OLED用含钼和/或铝金属膜的蚀刻液及其制备方法

专利申请号:CN201110316299.8

公开号:CN102392248A

申请日:2011.10.18

公开日:2012.03.28

申请人:绵阳艾萨斯电子材料有限公司

本发明公开了一种OLED用含钼和/或铝金属膜的蚀刻液及其制备方法。该蚀刻液，包括硝酸水溶液、磷酸水溶液、甜菜碱两性表面活性剂和水。其中，所述硝酸水溶液占所述蚀刻液总重的1% ～10%，优选2% ～8%;所述磷酸水溶液占所述蚀刻液总重的40% ～80%，优选50% ～70%;所述甜菜碱两性表面活性剂占所述蚀刻液总重的0.1% ～5%，优选0.5% ～2%;余量为所述水。该蚀刻液能有效改善蚀刻液和金属膜之间固液界面张力，提高金属表面的润湿性，不但稳定了蚀刻速度，提高蚀刻精度，最重要的是，能够有效的控制锥角在20°～70°，且没有蚀刻残渣，是一种高效高精度的蚀刻液，具有重要的应用价值。