专利信息

周雅文 提供

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周雅文 提供

干基板清洗装置

Washing apparatus with dry substrate：韩KR 2010015049[专]/ DOE Co., Ltd., S. Korea;K. C. EnC Co., Ltd. (Kim, Se Ho.)－2010.02. 12－9页.－KR 2008-75934（20080804）

本专利清洗装置包含： (1)提供压缩气体的鼓风机， (2)鼓风机下面的产生振动单元，用于压缩空气提供振动，（3）含喷射嘴的喷射部分， 能喷射压缩空气到基板并进一步压缩空气以冷却喷射嘴， (4) 含一组吸入口的吸入部分，有梯度的吸入压缩空气和外来物体和（5）一个离子发生器，其位于吸入口两边防止基板产生静电。与提供的压力相比，本发明可以进一步增加压力和喷射空气的速度，并在低温高压的洗涤条件下获得压缩空气，从而进一步增加洗涤效果。

抑菌洗涤剂配方

Bacteria control detergent composition：日JP 2011236293[专]/ Arch Chemicals Japan, Inc.(Nakanishi, Mutsumi; Sakata,Kazuhiko)－2011.11.24－7页.－JP 2010-107425（20100507）

本专利提供抑菌洗涤剂配方，改变洗涤剂颜色不会延长洗手间卫生清洁，但是在洗手间里抑菌型洗涤剂可以在细菌控制方面有效果。抑菌洗涤剂配方含香精、一种表面活性剂和一个双胍型杀菌剂，作为专用洗手间用抑菌洗涤剂含过氧化氢和它的金属盐、过氧酸和至少一种过氧酸化合物，并且其基团含金属螯合剂在配方中作防锈剂使用。

含可水解聚合物和胺羧基螯合剂的提高去污性能的洗涤剂配方

Cleaning composition with improved stain removal

containing hydrolyzable polymers and aminocarboxylate chelants：瑞士WO 2011144699[专]/ Dequest AG (Leonard,Isabelle; Kochowski, Valerie;Bonnechere - Delstanche,Genevieve; Henry, Olivier)－2011.11.24－26页.－WO2011-EP58154（20110519）

本专利提供一种可提高污垢去除的洗涤剂配方。配方包含一个可水解分散的聚合物和一个或更多个可生物降解的胺羧基螯合剂。

用于清洗电子产品部件的非碱金属双子表面活性剂洗涤剂

Alkali metal-free gemini surfactants, detergents containing them, and their use for cleaning of electronic materials or components：日JP 2007262262 [专]/ Sanyo Chemical Industries, Ltd.(Sakurai, Kenichi; Suzuki,Kazumichi.)－2007.10. 11－31页.－JP 2006-90080（20060329）

本专利技术提供的双子表面活性剂由盐形成，其盐通过酸中和得到，组成为（A）2个或3个疏水基团，2个亲水基团，1个连接基团和胺（B）热量变化（Q）值为10-152千卡/摩尔。此双子表面活性剂洗涤剂用于电子材料或部件的清洗，例如，液晶面板基板或半导体元件。此洗涤剂也可能包含有机碱、水溶性的有机溶剂和多元醇。因此，液态的洗涤剂含显示zeta电位-110 mV的3%的4,7 –双辛酰基-4,7 –双氮癸烷基- 1,10 -二磺酸基双- DBU盐，有效去除附在硅晶片上的粒子，表面张力达到28达因/厘米。用于清洗液晶面板的无碱玻璃基板，洗涤前后洗涤剂水的接触角分别为75o和20o。

基板和电子设备的清洗方法和产品

Production method of baseplate washing method and electronic device：日2002164313 [专]/Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (Nagai, Toshihiko.)－2002.06. 07－16页.－2000-357089（20001124）

本专利提供使用旋转设备同时尽可能有效除去污垢清洗基板的产品。在线路系统34（已经形成基板30）形成隔离膜35后，用抗模模式36在隔离膜上做面对面的干法刻蚀，35变成啤酒孔37。然后低速旋转打磨基板30，使啤酒孔37墙体表面能供应清洁液到基板30表面后移走反应产物38（38与基板接触），然后通过交替反复做第2次的旋转洗涤过程，直到不用提供清洗液再一次高速旋转基板30。

用水清洗电子设备基板的清洗设备

Apparatus for washing of electronic device substrate by water：日2002079192 [专]/Dainippon Screen Manufacturing Co., Ltd. (Sato, Masanari; Hirae,Sadao.)－2002.03. 19－6页.－2000-272577（20000908）

本专利清洗基板设备由喷嘴喷射液体来提供，本装置提供液和供气到喷嘴的管道和液体薄雾和溶解气体的设备。液体最好是纯净水，气体是 O3、CO2或 H2，在清洗基板时，纯净水中的气体要保持足够高的浓度，例如清洗液晶显示设备的半导体基板、 玻璃基板。

