武器工业

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含能共晶堆积结构的理论研究

张安帮，曹耀峰，马宇，等

采用Hirshfeld面、指纹图的方法，从密度、堆积系数、分子间相互作用的相对贡献方面，研究了已报道的六硝基六氮杂异伍兹烷（CL-20）、环四甲撑四硝胺（HMX）、苯并三呋咱氮氧化物（BTF）及2,4,6-三硝基甲苯（TNT）基含能共晶的堆积结构。结果发现，绝大部分含能共晶的堆积系数处于两组分之间。不同含能共晶中的相同含能分子与周围分子间相互作用的方向和大小不同。CL-20共晶中O…H、O…O作用所占比例之和大于70%，说明它们是晶体稳定的主导作用。HMX共晶中O…H作用所占比例大于50%，说明弱氢键占主导地位。与CL-20共晶和HMX共晶相比，BTF和TNT共晶中，C…O和C…C作用占较高比例，说明π堆积作用明显。

含能共晶；堆积系数；Hirshfeld面；指纹图

来源出版物：含能材料, 2015, 23(9): 848-857

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