实现创新突破的意义相较于制造环节要小得多，产业发展需要聚焦在芯片的设计和制造阶段。

６结论与建议

本文利用ｉｎｃｏＰａｔ平台２０１１—２０２０年的专利数据构建企业技术创新合作网络， 重点分析前４个时间段探究网络演化特征与未来发展趋势， 分别从网络整体演化、网络特征演化两个方面对企业间的技术创新合作进行分析， 进而专注分析节点属性呈现的关系特征网络演化， 希望能够从关系特征中挖掘企业合作关系的本质倾向性变化。网络中“桥梁企业” 的数量逐渐增加， 信息机制的完善使网络凝聚性节点中心性有效增强促进合作产生。虽然与企业进行合作的科研机构数量逐年减少， 但是产学研间的合作能够促进领域内企业的交流， 打破地理距离带来的负面影响。目前， 集成电路企业技术研究方向不断细分， 并结合上下游产业链实现联合突破， 逐渐形成邻近地域协同创新发展趋势。

为突破集成电路领域技术垄断， 实现产业创新高质量发展， 国家应积极做好引导建设， 构建良好的政策环境大背景， 加大领域内的项目资源投入，为集成电路企业创造尽可能多的发展机会， 积极举办有关领域核心知识的讲座论坛， 做好产业又快又好创新发展引流。同时， 集中产学研的力量共同突破技术难题， 鼓励高校和企业间的合作， 减少距离限制， 为领域内的高质量人才输送做铺垫， 加强人才培养、输送、留用环节的政策保障。各地政府需注重区域化投资， 保证同一区域内能够实现充分合作， 在创新成果落地的情况下， 让区域产业进一步带动地方经济的发展。

企业作为集成电路领域创新发展的核心主体，应当抓住当前集成电路领域政策红利， 积极申报有政府支持的创新创业项目， 在尽可能获取异质性资源的情况下， 通过申报专利促进创新成果落地， 并运用在实际生产过程中以提升核心竞争力。发展时需注重技术创新对长远发展的有效性， 在维持现有合作关系的同时， 不断尝试新的合作对象， 在合作中吸取技术要點， 实现自我提升， 尽快提升在领域内的核心位置， 增加对资源和信息的掌控权， 实现能力提升的正向反馈。积极主动与高校和科研机构展开合作， 能够帮助企业引进并学习外部机构的先进知识， 联动发展形成优势互补协同创新。