清洗地板的洗涤剂配方工艺

Process for the manufacture of detergent to clean floors：巴西BR2007005577 [专]/ Da Costa,Cicero Felipe－2011.09.06－6页.－BR 2007-5577（20071220）

本专利提供清洗地板的洗涤剂配方工艺。本配方含有氯胺 T (N-氯-p-对甲苯磺酰甲基亚硝酰胺钠)，它能使洗涤剂产品长时间有效地达到较好的洗涤效果。 洗涤剂配方中含有氯胺 T，磺酸，黄色颜料11,608、香精、甲醛、detex nfc 9 - Renex，氢氧化钠，乙二胺四乙酸二钠和水。

液体洗涤剂配方

Liquid detergent composition：日JP 2011236397 [专]/Sanyo Chemical Industries,Ltd. (Sakaguchi, Yuyaka;Jinbo, Katsuaki; Yamashita,Seiji.)－2011.11.24－7页.－JP 2010-129782（20100607）

本液体洗涤剂专利配方具有良好的洗涤能力和起泡性能。此液体洗涤剂含非离子表面活性剂(A)和一种阴离子表面活性剂(B)。在(A)的化学式中， R1是C8-24的烷基或烯基， A1O和A2O分别是乙氧基和氧丙烯基， m+n是0.5-100，并且m和n二者之一哪个也不是0。

去除氧化铁皮的洗涤剂配方

Detergent composition for scale removal：韩KR 2011125690[专]/ GCH & P, Inc. (Yoo, Yeong Hyo; Kim, Jeom Yong; Park, Seon Gyu.)－2011.11.22－7页.－KR 2010-45179（20100514）

本专利提供的洗涤剂配方包含硫代硫酸盐作为主要成份，并至少含一种有机酸，有机酸从以下酸中选择：抗坏血酸、柠檬酸、己二酸、丁二酸和酒石酸。将氧化铁皮先用含氯的清洁剂清洗之后，再用此洗涤剂洗涤可除去氧化铁。 因此，用基于含氯的清洁剂不可能去除的氧化铁用此洗涤剂可以完全地去除掉。

抽水马桶的清洗方法

Method for washing toilet bowl：日JP2011219645 [专]/Jpn. Kokai Tokkyo Koho (Takano,Katsuyuki; Kogure, Eiichi;Shizuno, Akihito)－2011.11.04－13页.－JP 2010-91185（20100412）

本专利提供一个洗涤马桶方法，包括(1)马桶洗涤剂，马桶洗涤剂含14-64% (a) C14-22聚氧乙烯醚， (b)乙醇和水，并且在25℃黏度为50-3000 mPa • s ；(2)将使用的马桶洗涤剂打开1分钟到3 h用以挥发组分(b)而形成胶凝体，此胶凝比未使用时有更高的黏度； (3)将含组分a和的水喷洒到胶凝上形成洗涤马桶的洗涤液。

商业洗碗机用洗涤剂组分

Detergent compositions for business dishwashers：日JP 2011219527 [专]/ Kao Corp.(Suzuki, Nobuyuki; Saito,Shinya; Yoshikawa, Kiyoaki; Ito,Sumitoshi.)－2011.11. 04－12页.－JP2010-86881（20100405）

本专利提供商业洗碗机用洗涤剂组分，含 (a)≥1含量的硅酸盐或碳酸盐 (b) 有机酸碱性金属盐， (c) (C1)聚(丙烯酸) (盐)和(C2)顺丁烯二酸共聚物(盐)，C1/C2比率为98/2-55/45，(d)氯型漂白剂组分，可选择 (e)非离子表面活性剂和可选择(f)≥1的硫酸盐或硝酸盐。 洗涤剂能防止食物或饮料上颜色使盘子造成的褪色问题。 因此，洗涤剂组分含硅酸钠、碳酸钠、碳酸钾、柠檬酸盐、Sokalan PA 25CL [多(丙烯酸) Na盐]，丙烯酸-苹果酸共聚钠盐、二异氯异氰酸酯钠盐、Pluronic RPE 2520 (乙烯氧化物丙烯氧化物嵌段共聚物)和硫酸钠。此洗涤剂对有效去除蛋黄污垢达到90%和对去除茶污垢显示了良好的洗涤效率。

清洗半导体芯片检测器的洗涤方法

Method for washing monitoring bare wafer of semiconductor device：韩KR 2008043591 [专]/ Hynix Semiconductor, Inc. (Kim,Dong Ju.)－2008.05. 19－6页.－KR2006-112326（20061114）

本发明的洗涤方法包括：（1）用磺酸及双氧水混合溶液清洗芯片表面，(2) 在芯片表面用蚀刻剂蚀刻化学氧化物膜，（3）用氢氧化铵和双氧水清洗芯片表面，（4） 用臭氧水洗涤芯片表面除去化学氧化膜、 有机膜和粒子。此洗涤技术不但可以延长监测器芯片的寿命，而且可以防止监测器芯片被污染，还可以减小监测器芯片表面粗糙度。因此，可以提高工作效率。

用于清洗电子产品金属部件的碱性洗涤剂

Alkali washing solutions for metal parts in manufacture of electronic devices：日JP 2008007620 [专]/ Nagase Chemtex Corp., Japan; Yushiro Chemical Industry Co., Ltd.(Yasue, Hidekuni; Nishijima,Yoshitaka; Sakate, Koji; Takao,Masanori.)－2008.01. 17－10页.－JP 2006-179191（20060629）

溶液包括H2O、 碱剂、 水溶性有机溶剂和硅烷 XnYmSi (OR) 4-n-m (n，m = 0-3； n + m = 0-3 ；X = 氨基，环氧基， SH，CO2H，OH,烃基包括C=C不饱和键，Y，R = 烷基 C1-4）。溶液对于去除聚酰亚胺薄膜或金属零件光致抗蚀剂残余很有用。因此，使用如下的碱性溶液能完全去除玻璃基板上的聚酰亚胺薄膜，即组成为四乙基硅烷 1%、四甲基氢氧化铵2%、三乙醇胺 41%、二甲基亚砜 50%和水 6%。在70℃将铝板浸在此溶液中24小时进行测试实验，结果显示重量减少0.2 %而没有氢气产生。

清洗大面积基板的干洗设备和方法

Apparatus with dry cleaning module and method for washing large-area substrate：韩KR 764036 [专]/ KC Tech Co.,Ltd. (Kim, Jeong Ha.)－2007.10.05－10页.－KR 2006-18441（20060224）

本专利装置包含一个通过真空吸附的基板夹盘，一个基板支撑，此支撑用于从基板底下装载/卸载基板，和一个常压下等离子体处理去除基板表面有机物，利用超声振动分解并去除粒子的干洗设备，一个输送机用于输送干洗设备。干洗设备含有三部分，一是常压等离子处理单元用于除去粘附在基板上的有机物粒子，二是一个压缩空气单元通过喷嘴喷射高压气体到基板上减少粒子与基板的粘附力，三是超声波产生单元，利用抽真空单元除去基板上分离的粒子。本专利技术包括以下几个步骤：（1）喷射常压等离子体到大面积的基板上除去有机物。（2）摆动基板分离粒子和（3）通过真空单元除去分离的粒子。该方法改善了洗涤效果。

含枯草杆菌蛋白酶GG36变体的自动洗碗机洗涤剂

Automatic dishwashing detergents containing Bacillus lentus subtilisin GG36 variant：美WO 2011130076[专]/ The Procter & Gamble Company(Souter, Phillip Frank; Ward, Glenn Steven)－2011.10.20－44页.－WO2011-US31378（20110406）

本发明提供一种含枯草杆菌蛋白酶GG36变体的自动洗碗机洗涤剂组份及制造和使用方法。 该洗涤剂配方含改进的蛋白酶、淀粉酶或脂肪酶。蛋白酶包括枯草杆菌蛋白酶GG36变体PX4和PX5。自动洗碗机洗涤剂提供改进的清洁和精整效果并且防止沙粒形成。在低温下它也能提供优良清洁和精整效果，并且在能量和原料方面考虑是环境友好的产品。

使用低浓度的臭氧水清洗电子材料的方法

Washing method of electronic material using low-concentration ozone water：日2002231677[专]/ Kurita Water Industries, Ltd.(Ida, Junichi; Morita, Hiroshi.)－2002.08. 16－7页.－2001-23515（20010131）

本专利提供的用浓度5-50 mg/L的臭氧水清洗电子材料的方法具有有效的特点。清洗条件满足c+t≥45，c=臭氧的浓度(mg/L)，t=温度（℃）。在30℃中使用15mg/L的臭氧水可以有效的去除硅晶片上的指纹。

干燥的非接触式悬浮装置清洗电子其产品组件

Washing of electronic component component or dry noncontact type levitation device：日JP2002273355 [专]/NAME NOT TRANSLATED(Yamaguchi, Kiyohisa; Kono,Kenji.)－2002.09. 24－5页.－JP2001-123614（20010315）

半导体集成线路板和芯片是电子基本组件，液晶玻璃基板和其它控制板等显露在外面的部件，它们这些组件的洗涤采用干燥的非接触式悬浮装置。电子组件的液体洗涤或干燥的非接触式悬浮设备使用多孔玻璃基板1，其密封由密封套4来完成，密封套4由多孔玻璃基板形成组成侧截面用于安全地冲洗外可能在表面进行非接触干燥。